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| 沿革 | ２ 【沿革】 当社は、1990年に茨城県龍ケ崎市向陽台において操業を開始した、日立テクノエンジニアリング株式会社（現株式会社日立製作所）竜ヶ崎工場をその母体としております。 同社は2013年に株式会社日立製作所に吸収合併されましたが、竜ヶ崎工場は、合併後も液晶パネル製造設備、有機ＥＬパネル製造設備、実装・マイクロボール関連製造設備（半導体関連応用設備）等の事業を手掛けてまいりました。 その後株式会社日立製作所は、パネルの高精細化やデジタル機器の高機能化・小型化が急速に進展するなど市場環境の変化が激しさを増していく中において、お客様のニーズに応えつつ、さらなるシェアの拡大や安定的な収益の確保、コア技術の活用やパートナリングを通じた新事業創出を図っていくためには、より一層のスピーディーな運営が可能な事業体制の構築や経営効率の向上が必要と判断し、液晶パネル等製造設備事業の分社化を決定しました。 2016年７月、同社は新設分割によって当社（ＡＩメカテック株式会社）を設立し、液晶パネル等製造設備事業を移管するとともに、当社の株式の大半をポラリス・キャピタル・グループ株式会社（※）が新たに設立した会社（ヒューストン・ホールディングス株式会社）に譲渡しました。 ＡＩメカテック株式会社設立以後の企業集団に係る経緯は、次の（1）のとおりであります。 （※）ポラリス・キャピタル・グループ株式会社は、企業の事業再編・再構築を支援するプライベートエクイティ（未公開株）ファンド運営会社です。 （1）当社の企業集団に係る経緯年月概要2016年７月株式会社日立製作所は液晶パネル等製造設備事業を新設分割により分社し、茨城県龍ケ崎市向陽台にＡＩメカテック株式会社（資本金450百万円）を設立。 当社株式の大半をヒューストン・ホールディングス株式会社（2016年３月設立）に譲渡。 2016年９月子会社南京日立科技有限公司（中華人民共和国江蘇省南京市）を、南京新創機電科技有限公司に商号変更。 2017年７月当社がヒューストン・ホールディングス株式会社を吸収合併し、ヒューストン・ホールディングス株式会社は消滅、当社が存続会社となる。 当社株式は、ヒューストン・ホールディングス株式会社の株主であった、ポラリス第三号投資事業有限責任組合及びTiara CG Private Equity Fund 2013, L. P.が保有。 2018年７月新プロセス、新材料の開発をより効果的にサポートすることを目的にプロセス開発センタを開設。 2021年７月東京証券取引所市場第二部に株式を上場。 ポラリス第三号投資事業有限責任組合及びTiara CG Private Equity Fund 2013, L. P.がそれぞれ保有する当社株式の一部を売出し。 2022年４月東京証券取引所の市場区分の見直しにより、市場第二部からスタンダード市場に移行。 2022年９月ポラリス第三号投資事業有限責任組合及びTiara CG Private Equity Fund 2013, L. P.がそれぞれ保有する当社株式のすべてが東京応化工業株式会社（東京証券取引所プライム市場上場）及びJUKI株式会社（東京証券取引所プライム市場上場）に同数ずつ譲渡されたことに伴い、主要株主である筆頭株主が異動し、東京応化工業株式会社（現 主要株主である筆頭株主）及びJUKI株式会社がその他の関係会社となる。 2023年３月東京応化工業株式会社が、その半導体用・ディスプレイ用装置製造事業を吸収分割により承継させたプロセス機器事業分割準備株式会社につき、同日付でその全株式を取得し連結子会社としたうえ、吸収合併。 2023年７月株式会社オプトラン（東京証券取引所プライム市場上場）との共同出資により、光学製品への精密加工装置の開発、製造、販売を目的にナノリソティックス株式会社（現 持分法適用会社）を設立。 2024年３月みずほ証券を割当先とした第三者割当による行使価額修正条項付第３回新株予約権（停止指定条項付）を発行。 2024年12月第３回新株予約権すべての権利行使により、資本金は1,620百万円に。 2025年２月JUKI株式会社が保有する当社株式のすべてが株式会社オプトランに譲渡されたことに伴い、主要株主である筆頭株主が異動し、株式会社オプトラン（現 主要株主である筆頭株主）がその他の関係会社となる。 （注）１．2016年７月、株式会社日立製作所からの新設分割による当社設立に際し、子会社南京日立科技有限公司の株式を承継しております。 ２．ポラリス第三号投資事業有限責任組合は、ポラリス・キャピタル・グループ株式会社が組成した国内投資ファンドです。 Tiara CG Private Equity Fund 2013, L. P.は、ポラリス・キャピタル・グループ株式会社が実質的に組成した海外投資ファンドです。 （2）当社設立（2016年７月）までの主な事業の変遷年月概要1990年３月日立テクノエンジニアリング株式会社が、茨城県龍ケ崎市において電子部品製造設備の製造・販売を目的として竜ヶ崎工場を操業。 2001年10月日立テクノエンジニアリング株式会社が株式会社日立製作所 土浦工場を会社分割により承継し、株式会社日立インダストリイズ発足。 2001年12月中国南京熊猫電子有限公司（PANDA）との合弁により汎用印刷機を製造・販売する南京熊猫日立科技有限公司を設立。 2006年４月株式会社日立製作所（産業プラント部門）、日立プラント建設株式会社、株式会社日立インダストリイズ、日立機電工業株式会社が統合し、株式会社日立プラントテクノロジー発足。 2007年４月中国南京熊猫電子有限公司（PANDA）との合弁を解消し100%独資による南京日立科技有限公司へ社名変更。 2013年４月株式会社日立製作所と株式会社日立プラントテクノロジーが合併、株式会社日立製作所 インフラシステム社 メカトロニクス事業本部を設立。 （注）液晶パネル等製造装置事業は、2013年４月に設立された株式会社日立製作所 インフラシステム社 メカトロニクス事業本部内の一事業部であります。 |
| 事業の内容 | ３ 【事業の内容】 当社グループは、当社と連結子会社１社及び関連会社１社で構成されており、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）・光学系デバイス（※1）製造装置や半導体パッケージ製造装置の開発・製造・販売及びアフターサービスを行っております。 （※1）光学系デバイス：ウェーブガイド等、光を利用して情報を伝達・処理する機能を持つ部品・装置の総称です。 当社グループの事業における当社及び関係会社の位置付けは、次のとおりであります。 なお、以下に示す区分は、セグメントと同一の区分であります。 （半導体関連事業）半導体パッケージ（※1）製造過程に用いられる、はんだボールマウンタ装置、ウエハレベルパッケージ向けテンポラリーボンダー装置・デボンダー装置（ＷＬＰ向けＴＢ／ＤＢ）や、半導体回路形成過程に用いられるＵＶ装置とエッチング・アッシング装置等の開発・製造・販売及びアフターサービスを行っております。 （※1）半導体パッケージ：ＩＣチップに電源を供給、衝撃・湿気・ほこり等外部環境から保護、及びＩＣチップの放熱等を行うものであり、ＩＣチップの能力を最大限に引き出す役割を果たしています。 １．はんだボールマウンタ装置ボール搭載技術とリペア技術を応用し、高歩留まりの量産設備を提供しております。 今後更なる高機能・小型化・薄型化が要求される半導体関連の応用設備であります。 ２．ＷＬＰ向けＴＢ／ＤＢ半導体ウエハを、ガラスキャリアに貼り合わせ分離する技術を応用し、ウエハ研磨・薄板化加工過程に必要な装置を提供しております。 今後、更なる高機能・薄型化・積層化が要求される先端半導体パッケージ製造関連の応用設備であります。 ３．ＵＶ装置とエッチング・アッシング装置ＵＶ装置は、ＵＶ照射技術を応用し、回路形成に必要なレジストを硬化（安定化）する装置です。 また、エッチング・アッシング装置は、プラズマ技術を応用し、ウエハの溝加工（エッチング処理）による回路形成、レジストの除去（アッシング処理）をする装置です。 いずれも、パワー半導体関連の応用設備であります。 （主な関係会社）当社、南京新創機電科技有限公司 （ＩＪＰソリューション事業）ＩＪＰ（インクジェット・プリンティング）応用分野、ＮＩＰ（ナノインプリント）応用分野、フィルム応用分野の研究開発成果を製品に展開し、先端のプロセスと設備を提案しております。 １．ＩＪＰ応用分野マイクロディスプレイ等次世代ディスプレイ量産化向けを始め、ＩＪＰ技術を応用したプロセスと設備の提案を行っております。 ＩＪＰ技術は、微小な液滴を対象物に非接触でダイレクトに塗布、印刷する技術で、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に代わる有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）や量子ドットディスプレイ（ＱＤ）、マイクロディスプレイ（ＯＬＥＤoＳ、μＬＥＤoＳ）等次世代プレミアム・ディスプレイの製造に用いられるほか、必要な量を必要な場所に塗布できることからローコスト・プロセスの実現に繋がる等様々な分野での利用が期待されています。 ２．ＮＩＰ応用分野スマートグラス等次世代コミュニケーションツール量産化向けを始め、ＮＩＰ技術を応用したプロセスと設備の提案を行っております。 ＮＩＰ技術は、様々な基板上に塗布した樹脂膜に凸凹構造をもった型をプレスし、ナノメートルレベルの微細パターンを転写する技術で、有機ＥＬディスプレイ上の膜形成、スマートグラス用ウェーブガイド（※1）形成等、多様な用途での利用が期待されています。 （※1）ウェーブガイド：現実世界に融合するデジタル映像の視認を可能にする導光板の構造です。 ３．フィルム応用分野フレキシブルデバイス（※1）やデジタルサイネージ（※2）に向けたプロセスと設備の提案を行っております。 （※1）フレキシブルデバイス：薄くて柔軟性のある新たな素材を用いたエレクトロニクス製品の総称です。 （※2）デジタルサイネージ：ディスプレイ等の電子的な表示機器を用いて情報発信するメディアの総称です。 （主な関係会社）当社、ナノリソティックス株式会社 （ＬＣＤ事業）テレビやスマートフォン等の液晶ディスプレイパネル生産工程で使われるシール塗布装置、液晶滴下装置、真空貼合せ装置等の開発・製造・販売及びアフターサービスを行っております。 １．シール塗布装置細線塗布技術を応用し、対象となる基板上にシール剤（接着剤）を高速・高精度に塗布する装置であります。 ２．液晶滴下装置微量ＩＪＰ塗布技術を応用し、液晶剤をパネルに高精度に塗布する装置であります。 ３．真空貼合せ装置高精度貼合せ技術を応用し、真空中で２枚のガラス基板の間に液晶を封じ込めるための装置であります。 （主な関係会社）当社、南京新創機電科技有限公司 事業の系統図は、次のとおりであります。 （注）南京新創機電科技有限公司は連結子会社であり、ナノリソティックス株式会社は持分法適用関連会社であります。 |
