財務諸表
CoverPage
| 提出書類、表紙 | 有価証券報告書 |
| 提出日、表紙 | 2026-06-24 |
| 英訳名、表紙 | Tekscend Photomask Corp. |
| 代表者の役職氏名、表紙 | 代表取締役 社長執行役員 CEO 二ノ宮 照雄 |
| 本店の所在の場所、表紙 | 東京都港区東新橋一丁目5番2号 |
| 電話番号、本店の所在の場所、表紙 | 03-5418-3905(代表) |
| 様式、DEI | 第三号様式 |
| 会計基準、DEI | IFRS |
| 連結決算の有無、DEI | true |
| 当会計期間の種類、DEI | FY |
corp
| 沿革 | 2 【沿革】 当社の前身は、凸版印刷株式会社グループ(以下「TOPPANグループ」という。 )のフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業となります。 2020年代に入り、半導体市場の急速な成長によってフォトマスクの市場は新たな局面を迎え、事業の継続的な拡大・成長のためには、市場環境の変化や顧客動向を見極めながら、これまで以上に迅速かつ柔軟な研究開発投資と設備投資が求められるようになりました。 こうした中、TOPPANグループはフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業については独立した企業体として経営の自由度を高めることによって、半導体市場のニーズを捉えた投資をスピーディーに実行し、より一層の成長と競争力の強化を実現・継続していくことが、当事業の価値向上に資するとの判断に至りました。 その結果、当社は2021年12月13日に、TOPPANグループのフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業の承継会社として設立され、2022年4月1日に権利義務を承継する吸収分割に合わせ、株式会社トッパンフォトマスクとして事業を開始しました。 また、2024年11月1日に商号をテクセンドフォトマスク株式会社へ変更し、2025年10月16日に東京証券取引所プライム市場に上場いたしました。 (当社設立前)年月概要1961年シリコントランジスタ製造用フォトマスクの試作成功1968年3月朝霞工場精密部品棟にクリーンルームが完成シリコントランジスタマスクの量産を開始1970年9月滋賀精密工場竣工1974年12月朝霞精密電子第一工場竣工最新鋭設備と高性能クリーンルームを完備1986年2月朝霞精密電子第二工場竣工1997年3月中華映管股份有限公司、揚博科技股份有限公司と合弁で、中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)を設立1998年8月滋賀工場でフォトマスク新棟竣工2003年2月朝霞第三工場竣工2005年4月DuPont Photomasks, Inc.の株式取得に関する手続き完了。 Toppan Photomasks, Inc.(現 Tekscend Photomask US Inc.)が始動2014年5月中国科学院上海微系統与信息技術研究所が保有する上海凸版光掩模有限公司(現 上海徐匯科盛徳半導体有限公司)の持分28.5％を買取り、完全子会社化2015年3月中華映管股份有限公司が保有する中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)の株式を取得し、子会社化2015年4月上海凸版光掩模有限公司が新工場を建設製造ラインを拡充しフォトマスクの生産能力を増強2019年8月Toppan Photomasks Round Rock, Inc.(現 Tekscend Photomask Round Rock Inc.)を設立GlobalFoundriesの内製マスクライン生産設備を購入、移設し、米国内のGlobalFoundriesウェハ工場向けにフォトマスクを供給 (当社設立後)年月概要2022年4月株式会社トッパンフォトマスクが凸版印刷株式会社よりフォトマスク事業を承継当社株式の49.9％を凸版印刷株式会社からインテグラルグループが取得2023年7月本社を汐留シティセンターに移転2024年11月商号をテクセンドフォトマスク株式会社に変更2025年10月東京証券取引所プライム市場に上場 |