| 関係会社の状況 | ４ 【関係会社の状況】 名称住所資本金(百万円)主要な事業の内容（注１）議決権の所有(又は被所有)割合(％)関係内容（連結子会社） 南京新創機電科技有限公司（注２、３）中華人民共和国江蘇省南京市385半導体関連事業ＬＣＤ事業100.0当社のＬＣＤ関連設備等の部品・消耗品の販売及びセットアップや検査の支援を行っております。 （持分法適用関連会社） ナノリソティックス株式会社（注３）埼玉県鶴ヶ島市170ＩＪＰソリューション事業29.4光学製品・精密加工装置を共同で開発しております。 また、役員の兼任があります。 （その他の関係会社） 東京応化工業株式会社（注４）神奈川県川崎市14,640材料事業(17.6)協業に関する基本契約を締結し、両社の事業拡大に向け協力、補完する関係です。 また、当社の主要株主であり、取締役の派遣を受入れております。 株式会社オプトラン（注４）埼玉県鶴ヶ島市400成膜装置事業(17.6)資本業務提携契約を締結し、両社の事業拡大に向け、協業する関係です。 また、当社の主要株主であり、取締役の派遣を受入れております。 （注５） （注） １．「主要な事業の内容」欄には、セグメント情報に記載された名称を記載しております。 ２．特定子会社であります。 ３．有価証券届出書又は有価証券報告書を提出しておりません。 ４．有価証券届出書又は有価証券報告書の提出会社であります。 ５．2026年９月25日開催予定の第10期定時株主総会終結の時をもって、取締役の派遣受入れはなくなる予定となります。 |
| 従業員の状況 | (2) 【従業員の状況】 (1) 連結会社の状況 2026年６月30日現在セグメントの名称従業員数(名)ＩＪＰソリューション事業39半導体関連事業130ＬＣＤ事業41全社(共通)39合計249 (注)１．従業員数は、就業人員数であります。 なお、派遣社員は除いております。 また、臨時従業員数は、従業員の100分の10未満であるため、記載を省略しております。 ２．休職者及び非常勤社員(契約社員)は含めておりません。 ３．全社(共通)は、法務・財務・総務等の管理部門の従業員等の数であります。 (2) 提出会社の状況 2026年６月30日現在従業員数(名)平均年齢(歳)平均勤続年数(年)平均年間給与(千円)平均年間給与の対前事業年度増減率(％)21945.816.97,65610.3 セグメントの名称従業員数(名)ＩＪＰソリューション事業31半導体関連事業127ＬＣＤ事業22全社(共通)39合計219 (注)１．従業員数は、就業人員数であります。 なお、派遣社員は除いております。 また、臨時従業員数は、従業員の100分の10未満であるため、記載を省略しております。 ２．休職者及び非常勤社員(契約社員)は含めておりません。 ３．平均勤続年数は、当社新設分割に係る分割元会社での勤続年数も含めております。 ４．全社(共通)は、法務・財務・総務等の管理部門の従業員等の数であります。 ５．平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。 (3) 労働組合の状況当社には、2016年７月に結成されたＡＩメカテック労働組合があります。 2026年６月30日現在の組合員数は120名であります。 なお、労使関係については円滑な関係にあり、特記すべき事項はありません。 (4) 管理的地位にある労働者に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休業取得率及び労働者の男女の賃金の額の差異①提出会社当事業年度管理的地位にある労働者に占める女性労働者の割合（％）（注）１．男性労働者の育児休業取得率（％）（注）２．労働者の男女の賃金の額の差異（％）（注）１．全労働者正規雇用労働者有期雇用労働者3.710062.263.667.1 (注)１．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（平成27年法律第64号）の規定に基づき算出したものであります。 ２．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を労働者の福祉に関する法律」（平成３年法律第76号）の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」（平成３年労働省第25号）第71条の６第１号における育児休業等の取得割合を算出したものであります。 ②連結子会社連結子会社は、「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（平成27年法律第64号）及び「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」（平成３年法律第76号）の規定による公表義務の対象ではないため、記載を省略しております。 |
| 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等 | １ 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において、当社グループが判断したものであります。 (1）経営方針・経営戦略等①企業理念「先進・革新技術で未来を創造」Create the Next by Advanced and Innovative technologies先進・革新技術により、人々がより便利に、より豊かに生活する社会の実現に貢献いたします。 ②目標当社グループは、「先進・革新技術で未来を創造」という企業理念のもと、以下の姿を目指してまいります。 ・お客様に、確かなソリューション提供力を評価・支持され、新たな取り組みにあたり、常に１番に声がかかる会社・半導体、光学デバイス分野におけるグローバルニッチトップの会社・従業員がプライドを持って能動的に働き、自らの成長、仲間の成長を実感できる会社・人々の生活を、より安全・安心・便利で豊かにすることで、社会に貢献し続ける会社 ③経営方針(a) お客様の要望を迅速に具体化し、他に先んじて高品質な製品を提供する、不断のモノづくり力強化(b) 半導体・光学系デバイス分野の技術革新を捉え、お客様や事業パートナーとともに、当社コア技術を活かし、社会に求められる新たな用途、事業領域を開拓(c) きめ細かなＬＣＳ（ライフサイクルサポート）活動によるお客様の満足度向上 ④経営戦略当社グループは、上記の経営方針のもと、デジタル化社会への移行を支える半導体やＦＰＤ・光学系デバイスの製造に不可欠な高品質の製品・サービスをお客様にお届けすべく、時代の先を見据えた事業展開を考え、お客様のニーズ具現化に最も適した材料・装置・プロセスを一体不可分なソリューションとして提供し、それを梃子にお客様の新たな取り組みに参画し続けることで、新たな市場創出や他社との差別化に取り組んでまいります。 具体的には、半導体関連分野では、強みのあるＡＩ用先端半導体パッケージ製造装置において、フラッグシップ企業との取引実績や事業パートナーとの協働を梃子に、装置ラインアップ拡充、新製品の開発・投入による市場開拓、ＦＰＤ・光学系デバイス分野では、当社のデファクトスタンダード技術を梃子にした拡販に加え、ＩＪＰ、ＮＩＰ技術応用分野の拡大による新規事業創出等に積極的に取り組み、さらなる事業拡大を図ってまいります。 (2）経営環境及び対処すべき課題 １．経営環境国内外経済は、不安定な中東情勢や気候変動リスクによる資源高・物価高などにより、今後も先行き不透明な状況が続くと思われます。 一方、半導体分野では、生成ＡＩからＡＩエージェント、エッジＡＩの本格的実装に向け、ＡＩ用先端半導体市場は長期的・構造的な成長局面にあると考えられ、同半導体需要の中長期的な拡大見通しを受け、引き続き積極的な設備投資が見込まれます。 また、ＦＰＤ・光学系デバイス分野では、ＬＣＤの大幅な新規投資は見込めないものの、スマートグラス等の量産計画を踏まえた、マイクロディスプレイ向け投資の回復などにより、設備投資は底堅い推移が予想される一方、光電融合など新たな適用領域拡大が期待されます。 中長期的にも、超高速・超低遅延・多数同時接続通信がキーワードとなる超スマート社会に向けた移行の基盤として、先端半導体や次世代ディスプレイ等の需要は一層の拡大が期待されます。 ２．中長期的な成長に向けた取り組み斯かる環境下、当社グループでは、液晶からＯＬＥＤ等のプレミアム・ディスプレイへの流れの中、売上の大幅伸長が望めないＬＣＤ事業については安定的な収益確保を図る一方、今後、事業機会の一層の拡大が期待できる半導体関連事業とＩＪＰソリューション事業に経営資源を投入し、持続的な成長を実現してまいります。 半導体関連事業においては、半導体の微細化・積層化が進む中、一層の需要拡大が見込まれるＡＩ用先端半導体パッケージ向け装置に注力しております。 積層化に必要なウエハ薄板化プロセスに活用されるＷＬＰ向けＴＢ／ＤＢに加え、ＰＬＰ（※１）や、ＨＢＭダイ（※２）向けＴＢ／ＤＢの開発・拡販に取り組みます。 これらに加え、はんだボールマウンタやパワー半導体向け装置も含む多様な製品ラインアップにより、一層の業容拡大に努めてまいります。 （※１）ＰＬＰ（パネルレベルパッケージ）：矩形のパネル基盤上で多数のパッケージ製造を一括で実施することで、従来のウエハレベルとの比較で、パッケージ１個当たりの製造コストを低減する工法です。 （※２）ＨＢＭ（High Bandwidth Memory）ダイ：ＨＢＭは、複数の半導体チップを垂直に積層する３次元スタッキング技術を使用し、非常に高い帯域幅(データ転送速度)を持つ先端メモリです。 ダイは積層されるチップを指します。 ＩＪＰソリューション事業においては、これまで培ってきた微細塗布や高精度位置合わせのコア技術により開発した、ＯＬＥＤoＳ、μＬＥＤoＳ等のマイクロディスプレイ向け装置の拡販に注力しております。 また、当社が有するナノメートルレベルの微細加工が可能なＮＩＰ技術、インクジェット方式パターニング塗布のＩＪＰ技術を活用し、新たなコミュニケーションツール向けの光学系デバイス加工システムやシリコンフォトニクス半導体向けシステムなど、新規事業創出を目指してまいります。 ＬＣＤ事業は、新規の大口設備投資需要は望めませんが、取引先の既存設備の改造・リプレース等のニーズは継続しております。 当社には、多くの納入実績に加え、ＬＣＳ活動により築き上げた顧客との信頼関係があり、今後も安定した売上の確保を目指してまいります。 アフターサービスは装置本体よりも採算性が良く、収益面でも一定の貢献が期待できると考えております。 当社グループは、これらの取り組みをより具体化しありたい姿の実現に向けた第一歩として、中期経営計画（2026年６月期から2028年６月期）を策定しております。 尚、上述の経営環境のもと、半導体分野において、ＡＩ用先端半導体パッケージ向けＴＢ／ＤＢ等が策定時の想定を上回る売上水準で推移する見込みであることから、2026年６月期実績も踏まえ、当該中期経営計画に掲げるテーマ及び期間目標等の見直しを行いました。 概要は次のとおりです。 （a）今次中期経営計画のテーマ「グローバルニッチトップのポジション確立と、売上高450億円・営業利益率20％・ＲＯＥ30％以上の達成」※上記の見直しを行っています。 （b）基本戦略① 持続的成長・Ａ－ＰＩ戦略（※１）によるお客様との協創・フラッグシップ企業との取引によるブランド力向上・新たなお客様への拡販・新市場創出・プロセスサポート・ＬＣＳによるリレーション強化（※１）Ａ－ＰＩ（Advanced Process Integration）戦略：お客様のニーズ具現化に最も適した材料・装置・プロセスを、一体不可分なソリューションとして提供してまいります。 それを梯子に新規プロジェクトに参画し、新たな市場創出・差別化による装置拡販に繋げる戦略です。 ② 収益力向上・新工場稼働などによる生産能力向上・新業務システム導入などによる生産性・業務効率向上・リードタイム短縮などによる収益性向上・ＣＣＣ（キャッシュ・コンバージョン・サイクル）短縮など資産効率向上 ③ サステナブル経営推進・事業を通じた社会問題解決（気候変動への対応/ダイバーシティ等への取組みなど）・利益創出に向けた基盤強化（ガバナンスの強化/人的資本の活性化など） （c）今次中期経営計画の期間目標① 定性目標・グローバルニッチトップのポジション確立・次なる成長ドライバー事業の創出・持続的成長の基礎となる収益力向上・持続的成長を支える経営基盤整備・持続的成長を牽引する人財活性化 ② 定量目標 2026年６月期（実績）2028年６月期（最終年度）売上高352億円450億円営業利益58億円90億円営業利益率16.5％20％ＲＯＥ28.1％30％以上 ※上記の見直しを行っています。 ※上記に記載されている戦略、目標等の将来に関する記述は、当社が現在入手している情報及び合理的であると判断する一定の前提に基づいており、実際の業績等は様々な要因により大きく異なる可能性があります。 ３．開発方針当社は、お客様に信頼・支持されるグローバル企業、先進・革新技術により製造装置分野で性能・品質世界一を目指しております。 2018年７月に開設したプロセス開発センタ、2025年12月に竣工した新工場建屋内のクリーンルームなどの活用により、さらには大学の研究者・材料メーカーとの連携を梃子に、当社のコア技術である微細塗布・高精度位置合わせ技術を応用した研究開発に不断に取り組み、時代の先を見据えた装置を上市してまいります。 (3）経営上の目標達成を判断するための客観的な指標等当社グループは、持続的な成長と中長期的な企業価値の向上を図るべく、連結売上高及び連結営業利益・連結営業利益率・自己資本利益率（ＲＯＥ）を重視し、収益力の向上に取り組んでまいります。 |
| サステナビリティに関する考え方及び取組 | ２ 【サステナビリティに関する考え方及び取組】 当社グループは、サステナビリティをめぐる課題への対応が、中長期的な企業価値の向上と持続的な成長のために重要であると認識し、経営理念に基づきサステナビリティ基本方針を定め、環境・社会・ガバナンスの観点から事業活動を推進し、持続可能な社会の実現を目指します。 当社グループのサステナビリティに関する考え方及び取組は、次のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1) サステナビリティ基本方針当社では、サステナビリティを巡る課題への対応を当社の経営課題及び経営戦略の一つとして捉え、経営層による適切なリスクテイクを促進する環境整備として各種社内規程を整備し、意思決定機能と監督機能の強化に取り組んでおります。 加えて、豊富な経験を有する社外取締役を複数名選任し、独立した客観的な立場から実効性の高い監督を行っております。 また、以下の「サステナビリティ基本方針」を策定しております。 この方針に基づき今後具体的な活動を行ってまいります。 ＜サステナビリティ基本方針＞ＡＩメカテックグループは、「先進・革新技術で未来を創造」という経営理念のもと、すべてのステークホルダーとの関係を尊重し、社会や地球環境との調和を図りながら持続的な社会の構築に向け積極的に取り組み、企業価値の向上を目指します。 １．公正な事業活動私たちは、当社の事業活動に適用される全ての法令及びその他の社会規範を遵守し、倫理的な行動基準に基づいて事業活動を行います。 ２．お客さま私たちは、お客さまのニーズを的確に捉えた、高品質で安全性の高い製品やサービスを提供します。 ３．取引先私たちは、「基本と正道」「損得より善悪」の考えのもと、公正、透明、自由な競争並びに取引を実践します。 ４．従業員私たちは、従業員の健康と安全が企業成長の要と考え、従業員一人ひとりの個性を尊重し、その能力・活力を最大限発揮できる職場環境づくりに努めます。 ５．環境私たちは、自ら省エネや廃棄物削減に努めるほか、生産工程の効率化や資源の有効活用に資する製品を開発・提供することで、環境と調和した持続可能な社会の実現に向け取り組みます。 ６．地域社会私たちは、さまざまな国や地域の文化・慣習を尊重し、事業活動や社会貢献活動を通じ、ともに発展・成長することを目指します。 ７．人権私たちは、性別や国籍など個人の属性に関係なく、社会的に弱い立場にある人を含むすべてのステークホルダーの人権を尊重し、差別や個人の尊厳を傷つける行為を行いません。 ８．株主・投資家私たちは、株主や投資家との真摯な対話を通じて、持続的な社会の実現に必要な課題の把握に努め、長期安定的な成長実現による企業価値向上を目指します。 (2) ガバナンス体制2023年６月代表取締役社長を委員長とし、社内取締役及び関連部門の責任者を委員とするサステナビリティ委員会を発足させました。 同委員会は、全社的なサステナビリティ戦略の実行、その進捗管理およびマテリアリティ（重要課題）の決定などを主な役割として担っています。 同委員会は毎年２回の定例開催に加え、必要に応じて臨時開催しています。 サステナビリティ戦略を全社的に推進するため、より専門的・個別的なテーマを扱う「リスク管理委員会」「コンプライアンス推進委員会」とも連携しています。 この２つの委員会は代表取締役社長が委員長を務めています。 また、環境関連の課題に恒常的に取り組むべく設置された組織であるサステナビリティ環境推進グループとも連携しております。 サステナビリティ活動の統制を目的に、同委員会の活動状況を年２回以上取締役会に報告しています。 ＜2026年６月期におけるサステナビリティに関する取締役会審議内容＞開催月議題2025年７月・ＳＤＧｓ評価項目のセルフチェック報告・2025年６月期実績報告・2026年６月期目標策定2026年１月・2026年６月期前期サステナビリティ委員会活動報告・サステナビリティ環境推進グループ活動報告2026年６月・ＳＤＧｓ評価項目のセルフチェック報告 (3) リスク管理会社に物理的、経済的もしくは信用上の損失または不利益を生じさせる不確実性をリスクと定義し、そのリスクの防止および損失の最小化を図ることを目的にリスク管理体制を構築しています。 具体的には、リスク管理の全社的推進とリスク管理に必要な情報の共有化を図るため、代表取締役社長を委員長とするリスク管理委員会を設置し、サステナビリティに関するリスク管理については、「経営リスク管理規程」「コンプライアンス規程」以下各種社内規程を定め、コンプライアンス推進委員会およびリスク管理委員会において、リスクマトリックスを用いた手法等により当社に潜在するリスクを抽出、分析・評価し、その対策を策定しております。 リスク評価については、外部環境、製造・品質、労務、安全衛生、企業倫理、情報セキュリティなどの重要度を発生可能性・頻度の観点から評価しています。 かかるリスクは経営を取り巻く環境変化に応じて随時見直すとともに、重点管理リスクは取締役会に報告しています。 (4) 戦略、指標及び目標当社グループにおいては、「事業を通した社会課題の解決」と「利益創出による成長戦略」という２つのサステナビリティの好循環の実現を目指し、持続的な企業価値向上に繋げていきます。 ① 事業を通じた社会課題解決への貢献事業活動を通じたマテリアリティの展開により社会課題の解決に貢献し、人々の豊かな社会の実現と企業価値の向上を目指します。 