| 事業の内容 | 3 【事業の内容】 当社は、半導体用フォトマスクの製造・販売会社として、TOPPANグループから吸収分割により事業を継承する会社として設立され、2022年4月より営業を開始しました。 当社グループは当社、連結子会社13社及び持分法適用会社2社の計16社で構成されており、世界各地に広がるサービスネットワークと主要な半導体需要地域に所在する8つの製造拠点を活用し、EUVマスク生産などを手掛ける等、業界最先端の技術開発力で、外販フォトマスク市場のリーディングカンパニーとして事業活動を行っております。 また、微細加工技術を応用し、ナノインプリントモールド等の新事業領域の開拓を進めております。 当社グループの事業は、前身であるTOPPANグループにおいて印刷テクノロジーの一つである微細加工技術を応用し、1968年にトランジスタ用のマスクの量産を開始したことに端を発しております。 以来、半世紀以上に及ぶ歴史の中で、台湾に中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)を設立し、また、DuPont Photomasks, Inc.を買収することで、今日では世界各国に製造拠点を有する外販フォトマスクメーカーとして、2024年において半導体向け外販フォトマスク市場におけるシェア37.8％というトップの位置におります。 (出典 SEMI「2024 PHOTOMASK CHARACTERIZATION STUDY」)当社グループの報告セグメントはフォトマスク事業の単一セグメントでありますが、事業の内容の記載にあたりましては、以下「フォトマスク事業領域」と「新事業領域」に区分して記載いたします。 (フォトマスク事業領域)フォトマスクとは、フォトリソグラフィ技術※において、対象物に任意の図形(パターン)を転写するための原版となるガラス基板であり、一般に写真のネガに例えられます。 今日では半導体製造工程の一つである露光(リソグラフィ)プロセスにおいて広く使用されており、フォトマスク上の半導体回路パターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細な回路パターンを形成することが可能となります。 当社グループでは半導体メーカーや研究機関等の顧客から量産及び試作・研究開発用途で、様々な高精細フォトマスクの製造を受託しております。 半導体用フォトマスクは、半導体製造プロセスにおける「金型」として極めて重要な役割を果たすものであり、微細かつ高精度な製品を短納期で納入することが求められます。 フォトマスクは、顧客より支給された半導体回路のパターンデータをもとに、電子ビーム等でマスクブランクス(ガラス基板上に遮光膜を成膜し、その上に感光材であるフォトレジストをコーティングしたもの)上に回路パターンを描画し、現像・エッチングを経て製造されます。 顧客に納入するに際しては、この後、各種寸法の測定や外観形状の検査を経て、顧客が要求する精度・仕様に合致していることの品質保証が必要となります。 半導体用フォトマスクの使用イメージ (光マスク)半導体用フォトマスクの製造工程 (1) 半導体用フォトマスクについて① 業界構造及び当社グループの事業領域について半導体市場におけるビジネスモデルは、時代とともに大きく変化しており、かつては設計から製造まで一貫して行う垂直統合型が主流でしたが、1980年代後半以降、微細化競争の激化に伴い、水平分業型が台頭しました。 今日の市場は、半導体の設計から製造、販売までを一貫して行う垂直統合型デバイスメーカー「IDM(Integrated Device Manufacturer)」が存続している一方、水平分業型モデルにおける自社で製造工程を持たない「ファブレス」と呼ばれるモデルとして、半導体設計のみを手掛ける「デザインハウス」と、実際にその半導体製造を請け負う「ファウンドリ」と呼ばれるプレイヤーによって構成されております。 IDMがフォトマスクを自社で内製する方針を継続してきた一方、水平分業化の潮流の中で、ファウンドリにおいてはフォトマスクの生産を100％外部委託するモデルも確立されました。 これにより、半導体用フォトマスクは内製と外販という2つの大きな市場を形成しております。 当社グループは外販フォトマスクメーカーとして、内製機能を持たないファウンドリからの需要に加え、内製において生産キャパシティを超過した際のフォトマスク需要についても製造を委託されております。 半導体デバイス製造工程におけるフォトマスクの位置づけを図に示すと以下のとおりとなります。 ② 需要構造について半導体デバイスは、主にロジック半導体とメモリ半導体に大別されます。 ロジック半導体は、電子機器の頭脳とも呼べるもので、情報を処理し、論理演算や制御を行うものであり、CPU(中央処理装置)やGPU(画像処理装置)等がこれに該当します。 汎用的なものから特定のアプリケーションに特化したものまで幅広い製品が存在しますが、基本的にはアプリケーションごとに開発設計がなされます。 近年は微細化技術の進展に伴う設備投資負担の高まりから、フォトマスクの外販化が進んできております。 メモリ半導体は、データを記憶するための半導体であり、短期記憶向けのDRAMや長期記憶向けのNAND型フラッシュメモリ等が該当します。 メモリ半導体は主に同一製品を大ロットで量産・在庫販売するものであるため、メモリ半導体メーカーは規模の経済を追求する必要があります。 そのため、ロジック半導体と比較して、メモリ半導体用フォトマスクはIDMによる内製の割合が高い市場となります。 当社グループにおいては、ロジック半導体用フォトマスクが主軸製品となりますが、HBM(High Bandwidth Memory：高帯域幅メモリ)など開発競争の高まりに加え、メモリ需要の拡大・供給能力の逼迫などの影響を受け、メモリ半導体用フォトマスクの外販化需要も増加しております。 当社グループにおける半導体用フォトマスクの生産量は、フォトマスクが回路原版として使われるため、単に半導体市場全体の製造ボリュームに比例するものではなく、回路パターンの複雑さや半導体デバイスの設計件数に影響を受けます。 そのため、同一製品を大量生産するメモリ半導体市場よりもロジック半導体市場の動向に左右されやすい傾向にあるといえます。 また、半導体市場においては微細化の度合いを、回路線幅等に基づくプロセスノード※によって分類し、「〇〇ナノメートル」と表現しております。 基準値はその時代々々によって流動的であるものの、プレイヤーの限られる先端技術を用いて作られるものを「先端ノード」、技術的に普及が進んだものを「レガシーノード」と大別されております。 かつては微細化が進むことで既存のレガシーノード需要が先端ノードに置き換えられてしまうという、プロセスマイグレーションの考え方が一般的でしたが、現代ではIoT※や車載向けなど、必ずしも最先端の技術を必要としない半導体デバイスの量的需要が増加したことで、先端ノードはもちろんのこと、レガシーノードにおいても市場規模の拡大が続いております。 半導体用フォトマスクの需要は、半導体デバイスメーカーにおける新たな技術ノードへの対応や、新たな生産プロセス構築のための「研究開発・試作生産フェーズ」と既に確立した生産プロセスを用いる「量産フェーズ」のそれぞれにおいて発生します。 そのため、半導体デバイスそのものの量的需要とは別に、半導体デバイスメーカーの技術開発・製品開発が続く限り、一定の需要が継続安定的に発生いたします。 また、研究開発段階において半導体用フォトマスクを提供するパートナーに選ばれることにより、当社グループのフォトマスクが顧客の生産プロセスにおける基準として採用されるため、以後の量産段階における半導体用フォトマスク需要において、当社に最適化された製造仕様が適用されることで、セカンドベンダーとして他社が参入を図る際の技術的な参入障壁となります。 そのため、当社グループでは自社における研究開発や顧客等との共同開発等に対して積極的な人的投資・設備投資を実行し、顧客の上流段階からの技術要求に精確かつ柔軟に対応できる技術・開発体制、並びに生産体制を構築しております。 半導体用フォトマスクの構造半導体デバイスは、同一のシリコンウェハ上にフォトリソグラフィ工程を複数回繰り返し、回路パターンを多層(レイヤー)構造で成形することで生産されます。 したがって、一つの半導体デバイスに対しフォトリソグラフィの回数分だけ複数枚のフォトマスクが必要となり、これらは一つのセットとして使用されます。 フォトマスクに要求される微細化の精度は各レイヤーにおいて異なり、一般に、微細化が進むと高精度なレイヤー(クリティカルレイヤー)において要求される加工精度がより微細なものとなるとともに、回路パターンの積層にあたっては低精度(ラフレイヤー)～中精度のレイヤー(ミドルレイヤー)も必要となるため、セットあたりのフォトマスク枚数も増加し、マスクセット単価が上昇する構造となっております。 また、ウェハ工程の歩留まり向上など、デバイスメーカーにおいてフォトマスクをセットで効率的に運用するには、フォトマスクの仕上がりの傾向やレイヤー間の重ね合わせ精度が重要となります。 このことから、通常フォトマスクを外注する場合は同一のフォトマスクベンダーにセット単位で発注されます。 (2) 当社グループ製品当社グループは顧客より支給される仕様に基づく完全受注生産のため、当社グループの独自の製品ラインナップと呼べるものは存在しません。 他方、フォトマスクはその構造に基づき、以下のように大別することができ、当社グループでは顧客の要求仕様に合わせて各種フォトマスクの生産を受託しております。 ① バイナリマスクバイナリマスクとは単純な遮光膜のパターンのみで形成されるマスクであります。 単純に光を透過する／遮断するという機能のみのマスクで、主として露光波長以上の太さのパターン形成に用いられます。 当社グループではブランクスベンダーとの共同開発により、加工性の高い新型バイナリマスク(OMOG※材)を開発、寸法精度及び解像度の高いバイナリマスクの製造を可能にしました。 ② 位相シフトマスク 位相シフトマスク(Phase-Shifting Mask：PSM)とは、光の位相や透過率を制御する事で、ウェハへの露光時の解像度や焦点深度(DOF：Depth of Focus)を改善し、転写特性を向上させたフォトマスクであります。 露光波長以下のリソグラフィでは標準的に使用されている技術であり、代表的なものに「ハーフトーン型(Attenuated PSM)」※や「レベンソン型(Alternative PSM)」※等があります。 当社グループではブランクスベンダーとの共同開発により、高い転写特性と長寿命を両立させた新型位相シフトブランクスを実現しました。 ③ EUVマスクEUVマスクは既存のDUV光※(ArF※：193nm)よりもさらに短い波長のEUV光(13.56nm)を用いるので、より微細なパターンの露光が可能となります。 