マテリアリティリスク（●）と機会（〇）2030年のありたい姿2025年期度目標と実績2026年度目標■最先端技術の開発・イノベーションの創出●新技術の参入による既存技術の価値低下〇技術開発促進による競争優位性の確保・先進および革新技術により豊かで夢あふれる未来の共創・携帯機器等に適用される光学製品向け精密加工システムの確立と拡販⇒実績なし・Ultra Low TTV Bondingを実現し、HBM分野のTBDBへ参入■環境調和型製品の開発・提供による脱炭素社会への貢献●開発および製造コストの増加〇環境配慮志向の高まりに伴う新市場の拡大・エネルギー効率、省エネ化を促進する事業の拡大・省エネに貢献するパワー半導体の製造用プラズマアッシャー装置、エッチャー装置、ＵＶ装置の拡販⇒2025年度売上実績約６億円・ペロブスカイト太陽電池製造ラインの拡販■気候変動への対応 ●気候変動に伴う異常気象や自然災害●廃棄物の増大によるレピュテーションリスク〇気候変動対策によるCO2排出削減、設備運用コスト低減・環境方針の遵守・工場の省エネ化・再生可能エネルギーの使用・自然資本への影響の最小限化・サステナビリティ環境推進グループの新設による体制強化⇒Scope1・2の排出量算定とモニタリング体制の構築・増設する第二工場での太陽光発電設備の設置と稼働⇒2026年度で設置予定・省力化設備の導入検討(第二工場の機械設備等)⇒真空ポンプのインバータタイプ導入・社員教育(気候変動リスクの基礎 他)⇒ISO内部監査においてリスク及び機会特定シートにて気候変動に関するリスクを各部確認・工場・出荷現場での熱中症対策に向けた各種整備⇒出荷対応作業者への空調服支給及び塩飴やタブレットの常備対応・Scope3の算定、SBTi申請準備 ・サステナブルアンケートによるサプライチェーンの状況把握 ・Co2削減意識を高めるための研修実施 ・省エネ改善提案制度の導入 ・増設する第二工場での太陽光発電設備の設置 ・生物多様性についての取組み ・ISO委員会と連動した環境分科会の開催■地球環境の保全・環境負荷の低減 ●天候異常や生態系破壊による資源の枯渇〇廃棄物の再資源化によるコスト削減・産業廃棄物の排出削減・水資源の循環運用・化学物質管理の徹底⇒使用化学物質のSDS確認徹底・水資源循環機能付装置導入（第二工場でのチラー設備3台導入水量70％削減）⇒チラー導入による井水排出量40%削減・産業廃棄物の排出量削減 ・水排出量削減 ・科学物質管理の徹底■ダイバーシティ、エクイティ、インクルージョン ●人権問題発生による信頼の損失、事業への影響〇人権への配慮、環境改善に伴う社内外における信用の高まり・多様で公平な運営を通じた社会貢献・女性管理職比率10％以上・女性社員年2名以上、3年間で6名以上の採用目標⇒2025年度は女性採用1名・男性育児休業取得60％以上維持、長期間の休業取得を促進⇒100%・海外人財の正社員採用促進⇒契約社員採用1名・定年後の多様な働き方を選択できるようにするための土台づくり⇒技能伝承にウエイトを置いたシニア社員処遇水準の設定・女性社員年2名以上3年間で6名以上の採用目標 ・女性管理職候補である総合職の育成 ・外国人採用の促進 ② 利益創出に向けた経営基盤の強化事業活動を根底で支える経営基盤を強化し企業価値の向上へ結び付けていきます。 マテリアリティリスク（●）と機会（〇）2030年のありたい姿2025年度目標と実績2026年度目標■サプライチェーンのマネジメントの構築●環境と人権リスク●原材料の調達リスク●原材料の価格変動リスク〇安定的な仕入れによる納期厳守・サプライチェーン全体における人権尊重・人権デューデリジェンスアンケート実施⇒対象取引先アンケート配布/回収済(2026/２月)・改正下請法への対応⇒対象取引先対応済(2026/１月)・生産拡大対応への取り組み⇒取引先とのWEB-EDI化導入に向けた活動推進■ガバナンスの 強化●コンプライアンス意識低下による腐敗●不適切な対応によるステークホルダーからの信頼低下〇コンプライアンス意識や高い倫理観の醸成による会社に対する信頼性の向上〇ステークホルダーへの適切な情報開示による信頼獲得 ・柔軟性と強靭性を持ったリスク管理・コンプライアンス体制の強化による重大違反事例ゼロ・取締役会の実効性強化・任意の指名・報酬委員会によるガバナンス体制強化・多様な経営人財の育成・実効的なリスク・コンプライアンス委員会による重要リスクの把握と対策⇒委員会に輸出管理や環境の担当者も同席し、具体的な取組み内容を報告・コンプライアンス研修受講 １回/人以上⇒全役員・従業員対象に、機密情報管理研修、インサイダー取引防止研修を実施・社外役員協議会の活性化 (重要案件の事前情報共有、次世代幹部候補との面談)⇒１月、６月に社外役員協議会を実施し、部長職から業務の状況や課題等の報告を行い、会社の実情を社外役員とも共有・経営幹部候補への教育の充実化⇒コンプライアンスに関する体系的な研修プログラムを策定・より実効的なリスク・コンプライアンス委員会による重要リスクの把握と対策 ・英文開示や個人向けIRによる情報発信の充実 ・取締役会への報告の徹底及び提供情報の充実を通じた監督機能の強化 ・コンプライアンスに関する体系的な研修プログラムに基づく研修の実施■人的資本の活性化■心身の安全衛生 ●人財流出●心理的安全性の欠如によるモチベーションの低下〇社員の健康維持、人財および働き方の多様化、人財育成による生産性向上とイノベーションの促進〇働きやすく働きがいのある会社の実現・自分への期待を高め、生き生きと力を発揮できる職場の実現（採用・教育）従業員満足度75%以上・安全な環境の構築大規模事故・災害ゼロ・従業員の幸せ・健康寿命の伸長健康経営優良法人「ブライト500」の取得・社員教育費用のコンスタントな増額による教育レベルアップ⇒25年度実績321万円昨年比49万円増額・部門別の必要資格取得に向けた補助制度拡充(カフェテリアプランの活用検討)⇒(経営)付議取り消しにより一旦中止。 研修受講へのシフト。 ・従業員満足度調査からエンゲージメント調査へのレベルアップ⇒エンゲージメントサーベイの実施・健康経営優良法人「ネクストブライト1000」取得に向けた体制整備⇒健康経営のPDCAに関する取組み強化を目的に、サントリー自販機の導入・階層別、職種別研修の充実化と人的資本経営を意識した教育投資 ・時流に沿ったテーマ研修 AI集中研修 他 ・従業員満足度調査とエンゲージメントサーベイの継続実施による、適正な職場環境構築 ・健康経営優良法人「ネクストブライト1000」取得に向けた施策の実現■持続可能な知財戦略 ●当社技術の模倣●他社権利の侵害〇開発製品の競争力強化・イノベーション創出に向けた推進・開発人財の育成強化知財報奨率(報奨該当者率)75％以上・先進装置における知財活用推進⇒製品競争力を支える知財基盤整備を継続中・開発人財育成⇒発明テーマを設定して人財育成ツールに活用中・知財報奨率60%以上⇒50%未達・知財基盤の拡充 ・発明プロセスを活かした人財育成を推進 ・報奨該当者率60%以上 (5) 人財の多様性の確保を含む人財育成方針及び社内環境整備方針当社が持続的に成長していくためには、人財は重要かつ不可欠な経営資本であると考えております。 この考え方のもと、当社グループにおける、人財の多様性の確保を含む人財育成方針及び社内環境整備方針を以下のとおり定めております。 ＜人財育成方針＞当社は、経営理念である「先進・革新技術で未来を創造」を実践することにより、持続可能な社会の実現に貢献してまいります。 この活動を通じてグローバルなニッチ分野においてトップ企業であることを目指します。 そのため、グローバルなマーケットで幅広く活躍するための高度な専門性と技術を持つ人財の採用と育成に努め、性別や年齢を問わず公平な挑戦と活躍の機会を提供します。 ○求められる人財像・社会・顧客の動向にセンシティブな人財・国・場所を超えて課題にチャレンジする人財・高いインテグリティ（誠実さ・真摯さ）を持って行動できる人財 ＜社内環境整備方針＞○支援自発的に学び挑戦する人に対し、社内外の教育研修のほか、適格な成長の機会を提供します。 ○評価適切な目標設定と、上席者からの細やかなサポートやフィードバックを行い、チャレンジ精神を持って成果を出した人が公正に評価される仕組みを整えます。 ○成果報酬実現した成果ならびにチャレンジのプロセスに対しては、透明性のある評価にもとづき公正に報います。 ○健康と安全社員の安全と健康に留意し、職場内のコミュニケーションを活性化させ、働き甲斐のある職場環境の整備に努めます。 ＜当社の教育体系＞当社は、人財育成方針及び社内環境整備方針に沿って、高度な専門性と技術を持つ人財を育成し、自発的に学びに挑戦する従業員に対しては適切な成長の機会を提供するべく、以下の教育体系に基づき、教育・研修を行っております。 当事業年度は103講座に延べ453名が参加しました。 (6) 人財育成方針及び社内環境整備方針における指標及び目標当社グループでは、上記「(5)人財の多様性の確保を含む人財育成方針及び社内環境整備方針」について、以下の指標を用いております。 なお、当社においては、関連する指標データ管理とともに具体的な取組みが行われているものの、連結グループに属する会社では行われてはいないため、次の指標に関する目標及び実績は、連結グループにおける主要な事業を営む提出会社のものを記載しております。 連結対象会社は1社となります。 指標目標実績（当事業年度）管理的地位にある労働者に占める女性労働者の割合2028年６月までに10%3.7%女性社員採用2028年３月までに女性社員6名採用1名採用男性社員の育児休業取得率毎年60%以上を維持100%育児休業取得者の復職率毎年100%を維持100% (7) その他当社においては、「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（平成27年法律第64号）の規定に基づく公表の義務はありませんが、当事業年度における労働者の男女の賃金の額の差異については、以下のとおりであります。 労働者の男女の賃金の額の差異（％）（注）１．全労働者正規雇用労働者有期雇用労働者62.263.667.1 （注）１．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（平成27年法律第64号）の規定に基づき算出したものであります。 |