従来のDUV光を用いた技術とは異なり、EUVはガラスに吸収されてしまい透過することができず、ガラスレンズによる光の屈折現象で集光が出来ないため、半導体製造プロセスにおけるウェハ露光機及びフォトマスクはいずれも透過型ではなく反射型の光学系となります。 当社グループでは2000年初頭から業界に先駆けてEUVマスクの研究・開発に取り組んできました。 現在は製造技術の構築と先端設備の導入を推進し、量産体制を確立しております。 (3) 当社グループの生産体制について当社グループではアジア5工場、米国1工場、欧州2工場の計8工場でフォトマスクの製造を行っております(現在、シンガポールのみフォトマスク製造工程において前工程にあたるデータ処理工程のみを行っているが、2026年度中に新工場が稼働予定)。 外販フォトマスクの生産においては納期が非常に重要であり、顧客デバイスメーカーより回路パターンのデータを受領後、通常、最先端品でも2週間程度、レガシー品では2～3日程度と、極めて短い納期で納入することが要求されます。 そのため、基本的に地産地消によって顧客の近くに工場を構え生産することが最良とされております。 他方で、半導体需要はその時々、地域や顧客の事情により変動が大きいため、ある工場において単一の顧客又は工場が立地する地域顧客のみをもって工場の稼働率を常に高く維持することは困難であり、現地の最大需要に合わせて設備投資をすることは事業上のリスクを高めると考えられます。 同様に、安易に設備投資、キャパシティ拡張を行うことが難しいため、繁忙期には需要が現地の生産キャパシティを超過する事態も発生し得ます。 当社グループではアジア・北米・欧州すべての地域で現地供給できる体制を整えており、現地顧客に対し短納期で製品を提供することはもちろん、繁忙期において現地工場のみでは対応しきれない顧客需要について、グループ内部の生産委託によって他地域の工場から供給する柔軟な製造体制を構築しております。 これにより複数工場間で生産需要・キャパシティを平準化し、グローバル全体での工場稼働率を高く維持することを可能としております。 当社グループの生産体制 (4) 当社グループの優位性① 技術開発の優位性について当社グループでは材料ベンダーと共同で先端マスクブランクスの開発を行っております。 これにより材料の組成に関与し深い知見を得ることで、先端マスクの生産において、自社の加工プロセスを最適化することが可能となっております。 フォトマスクブランクスの特性はウェハの生産プロセスにも影響を与えるため、顧客プロセスへの最適化も企図したブランクスを開発し、同材料の採用を顧客に提案することで、先端マスク需要をいち早く取り込むことにも寄与しております。 過去の開発成果の一つとして、バイナリマスクでありながら高い精度を実現するOMOG材は、当社での採用にとどまらず、共同開発者であるブランクスベンダーを通して販売され、広く業界内に普及しております。 現在は次世代EUV技術であるHigh-NA※向けEUVマスクブランクスの開発にも取り組んでおり、EUV領域においても当社の開発した技術が業界標準となることを目指しております。 材料開発は、同時に知的財産権による当社グループの優位性構築にも寄与しており、導入初期において販売制限によって他社の参入を排除することはもちろんのこと、普及期においてはロイヤリティ収入を得る形で当社の業績に寄与することになります。 生産技術においても、過去の技術開発ノウハウとそのデータ蓄積に加え、AIの活用により、精度・効率の高いプロセス条件を早期に確立し生産性や良品率の向上を図っております。 当社グループのノウハウは当社グループの生産プロセス改善のみならず、顧客プロセスの生産性向上のため、特に、HAZE※と呼ばれる顧客の生産プロセスにおいて同じフォトマスクを繰り返し使用することで発生するフォトマスクの品質低下に対し、それを抑制する取り組みを強化しております。 HAZEが発生した際は当該フォトマスクのHAZEを除去するメンテナンス作業が必要となるところ、HAZEの抑制は顧客生産ラインの稼働率の維持・向上に直結するため、そのような課題を抱える顧客からは高い評価を得ているものと認識しております。 ② 高度な生産キャパシティ管理について当社グループではクリティカルレイヤーで必要となる先端生産設備のみならず、成熟レイヤー・ミドルレイヤーで必要となるレガシー生産設備も多数保有しております。 これにより先端半導体デバイスにおけるフォトマスクの需要に対し、クリティカル～ラフレイヤーまで、セット単位で対応することができることに加え、量的需要が旺盛なレガシー半導体向けにも対応することが可能であり、広範囲なテクノロジーノードの需要に対応することが可能となっております。 過去に普及したレガシーノード向け生産設備は、既に市場から同じ機種を調達することが困難となっており、新たに調達する場合はオーバースペックとなる先端ノード向けの生産設備を購入せざるを得ません。 当社グループではレガシーノード向けフォトマスク生産設備の延命・維持管理にも力を入れており、セルフメンテナンスのノウハウ構築や、EOL※を迎えたパーツの代替品開発まで幅広く取り組んでおります。 これによってレガシー設備の更新投資を最小化し、競合他社、とりわけ参入障壁の低いレガシーノード領域において新興フォトマスクメーカーに対し大きなコストアドバンテージを得ることにつなげております。 ③ グローバル生産体制によるタイムリーかつ柔軟な製品供給について当社グループでは複数の製造拠点が連携して生産を行っており、製造拠点間のバックアップによって短納期での製品供給とBCP(事業継続計画)を実現しております。 通常、フォトマスクの生産に用いる描画機や検査機といった主要設備は、フォトマスク生産の受注前に顧客の使用許諾(認定)が必要であり、仮に同型機種であっても、その性能において個々に異なる傾向を示すことがあるため、工場が異なれば別個に認定を要求されることも少なくありません。 当社グループでは各生産設備のパラメータに補正をかけプロセス条件を最適化することで、異なる工場の生産設備を使用しても同じ特性の仕上がりとなるよう、サイト間・設備間のデータマッチング技術の高度化に注力しており、その成果として、短期間で複数の生産工場について認定を取得することを可能としております。 複数拠点での生産認定に加え、AIを用いた生産管理システムを構築することで、過去の生産データから各設備の工程能力や出荷までの工数を試算し、納期及び設備稼働の最適化を実現すべく、同生産管理システムの開発と改善に取り組んでおります。 フォトマスクは顧客の半導体デバイスの設計に合わせた一点一様の製品であり、製品の仕様とその時々の各生産設備の稼働状況に合わせて、多岐に渡る使用すべき装置の組み合わせから、最適な工程順を検討する必要があります。 特に、検査工程で欠陥が見つかった場合は修正工程と検査工程を複数回繰り返す可能性があるため、出荷納期のコントロールは容易ではありません。 本生産管理システムを用いることで、納期予測の精度向上と、迅速かつ正確な顧客への納期回答を可能とし、得意先からの信頼向上や出荷枚数の増加を目指しております。 ④ 最先端領域での取り組みについて当社グループでは最先端領域において様々なパートナーとの共同開発プロジェクトに取り組んでおります。 フォトマスクの材料ベンダー、生産設備ベンダーのみならず、Interuniversity Microelectronics Centre(imec)などの研究開発機関を介してウェハ工程も含めた様々な先端技術開発プレイヤーとの協働を展開しており、特に直近ではInternational Business Machines Corporation(IBM)社と2nm半導体向けEUVマスクのプロセス共同開発契約を締結しております。 また、当社内部の取り組みとしてもマルチビーム描画装置※を用いたEUVマスク生産の技術深耕に加え、半導体製造工程のウェハプロセスにおける光の性質を考慮して、フォトマスク上の回路パターンの最適化を図るCurvilinear※技術の開発にも注力しており、EUVのみならず従来型の光リソグラフィにおけるさらなる技術進展にも対応すべく、技術開発・研究開発の取り組みを進めております。 (新事業領域)当社グループは半導体用フォトマスク事業を通じて培ったリソグラフィ技術を応用し、高精度なナノインプリント用モールド及びシリコンステンシルマスクを開発、製造しております。 (1) ナノインプリント用モールドナノインプリントとは、樹脂をモールドと呼ばれる型と基板で挟み込み硬化させることで、数十ナノメートル単位のパターンを転写する微細加工技術であります。 工程がシンプルなため、微細構造体を安価に再現性良く大量に製造する技術として期待されております。 当社グループは半導体用フォトマスク事業を通じて培ったリソグラフィ技術を応用し、高精度なナノインプリント用モールドを開発、製造しております。 (2) シリコンステンシルマスクシリコンステンシルマスクは、パターンを形成するためにナノスケールの貫通開口を加工した電子ビームリソグラフィ(EBリソグラフィ：Electron Beam Lithography)用のマスクであります。 EBリソグラフィは、先端マスクを作製するための技術として、半導体業界で研究が進められております。 当社グループは微細加工技術をコア技術としてステンシルマスクの開発を進め、供給体制を構築しております。 (※用語)フォトリソグラフィ紫外線(UV)、深紫外線(DUV)、極端紫外線(EUV)などの光源を用いて回路パターンを転写する工程。 プロセスノードプロセスノードとは、半導体製造における微細加工技術の世代や規模を示す指標であり、一般的には、トランジスタのサイズ(ゲート長)や回路の線幅などの最小寸法をナノメートル(nm)単位で表す。 「プロセス」を略して単に「ノード」と呼ぶこともある。 IoTInternet of Things(モノのインターネット)の略で、さまざまな「モノ」がインターネットに接続され、情報をやり取りする仕組みのこと。 従来は人がパソコンやスマートフォンを使ってインターネットにアクセスしていましたが、IoTでは身の回りの「モノ」自体がネットに接続される。 