| 人材の育成及び社内環境整備に関する方針、戦略 | (5) 人財の多様性の確保を含む人財育成方針及び社内環境整備方針当社が持続的に成長していくためには、人財は重要かつ不可欠な経営資本であると考えております。 この考え方のもと、当社グループにおける、人財の多様性の確保を含む人財育成方針及び社内環境整備方針を以下のとおり定めております。 ＜人財育成方針＞当社は、経営理念である「先進・革新技術で未来を創造」を実践することにより、持続可能な社会の実現に貢献してまいります。 この活動を通じてグローバルなニッチ分野においてトップ企業であることを目指します。 そのため、グローバルなマーケットで幅広く活躍するための高度な専門性と技術を持つ人財の採用と育成に努め、性別や年齢を問わず公平な挑戦と活躍の機会を提供します。 ○求められる人財像・社会・顧客の動向にセンシティブな人財・国・場所を超えて課題にチャレンジする人財・高いインテグリティ（誠実さ・真摯さ）を持って行動できる人財 ＜社内環境整備方針＞○支援自発的に学び挑戦する人に対し、社内外の教育研修のほか、適格な成長の機会を提供します。 ○評価適切な目標設定と、上席者からの細やかなサポートやフィードバックを行い、チャレンジ精神を持って成果を出した人が公正に評価される仕組みを整えます。 ○成果報酬実現した成果ならびにチャレンジのプロセスに対しては、透明性のある評価にもとづき公正に報います。 ○健康と安全社員の安全と健康に留意し、職場内のコミュニケーションを活性化させ、働き甲斐のある職場環境の整備に努めます。 ＜当社の教育体系＞当社は、人財育成方針及び社内環境整備方針に沿って、高度な専門性と技術を持つ人財を育成し、自発的に学びに挑戦する従業員に対しては適切な成長の機会を提供するべく、以下の教育体系に基づき、教育・研修を行っております。 当事業年度は103講座に延べ453名が参加しました。 |
| 人材の育成及び社内環境整備に関する方針に関する指標の内容並びに当該指標を用いた目標及び実績、指標及び目標 | (6) 人財育成方針及び社内環境整備方針における指標及び目標当社グループでは、上記「(5)人財の多様性の確保を含む人財育成方針及び社内環境整備方針」について、以下の指標を用いております。 なお、当社においては、関連する指標データ管理とともに具体的な取組みが行われているものの、連結グループに属する会社では行われてはいないため、次の指標に関する目標及び実績は、連結グループにおける主要な事業を営む提出会社のものを記載しております。 連結対象会社は1社となります。 指標目標実績（当事業年度）管理的地位にある労働者に占める女性労働者の割合2028年６月までに10%3.7%女性社員採用2028年３月までに女性社員6名採用1名採用男性社員の育児休業取得率毎年60%以上を維持100%育児休業取得者の復職率毎年100%を維持100% |
| 事業等のリスク | ３ 【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1) 経済動向による影響当社グループが販売する製造装置は、ディスプレイ・半導体市場の需給動向に影響を受けます。 加えて、当社製品は企業向け生産設備であることから、企業の設備投資の凍結や計画変更等、その設備投資需要に大きく影響を受けます。 したがいまして、ディスプレイ・半導体市場の需給や顧客の設備投資需要に大幅な変動がある場合、受注のキャンセル、売上計上時期の変動等により、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 当社グループは、ＩＪＰソリューション事業、半導体関連事業及びＬＣＤ事業を中核事業と位置づけその事業拡大を図るとともに、生産性の向上及び固定費・変動費の削減を推進し、事業環境の変化に影響されにくい収益体質づくりを目指して参ります。 (2) 技術革新の動向による影響当社グループの属する事業分野においては、技術革新の急速な進展とそれに伴う市場ニーズの変化に迅速に対応することが絶えず求められております。 この変化に適切な対応をすることができない場合、当社グループの既存の製品・サービスは急速に陳腐化し競争の優位性を失うおそれがあり、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 このため、当社グループでは技術動向の調査を不断に進めるとともに、研究・開発機関と連携する等、新たな技術・製品の研究開発に努めております。 (3) 価格競争による影響当社グループの主要顧客であるディスプレイ・半導体市場においては、需給動向を反映した価格変動が激しいことが特徴としてあります。 当社グループでは、原価低減に努めるとともに、自動化・省人化を可能とする装置開発や、各装置のパッケージ化等により顧客サイドのコストダウンを実現し、価格の維持に注力しております。 しかしながら、当社も単に他社と価格のみで比較、競合するおそれは否めず、過度の価格競争が、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (4) 法的規制に関するリスク当社グループでは、ＩＳＯ９００１やＩＳＯ１４００１の認証を取得した工場として生産活動を行っております。 このような活動を行うに際して、製造、通商、独占禁止、環境・リサイクル等に関連する法的規制を受けております。 今後、新たな法令の制定等規制の動向によっては、当社の事業展開が制約され、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (5) 大規模災害の影響・感染症等に関するリスク当社グループの生産拠点は、本社工場、守谷サテライト工場とも茨城県にあります。 よって、茨城県において大規模災害が発生した場合には、生産設備の破損、物流機能の麻痺等が生じ、生産拠点の操業停止等、当社の生産体制が重大な影響を被る可能性があります。 また、感染症によるパンデミックが発生した場合、開発・製造・営業・調達・保守等の事業活動の継続が困難となり、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (6) 海外販売に関するリスク当社グループの売上高の大半は海外向けであり、かつ中国、台湾、韓国に集中しております。 したがいまして、中国、台湾、韓国において、政治状況の急変、法律・税制の予期しない変更、産業政策の変更、経済状況の急変、地震・洪水等の自然災害及びテロ・戦争等の社会的混乱が生じた場合等、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (7) ノウハウ及び知的財産権に関するリスク当社グループは、製造装置需要の変動に柔軟に対応すべく、一部の製品組立を協力会社へ委託しているため、当社独自のノウハウや技術情報が社外に流出するリスクが想定されます。 協力会社との間では、当社の技術・ノウハウの他への転用・利用を禁止する旨の契約を締結し、ノウハウの社外流出の防止に努めております。 また、当社は、技術流出の危険性に対する防止策及び競合他社に対する知的財産権上の優位性の維持及び獲得のため、特許・実用新案の出願を積極的に行っております。 しかしながら、特定の国や地域では、当社の知的財産権の保護が十分にされない場合があり、当社の知的財産権を使用して類似製品を製造することにより、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 一方、第三者の知的財産権については、これを侵害しないよう努めておりますが、万が一抵触した場合には、多額の係争費用や損害賠償金等が発生するおそれがあり、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (8) 研究開発等の先行投資に関するリスク当社グループは、将来成長が期待できる市場分野での事業展開に有益と考える技術に関わる研究開発及び関連設備に先行投資をしております。 しかしながら、想定を上回る革新的な技術の登場やマクロ経済環境の急変等により、先行投資の成果が必ずしも収益に繋がらないリスクがあり、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (9) 製品の契約不適合に関するリスク当社グループは、製品の品質管理に関して十分な注意を払い、ＰＬ保険にも加入しておりますが、先端技術あるいは新技術を用いた製品を扱うことも多く、事前の想定が困難な契約不適合が発生する等、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (10) 売上計上時期の変動に関するリスク当社グループの生産計画、販売計画及び業績の見通しは、顧客都合による納期の変更等により急な見直しを余儀なくされることがあります。 このため顧客の工場建設の遅れや設備投資計画の見直し等は、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (11) 装置代金の回収及び営業キャッシュ・フローの健全化に関するリスク当社グループの装置代金の回収については、中国等の商慣習により、契約代金の１割前後の回収が長期化するケースがあります。 前受金やＦＯＢ（本船渡し）により代金の８割前後の回収が行われますが、残金は当社装置の稼働ではなく、生産ライン全体の稼働後に最終的な検収を行い、そこから１年等一定の保証期間経過後に支払われる契約となっているためです。 代金回収を計画的に行うために、装置納入後の状況や課題等について顧客と情報共有する等様々な取り組みを進めておりますが、顧客設備の稼働スケジュールや検収作業の長期化等が、当社グループの財務状況及びキャッシュ・フローに大きな影響を与える可能性があります。 当社グループでは、契約時に検収条件の明確化を図るとともに、納入後は子会社及び代理店等と連携し検収の早期化に努める等、売上代金の計画的な回収実現に向け取り組んでおります。 (12) 棚卸資産の滞留リスク当社グループ製品には、顧客との納期等を考慮して、汎用部分の製造に先行着手している製品が含まれております。 半導体事業の急拡大に伴い当該製品は増加傾向にあることから、これらの製品の受注が遅延またはキャンセルとなった場合、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (13) サプライチェーンに関するリスク当社グループでは、製品を製造するにあたり複数のサプライヤーからの部材の調達を行っております。 需給の逼迫や供給遅延・停止、価格高騰の要因等により、製品の製造遅延・供給停止が発生し、当社グループの業績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 (14) 固定資産の減損リスク当社グループの保有する固定資産について、「固定資産の減損に係る会計基準」に基づき、減損損失を認識すべきであると判定した場合にはそれぞれの固定資産について回収可能性を評価することとなります。 回収可能価額が帳簿価額を下回る場合、その差額は減損損失として当該期の損失として計上されるため、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (15) 退職給付債務について当社は、将来に関する一定の前提を置いた年金数理計算に基づいて退職給付債務を計上しております。 したがいまして、実際の結果が前提条件と異なる場合や前提条件に変動が生じた場合等、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (16) 情報管理について当社グループは、事業遂行にあたり、各種技術情報、顧客情報、個人情報を有しております。 当社では、情報セキュリティマネジメント規程を制定し、当社が管理する文書、電子情報の適切な管理に努めております。 しかしながら、情報漏洩のリスクは常に存在しており、万一情報が漏洩した場合には、当社グループの業績及び財務状況に影響を与える可能性があります。 (17) 人財の確保・育成について当社グループが培ってきた技術やノウハウの伝承、延いては当社グループの将来の成長は、従業員の能力による部分が大きく、よって優れた能力を有する従業員の確保と育成は、当社グループの重要な経営課題であります。 必要な人財を確保、育成できなかった場合には、当社グループの業績及び財務状況、さらには当社の成長に影響を与える可能性があります。 (18) 日立製作所グループとの関係について当社は、日立テクノエンジニアリング株式会社（注：同社はグループ内での合併の後、2013年に株式会社日立製作所により吸収合併された。 ）が1990年３月に開設した竜ヶ崎工場を母体とし、2016年７月、株式会社日立製作所からの新設分割により設立されました。 新設分割にあたり、当社は株式会社日立製作所より竜ヶ崎工場の不動産及び製造設備等の資産、従業員、特許権等知的財産権並びに事業に関連する海外事業拠点（台北、南京）を継承しております。 現在の当社と日立製作所グループとの関係について、株式会社日立ハイテクとの販売契約、株式会社日立マネジメントパートナーへの給与計算・経費精算等に係る委託契約等はありますが、いずれも第三者である他の取引先と同じく、サービスの質、価格等の条件の妥当性を総合的に判断し決定しております。 一方、当社と同社グループとの間に、ライセンス契約、技術または製造工程に関する支援・コンサルティング契約、出向関係等はありません。 (19) 主要株主との関係について東京応化工業株式会社及び株式会社オプトランは、当社の主要株主に該当しております。 東京応化工業株式会社とは、当社装置事業展開にあたり協業し、株式会社オプトランとは資本業務提携契約を締結しております。 これら主要株主の方針転換又は株主構成に変更があった場合、当社の株価、業績及び財務状況に悪影響を及ぼす可能性があります。 |
| 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析 | ４ 【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1) 経営成績等の状況の概要当連結会計年度における当社グループ（当社及び連結子会社）の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー（以下、「経営成績等」という。 ）の状況の概要は次のとおりであります。 ① 財政状態及び経営成績の状況当連結会計年度における世界経済は、資産効果を背景に個人消費が底堅い米国を中心に総じてプラス成長を維持しましたが、欧州・中東における地政学リスクの高まりなどにより、先行きへの不透明感が払拭できませんでした。 国内経済は、原油高や円安による物価上昇圧力に晒されたものの、雇用・所得環境の改善による個人消費の伸びや堅調な設備投資など、内需を中心に底堅く推移しました。 当社グループの事業環境について、半導体分野では、ＡＩインフラ需要の急拡大を受け、ＡＩ用先端半導体向け設備投資が引き続き伸長しました。 フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）・光学系デバイス分野では、ＯＬＥＤoＳなどのマイクロディスプレイ向け投資再開や、ＬＣＤ向け投資に底入れの動きが窺われました。 このような環境下、当社は、ＡＩ用先端半導体パッケージ向け装置の開発・拡販、新プロセス向けＩＪＰ、ＮＩＰシステムの開発など、さらなる事業領域拡大への取り組みに注力しました。 このような状況のもと、当社グループの当連結会計年度の受注金額は43,289百万円（前年度比60.6％増）、受注残高は34,242百万円（前年度比30.7％増）となりました。 売上高は35,244百万円（前年度比67.8％増）、営業利益は5,810百万円（前年度比177.3％増）、経常利益は5,636百万円（前年度比199.2％増）、親会社株主に帰属する当期純利益は3,560百万円（前年度比954.1％増）となりました。 尚、受注金額及び受注残高には、発注内示段階のものも含まれます。 セグメントごとの経営成績は、次のとおりであります。 (ＩＪＰソリューション事業)マイクロディスプレイ向けラインは、スマートグラス等の最終アプリケーション市場に動意が窺われる中、出荷に一定の進捗が見られ、顧客の投資需要に跛行性はあるものの、新たな引き合いも増加しました。 また、シリコンフォトニクス半導体向けシステムなど、ＩＪＰの新たな適用分野における需要も捕捉できました。 今後は、これらに加え、タブレット等の反射防止パターン形成システム等のナノ構造製品や、ペロブスカイト太陽電池向けなど、ＩＪＰ、ＮＩＰの新プロセス向けシステム開発・拡販に注力し、受注・売上の積み上げを図ってまいります。 このような状況のもと、当セグメントの当連結会計年度の売上高は1,853百万円（前年度比223.3％増）、セグメント損失は689百万円（前年度は222百万円の損失）となりました。 なお、顧客の投資需要の減少及び新たな適用分野における需要拡大及び利益確保には、一定期間を要する可能性がある点も踏まえ、特別損失として固定資産等に対する減損損失を363百万円計上しております。 (半導体関連事業)ＡＩ用先端半導体につき、大口顧客を中心に生産能力拡大の動きが続き、ＷＬＰ向けＴＢ・ＤＢは、出荷・受注とも順調に伸長しました。 また、はんだボールマウンタシステムについて、ＡＩ用先端半導体パッケージ用途の需要が顕在化しました。 今後は、活発な引き合いが続くこれらシステムの追加需要を着実に捕捉することに加え、一部量産向け受注も獲得したＰＬＰ向けや、量産プロセス評価中のＨＢＭダイ向けＴＢ／ＤＢの開発・拡販に注力し、一層の受注・売上拡大に取り組んでまいります。 このような状況のもと、当セグメントの当連結会計年度の売上高は31,212百万円（前年度比59.9％増）、セグメント利益は8,752百万円（前年度比132.8％増）となりました。 (ＬＣＤ事業)パネル市況を背景に投資需要は総じて振るわなかったものの、一定の部品・改造・増設需要に応じ出荷は進捗しました。 今後は、引き続き部品等のアフターサービスや、引き合いのある封止用装置増設需要の着実な捕捉に注力し、受注・売上の積み上げを図ってまいります。 このような状況のもと、当セグメントの当連結会計年度の売上高は2,178百万円（前年度比139.0％増）、セグメント損失は379百万円（前年度は140百万円の利益）となりました。 当連結会計年度末の流動資産は、前連結会計年度末に比べ753百万円増加し、24,402百万円となりました。 主として、現金及び預金4,924百万円の増加、並びに、売掛金及び契約資産3,655百万円の減少によるものであります。 有形固定資産は、前連結会計年度末から917百万円増加し、4,080百万円となりました。 無形固定資産は、前連結会計年度末から48百万円減少し、161百万円となりました。 投資その他の資産は、前連結会計年度末から1,051百万円増加し、1,403百万円となりました。 これらの結果、総資産は、前連結会計年度末から2,674百万円増加し、30,048百万円となりました。 流動負債は、前連結会計年度末に比べ495百万円減少し、12,308百万円となりました。 主として、未払法人税等1,914百万円、前受金1,050百万円の増加、並びに、短期借入金4,200百万円の減少によるものであります。 固定負債は、前連結会計年度末に比べ459百万円減少し、3,249百万円となりました。 純資産は、前連結会計年度末に比べ3,629百万円増加し、14,490百万円となりました。 主として、親会社株主に帰属する当期純利益3,560百万円の増加によるものであります。 この結果、自己資本比率は48.2％となりました。 ② キャッシュ・フローの状況当連結会計年度末における現金及び現金同等物(以下、「資金」という。 )は、前連結会計年度末に比べ4,924百万円増加し、8,572百万円となりました。 各キャッシュ・フローの状況は以下のとおりであります。 (営業活動によるキャッシュ・フロー)営業活動の結果取得した資金は、11,184百万円となりました。 資金の取得は、主に税金等調整前当期純利益の増加5,131百万円の計上、売上債権の減少3,507百万円によるものであります。 (投資活動によるキャッシュ・フロー)投資活動の結果使用した資金は、1,597百万円となりました。 資金の使用は、主に有形固定資産の取得による支出1,597百万円によるものであります。 (財務活動によるキャッシュ・フロー)財務活動の結果使用した資金は、4,756百万円となりました。 資金の使用は、主に短期借入金の純減額4,200百万円によるものであります。 ③ 受注実績当連結会計年度における受注実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。 セグメントの名称受注高(千円)前年度比(％)受注残高(千円)前年度比(％)ＩＪＰソリューション事業△498,340△137.12,095,000△52.9半導体関連事業43,783,42083.731,330,11067.0ＬＣＤ事業4,638△99.7817,527△72.7合計43,289,71860.634,242,63730.7 (注) １．セグメント間取引はありません。 ２．金額は、販売価格によっております。 ④ 販売実績当連結会計年度における販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。 セグメントの名称金額(千円)前年度比(％)ＩＪＰソリューション事業1,853,716223.3半導体関連事業31,212,04259.9ＬＣＤ事業2,178,471139.0合計35,244,23067.8 (注) １．セグメント間取引はありません。 ２．主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は、次のとおりであります。 相手先前連結会計年度(自 2024年７月１日 至 2025年６月30日)当連結会計年度(自 2025年７月１日 至 2026年６月30日)金額(千円)割合(％)金額(千円)割合(％)MARKETECH INTERNATIONAL CORP.6,597,13731.424,011,51168.1MIC-TECH(SHANGHAI) CORP.7,417,98535.3－－ ３．当連結会計年度のMIC-TECH(SHANGHAI) CORP.につきましては、当該割合が100分の10未満のため記載を省略しております。 (2) 経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において判断したものであります。 ① 経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容ａ．財政状態当連結会計年度末の総資産は、前連結会計年度末から2,674百万円増加し、30,048百万円となりました。 これは主に現金及び預金4,924百万円、建物及び構築物1,743百万円の増加、並びに、売掛金及び契約資産3,655百万円の減少によるものです。 負債は、前連結会計年度末から954百万円減少し、15,557百万円となりました。 主として、買掛金1,112百万円、未払法人税等1,914百万円の増加、並びに、短期借入金4,200百万円の減少によるものです。 純資産は、前連結会計年度末から3,629百万円増加し、14,490百万円となりました。 主として、親会社株主に帰属する当期純利益3,560百万円によるものです。 この結果、自己資本比率は48.2％となり、前年度より8.5％増加しました。 b. 経営成績当連結会計年度において、ＷＬＰ向けＴＢ・ＤＢが牽引する半導体関連事業の大幅増収により、当社グループの連結業績は、売上高35,244百万円（前年度比67.8％増）、営業利益5,810百万円（前年度比177.3％増）、経常利益5,636百万円（前年度比199.2％増）となりました。 また、固定資産除却損及び減損損失の発生に伴い、特別損失を505百万円計上した結果、親会社株主に帰属する当期純利益3,560百万円（前年度比954.1％増）となりました。 セグメントごとの経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。 なお、各セグメントの当連結会計年度における事業環境は、「第２ 事業の状況 ４ 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析(1) 経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。 また、セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益に対応しております。 （ＩＪＰソリューション事業）当セグメントの当連結会計年度における売上高は、前連結会計年度から1,280百万円増加し、1,853百万円となりました。 セグメント損失は、前連結会計年度の222百万円の損失から466百万円増加し、689百万円となりました。 スマートグラス等の最終アプリケーション市場に動意が窺われる中、主にマイクロディスプレイ向け装置の出荷に一定の進捗が見られた一方、棚卸資産評価損等により、斯かる増収・損失計上となったものです。 （半導体関連事業）当セグメントの当連結会計年度における売上高は、前連結会計年度から11,691百万円増加し、31,212百万円となりました。 セグメント利益は、同じく4,992百万円増加し、8,752百万円となりました。 ＡＩ用などの先端半導体パッケージ用ＷＬＰ向けＴＢ・ＤＢが堅調に推移した結果、斯かる増収増益となったものです。 （ＬＣＤ事業）当セグメントの当連結会計年度における売上高は、前連結会計年度から1,267百万円増加し、2,178百万円となりました。 セグメント損失は、前連結会計年度140百万円(利益)から520百万円増加し、379百万円(損失)となりました。 部品・改造・増設需要に応じ出荷は進捗した一方、棚卸資産評価減等により増収・損失計上となりました。 ②資本の財源及び資金の流動性に係る情報当社グループの事業活動における主な資金需要は、部品の仕入代金、製品の製作代金、販売費及び一般管理費等の費用及び設備投資資金であります。 上記運転資金につきましては、内部資金、銀行からの借入及び売上債権の回収により調達を行うことを基本としております。 日常的な手元流動性は金利費用削減のため必要最小限の残高で運用しておりますが、取引銀行とコミットメントライン契約（極度額10,400百万円）、当座貸越契約（極度額6,300百万円）を締結しており、資金の流動性は確保されております。 なお今後につきましては、安定的な内部留保の蓄積等により財政状態の健全化を図るとともに、資本効率を高めてまいります。 ③重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定当社グループの連結財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められている企業会計基準に基づき作成しております。 この連結財務諸表の作成にあたって、資産、負債、収益、費用及びキャッシュ・フローの報告額に影響を及ぼす見積り及び仮定を用いております。 当社グループは、過去の実績値や状況を踏まえ合理的と判断される前提に基づき、継続的に見積り、予測を行っております。 そのため実際の結果は、見積り特有の不確実性があるため、これらの見積りと異なる場合があります。 当社グループの連結財務諸表の作成のための重要な会計方針等は「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等 （１）連結財務諸表 注記事項（連結財務諸表作成のための基本となる重要な事項）」に記載のとおりであります。 連結財務諸表の作成にあたって用いた会計上の見積り及び仮定のうち、重要なものは以下のとおりであります。 ａ．貸倒引当金の計上基準当社グループは、債権の貸倒に備えるため、一般債権については貸倒実績率により、貸倒懸念債権等特定の債権については個別に回収可能性を検討し、回収不能見込額を計上しております。 顧客の財政状態が悪化し、支払能力が低下した場合には、引当金の追加計上又は貸倒損失が発生する可能性があります。 ｂ．棚卸資産の評価基準当社グループは、原材料のうち部材及び保守部品は移動平均法による原価法、それ以外は最終仕入原価法（貸借対照表価額は収益性の低下による簿価切下げの方法により算定）、製品及び仕掛品は個別法による原価法（貸借対照表価額は収益性の低下による簿価切下げの方法により算定）を採用しております。 将来における実際の需要または市況が見積りより悪化した場合には、評価損の追加計上が必要となる可能性があります。 ｃ．繰延税金資産の回収可能性当社グループは、繰延税金資産の回収可能性について、課税所得の額を合理的に見積ることにより判断しております。 将来の不確実な経済条件の変動等により見積りの見直しが必要となった場合、繰延税金資産及び法人税等調整額の金額に影響を与える可能性があります。 ｄ．固定資産の減損処理当社グループは、固定資産のうち減損の兆候がある資産又は資産グループについて、当該資産又は資産グループから得られる割引前将来キャッシュ・フローの総額が帳簿価額を下回る場合には、固定資産の帳簿価額を回収可能価額まで減額し、当該減少額を減損損失として計上しております。 将来の不確実な経済条件の変動等により見積りの見直しが必要となった場合、減損損失が発生する可能性があります。 ｅ．退職給付債務の算定当社の退職給付費用及び債務は、割引率等数理計算上で設定される前提条件や年金資産の期待運用収益率等に基づき算定されております。 将来の不確実な経済条件の変動等により割引率及び期待運用収益率等の見直しが必要となった場合、退職給付に係る負債及び退職給付費用の金額に影響を与える可能性があります。 |
| 研究開発活動 | ６ 【研究開発活動】 当社は、2000年代初頭のＦＰＤ製造装置の製造に係る「液晶真空充填システム」確立をはじめ、高精度塗布・位置決め・貼合せ等の当社コア技術を活かし、常に顧客のニーズに応えてまいりました。 「先進・革新技術で未来を創造」を経営理念に掲げる当社として、研究開発力の維持・強化は、経営の最重要課題の一つと考えております。 顧客のニーズの変化や要望、あるいは顧客が直面されている問題点や課題をきめ細かに把握し、それを基に新しい装置やプロセスの開発を行っております。 研究開発の方向性、テーマについては、顧客からの情報に加え、市場動向や技術動向の分析を行い、中期経営計画等にて策定しております。 当連結会計年度における当社グループが支出した研究開発費の総額は、517百万円（注）であります。 （ＩＪＰソリューション事業）薄膜形成のための各種プロセスの技術開発及び評価、新材料に対応したプロセス技術開発等を行っております。 2019年６月期に開設したプロセス開発センタを活用し、国内の有力大学、研究機関、材料メーカー等と連携し、研究開発を進めております。 薄膜形成用インクジェット装置、ナノインプリント形成装置、フィルム貼合せ装置等の開発に注力し、車載用デバイスへの応用技術である高粘度電子材料用ＩＪＰ技術や、開発効率を向上させるシミュレーション技術等の先進技術の開発に取り組んでおります。 （半導体関連事業）先端半導体パッケージ技術の進化に対応するため、ボンダー装置・デボンダー装置の精度向上や、はんだボールマウンタ装置のボール搭載及び検査リペア技術の向上と、プロセス開発等に取り組んでおります。 また、パワー半導体向けのＵＶ装置、プラズマ装置の能力向上にも取り組んでおります。 （ＬＣＤ事業）顧客の高精細化、無人化、フレキシブル化等のニーズに対応した製品開発や、次世代の情報デバイス向けに必要とされる装置・プロセスの開発に取り組んでおります。 また、顧客の省エネルギー化の要求に対応するため、装置の省電力化技術等、環境に配慮した技術開発にも注力しております。 シール塗布装置、液晶滴下装置、真空貼合せ装置等では、装置の信頼性・安定性を高めるとともに、次世代デバイスの量産化を可能にするための技術開発を行っております。 （注）当社の研究開発活動は、セグメント間で横断的に実施しておりますので、開発費の総額は合計値での掲載としております。 |