新型バイナリブランクス(OMOG：Opaque MoSi on Glass)遮光膜にCr(クロム)に従来型のバイナリブランクスに代わり、当社が材料メーカーと共同開発した、MoSi(モリブデン・シリサイド)を使用したバイナリブランクスのこと。 ハーフトーン型(Attenuated PSM)180度の位相差を付けた半透明遮光膜を用いたフォトマスクのこと。 光は物質を透過する時に伝播速度が遅れ、その分だけ位相が変わることから、その性質を利用して、半透明な遮光膜をフォトマスク上に付けるとパターンの部分で局所的に位相を変えることが可能となる。 レベンソン型(Alternative PSM)フォトマスクに光の位相差を発生させる透明膜を付けたり、フォトマスクのガラスをエッチングして位相差を発生させるタイプの位相シフトマスクのこと。 DUV光Deep Ultravioletの略で、フォトリソグラフィにおいて使用される深紫外線。 ArFArgon Fluoride(フッ化アルゴン)エキシマレーザーのこと。 半導体製造で用いられる特殊な光源。 波長が193nmと非常に短いため、微細なパターンを形成するのに適している。 High-NAEUVプロセスにおけるレンズ開口数NAを従来の0.33から0.55に高める技術。 HAZE露光を繰り返すことで、露光エネルギーがフォトマスク表面のガス状異物に作用し、フォトマスク表面に曇りや成長性の異物を発生させる現象。 EOL「End Of Life」の略称であり、ここではフォトマスク製造装置メーカーが旧世代機種に対する保守サービスや保守パーツの提供を終了すること。 マルチビーム描画装置複数の電子ビームを同時に使用して回路パターンを描画する描画装置のこと。 Curvilinearより複雑な設計のウェハを製造するために、フォトマスク上のパターンに曲線形状を利用する技術。 (事業系統図) |
| 関係会社の状況 | 4 【関係会社の状況】 名称住所資本金主要な事業の内容議決権の所有又は被所有割合(％)関係内容(連結子会社) Tekscend Photomask US Inc.(注2)米国テキサス州1USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask Round Rock Inc.(注5)米国テキサス州1USドルフォトマスク事業100.0(100.0)役員の兼任製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask North America Inc.米国テキサス州10千USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任Tekscend Photomask Germany GmbHドイツザクセン州25千ユーロフォトマスク事業100.0製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask GmbH(注4)ドイツザクセン州25千ユーロフォトマスク事業100.0―Tekscend Photomask France S.A.S.(注2)フランスエソンヌ県2,000千ユーロフォトマスク事業100.0製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask Korea Inc.(注2、5)韓国利川市500百万ウォンフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask Singapore Pte. Ltd.(注2)シンガポール58,250千USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売中華科盛德光罩股份有限公司(注2、5)台湾桃園市2,742百万台湾ドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入上海徐匯科盛徳半導体有限公司(注2、5)中国上海市93,434千USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入科盛德半導体材料(上海)有限公司(注2)中国上海市40,000千USドルフォトマスク事業100.0(100.0)―Tekscend Photomask HK Company Limited(注2)中国香港特別行政区40,000千USドルフォトマスク事業100.0(100.0)―Tekscend Photomask Cayman Inc.(注2)ケイマン諸島40,000千USドルフォトマスク事業100.0―(持分法適用関連会社) Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG(注6)ドイツザクセン州6,000千ユーロフォトマスク事業50.0(50.0)製品等の販売材料等の購入Maskhouse Building Administration GmbH & Co. KG(注6)ドイツザクセン州10,000千ユーロフォトマスク事業50.0(50.0)―(その他の関係会社) TOPPANホールディングス株式会社(注7、8)東京都台東区104,986百万円情報コミュニケーション事業分野、生活・産業事業分野及びエレクトロニクス事業分野被所有46.55役員の兼任土地及び一部建物の賃貸借 (注) 1．「主要な事業の内容欄」には、セグメント情報に記載された名称を記載しております。 2．特定子会社であります。 3．「議決権の所有(又は被所有)割合」欄の( )内は間接所有割合で内数であります。 4．Tekscend Photomask GmbHは休眠会社であります。 5．Tekscend Photomask Round Rock Inc.、Tekscend Photomask Korea Inc.、中華科盛德光罩股份有限公司及び上海徐匯科盛徳半導体有限公司については、売上収益(連結会社相互間の内部売上収益を除く。 )の連結売上収益に占める割合が10％を超えております。 主要な損益情報等は以下のとおりであります。 なお、Tekscend Photomask Round Rock Inc.における主要な損益情報等については、米国会計基準に基づいております。 会社名売上収益(百万円)営業利益(百万円)当期利益(百万円)総資産額(百万円)純資産額(百万円)Tekscend Photomask Round Rock Inc.25,2901,5241,04125,2636,145Tekscend Photomask Korea Inc.23,0404,9934,00518,19311,780中華科盛德光罩股份有限公司39,68415,21112,74151,01941,033上海徐匯科盛徳半導体有限公司19,7011,7021,94226,94021,024 6．持分法適用関連会社の2社に関しては、GlobalFoundriesが50％の持分を保有しております。 7. TOPPANホールディングス株式会社以外に有価証券届出書又は有価証券報告書を提出している会社はありません。 8．TOPPANホールディングス株式会社は、当社の株式46,237千株(議決権比率50.10％)を保有する親会社でありましたが、2025年10月16日付の当社株式の東京証券取引所プライム市場への上場に伴う当社株式の募集・売出により、同社の当社株式の議決権比率が46.57％となり、当社の議決権の過半数を有しないこととなったため、同社は当社の親会社ではなくなりました。 |
| 従業員の状況 | (2) 【従業員の状況】 ① 連結会社の状況2026年3月31日現在セグメントの名称従業員数(名)フォトマスク事業1,944[158]合計1,944[158] (注) 1．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。 2．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。 3．臨時従業員は、契約社員、パートタイマー及びアルバイトであります。 4．当社グループの報告セグメントはフォトマスク事業の単一セグメントであるため、セグメント別の従業員数の記載はしておりません。 ② 提出会社の状況 2026年3月31日現在従業員数(名)平均年齢(歳)平均勤続年数(年)平均年間給与(千円)平均年間給与の対前事業年度増減率(％)49943.53.38,0701.5[80] (注) 1．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。 2．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。 3．平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。 4．当社はフォトマスク事業の単一セグメントであるため、セグメント別の記載はしておりません。 ③ 労働組合の状況当社の労働組合は、テクセンドフォトマスク労働組合と称し、2026年3月31日現在の組合員数は413人であり、上部団体の全日本電機・電子・情報関連産業労働組合連合会(電機連合)に所属しております。 なお、労使関係については円滑な関係にあり、特記すべき事項はありません。 ④ 管理職に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休業取得率及び労働者の男女の賃金の差異(ⅰ)提出会社 当事業年度補足説明管理職に占める女性労働者の割合(％)(注1)男性労働者の育児休業取得率(％)(注2)労働者の男女の賃金の差異(％)(注1)全労働者正規雇用労働者うち管理職パート・有期労働者8.4100.080.180.396.657.9― (注) 1．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」(平成27年法律第64号)の規定に基づき算出したものであります。 2．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」(平成3年法律第76号)の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」(平成3年労働省令第25号)第71条の6第1号における育児休業等の取得割合を算出したものであります。 (ⅱ)連結子会社連結子会社は、海外籍であり、また、「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」(平成27年法律第64号)又は「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」(平成3年法律第76号)の規定による公表義務の対象外となるため、記載を省略しております。 |