| 設備投資等の概要 | １ 【設備投資等の概要】 当社グループの設備につきましては、湘南事業所を除き、原則セグメント間で横断的に使用しているものであります。 当連結会計年度の設備投資につきましては、技術開発を積極的に進める環境を整備するために、主として試験・検証用設備の製作並びに整備を中心に設備投資を実施いたしました。 これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は1,857百万円となりました。 内訳としましては、当社1,846百万円、南京新創機電科技有限公司10百万円であります。 なお、生産・販売能力に重要な影響を及ぼす設備の除却、売却はありません。 |
| 主要な設備の状況 | ２ 【主要な設備の状況】 (1) 提出会社 2026年６月30日現在事業所名(所在地)セグメントの名称設備の内容帳簿価額(千円)従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積㎡)リース資産その他合計本社(茨城県龍ケ崎市)－本社機能生産設備2,100,957747,538583,000(35,984)24,229466,0533,921,779219サテライト工場(茨城県守谷市)－生産設備52,02633973,000(2,961)－9,639135,005－ (注) １．現在休止中の主要な設備はありません。 ２．帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品並びに建設仮勘定の合計であります。 ３．従業員数は、就業人員であります。 (2) 在外子会社 2026年６月30日現在会社名事業所名(所在地)セグメントの名称設備の内容帳簿価額(千円)従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積㎡)リース資産その他合計南京新創機電科技有限公司本社(中国南京市)－生産設備－11,065－(－)〔993〕2,58410,67124,32030 (注) １．現在休止中の主要な設備はありません。 ２．建物及び土地は、連結会社以外から賃借しております。 年間賃借料は４百万円であります。 なお、賃借している土地の面積は〔 〕で外書きしております。 ３．帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品であります。 ４．従業員数は、就業人員であります。 |
| 設備の新設、除却等の計画 | ３ 【設備の新設、除却等の計画】 (1) 重要な設備の新設等 該当事項はありません。 (2) 重要な設備の除却等該当事項はありません。 |
| 研究開発費、研究開発活動 | 517,000,000 |
| 設備投資額、設備投資等の概要 | 1,857,000,000 |
Employees
| 平均年齢（年）、提出会社の状況、従業員の状況 | 46 |
| 平均勤続年数（年）、提出会社の状況、従業員の状況 | 17 |
| 平均年間給与、提出会社の状況、従業員の状況 | 7,656,000 |
| 管理職に占める女性労働者の割合、提出会社の指標 | 0 |
| 全労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
| 正規雇用労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
| 非正規雇用労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
Investment
| 株式の保有状況 | (5) 【株式の保有状況】 該当事項はありません。 |
Shareholders
| 大株主の状況 | (6) 【大株主の状況】 2026年６月30日現在 氏名又は名称住所所有株式数(千株)発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(％) 東京応化工業株式会社神奈川県川崎市中原区中丸子1503,30417.56 株式会社オプトラン埼玉県鶴ヶ島市冨士見６丁目１－１3,30417.56 上田八木短資株式会社大阪府大阪市中央区高麗橋２丁目４－２7343.90 株式会社日本カストディ銀行(信託口)東京都中央区晴海１丁目８－１２6153.27 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505329(常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部)P.O BOX 351 BOSTON MASSACHUSETTS 02 101 U.S.A (東京都港区港南２丁目１５－１)3922.08 野村證券株式会社東京都中央区日本橋１丁目１３－１3431.82 BNYM SA/NV FOR BNYM FOR BNYM GCM CLIENT ACCTS M ILM FE(常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行)2 KING EDWARD STREET, LONDON EC1A 1HQ UNITED KINGDOMON(東京都千代田区丸の内１丁目４－５)3261.73 楽天証券株式会社共有口東京都港区南青山２丁目６－２１2981.58 佐々木 嘉樹大阪府大阪市天王寺区2901.54 株式会社SBI証券東京都港区六本木１丁目６－１2891.53計－9,89852.62 （注）１．持株比率は、自己株式(37,356株)を控除して計算しております。 ２．2026年２月２日付で公衆の縦覧に供されている大量保有報告書において、片山晃が2026年１月15日 時点で以下の株式を保有している旨が記載されているものの、当社としては2026年６月30日時点に おける実質所有株式数の確認ができませんので、上記大株主の状況には含めておりません。 大量保有報告書の内容は以下のとおりであります。 なお、当社は2026年４月１日付で１株当たり３株の割合で株式分割を行っておりますので、下記の 数字は株式分割前のものとなります。 氏名又は名称住所保有株券等の数(千株)株券等保有割合(％)片山 晃東京都千代田区4106.53 ３．2026年３月23日付で公衆の縦覧に供されている大量保有報告書において、アローストリート・キャ ピタル・リミテッド・パートナーシップが2026年３月13日時点で7.86％の株式を保有している旨が 記載されているものの、当社として2026年６月30日時点における実質所有株式数の確認ができませ んので、上記大株主の状況には、含めておりません。 また、2026年9月7日付で公衆の縦覧に供されている変更報告書において、同社が2026年８月31日現 在で株券等保有割合の１％以上減少している旨記載されております。 なお、2026年９月７日付の変更報告書の内容は以下のとおりであります。 氏名又は名称住所保有株券等の数(千株)株券等保有割合(％)アローストリート・キャピタル・リミテッド・パートナーシップアメリカ合衆国、マサチューセッツ州02116、ボストン、クラレンドン・ストリート200、30階1,1546.12 |
| 株主数－金融機関 | 5 |
| 株主数－金融商品取引業者 | 38 |
| 株主数－外国法人等－個人 | 83 |
| 株主数－外国法人等－個人以外 | 89 |
| 株主数－個人その他 | 9,246 |
| 株主数－その他の法人 | 110 |
| 株主数－計 | 9,571 |
| 氏名又は名称、大株主の状況 | 株式会社SBI証券 |
| 株主総利回り | 6 |
| 株主総会決議による取得の状況 | (1) 【株主総会決議による取得の状況】 該当事項はありません。 |
| 株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容 | (3) 【株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容】 区分株式数（株）価額の総額（千円）当事業年度における取得自己株式171251当期間における取得自己株式23151 （注）１．当期間における取得自己株式には、2026年９月１日から有価証券報告書提出日までの単元未満株式の買取りによる株式数は含めておりません。 ２．2026年４月１日付で普通株式１株当たり３株の割合で株式分割を行っております。 上記は、株式分割後の株式数で表記しております。 ３．当事業年度における取得自己株式には、譲渡制限付株式報酬制度対象者の退職に伴う取得も含まれます。 |
Shareholders2
| 自己株式の取得 | -251,000 |
| 自己株式の取得による支出、財務活動によるキャッシュ・フロー | -251,000 |
| 発行済株式及び自己株式に関する注記 | １．発行済株式に関する事項株式の種類当連結会計年度期首増加減少当連結会計年度末普通株式(株)6,283,00012,566,000－18,849,000 (変動事由の概要) 株式分割による増加 12,566,000株 ２．自己株式に関する事項株式の種類当連結会計年度期首増加減少当連結会計年度末普通株式(株)91,54324,96179,14837,356 (変動事由の概要) 単元未満株式の買取りによる増加 42株 取締役会決議による自己株式の取得 15株 株式分割による増加 24,904株 譲渡制限付株式報酬としての自己株式の処分による減少 4,598株 新株予約権の行使による減少 74,550株 |