| 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等 | 1 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 当社グループの経営方針、経営環境及び対処すべき課題等は、以下のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1) 経営方針当社グループは、2025年4月1日、グループ全体が目指す方向性と価値創造の基本的な考え方を明確化した「Mission・Vision・Values(MVV)」を制定し、この「MVV」のもと、事業環境の変化に的確に対応しながら、中長期的な企業価値の向上を図ることを経営方針として掲げております。 制定した「MVV」では、Mission(使命)として、「先端微細加工技術で革新的な未来を描く」を掲げ、半導体産業の発展を支えるフォトマスク分野において、最先端技術と高品質な製品・サービスを提供することにより、社会及び産業の持続的な成長に貢献してまいります。 Vision(ありたい姿)としましては、「常に選ばれる存在へ」を掲げ、世界を変える「テクノロジー」、ステークホルダーと築く「共通価値」、多様な人財が活躍する「人と組織」という視点を基盤に据え、様々な期待を超え続け、常に選ばれる企業の実現を目指し、EUVマスクをはじめとする先端領域を中心とした継続的な研究開発並びに設備投資を行い、技術力と供給力のさらなる高度化を図ってまいります。 また、Values(価値観)として、「誠実さ」「顧客志向」「多様性が生む革新」「世界を見据え、地域とともに」「不断の改善」という思いを共有し、誠実さを貫き社会的責任を果たすとともに、お客さまの成功の先に当社の成長があるとの考えのもと、文化や価値観の交わりから新たなソリューションを創出し、グローバルな視点を持ちながら地域とともに持続的な成長を実現してまいります。 これらのMVVに基づき、当社グループは、世界各地に展開する生産・サービス拠点を活用した安定供給体制の強化、品質・安全・環境に配慮した事業運営の徹底、人財育成及びガバナンス体制の高度化に取り組んでまいります。 加えて、積極果敢な挑戦と不断の改善を通じて、既存事業の競争力向上にとどまらず、微細加工技術を応用した新たな事業領域の創出にも取り組むことで、中長期的な企業価値の向上を目指してまいります。 (2) 経営環境 フォトマスク市場に大きな影響を与える半導体市場は、最終製品分野別の需要動向には引き続き濃淡が見られるものの、生成AIの普及拡大やクラウドサービス需要の増加を背景としたデータセンター向け投資が引き続き高水準で推移しました。 高性能演算を担うロジック製品や、データ処理量の増加に対応するメモリ製品を中心に需要の回復及び成長が進み市場を大きくけん引するなど、半導体市場全体としては回復・拡大基調が継続する事業環境となりました。 このような半導体市場の拡大を背景に、フォトマスク市場においては、先端ノードから成熟ノードまで、すべてのプロセスにおいて需要が堅調に推移しました。 先端領域では、半導体の微細化及び高集積化の進展に伴い、高精度かつ高付加価値なフォトマスクに対する需要が引き続き堅調であり、安定した受注環境が継続しました。 また、成熟プロセス向けにおいても、幅広い用途での需要が維持され、底堅く推移しました。 外販フォトマスク市場においては、フォトマスクを内製しないファウンドリからの外注需要の拡大に加え、フォトマスクを内製する半導体メーカーにおいても、内部リソース不足を背景として外注需要が高まりました。 (3) 優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題① フォトマスク事業の拡大(ⅰ)フォトマスク事業成長領域の戦略的連携強化と成長当社グループが持続的な成長を実現していくためには、市場成長が予想される地域に対し適切に設備投資を行い、生産能力を拡大するとともに、新たな技術領域に対して技術力・研究開発力を強化し差別化していくことが不可欠であります。 地域戦略では、各国・地域における業界動向や産業政策、輸出規制等を注視しながら投資機会を見極めてまいります。 特に、量的需要の拡大が見込まれる米国及び中国を除くアジア各国の需要を重視し、生産能力拡大に向けた設備投資を進めてまいります。 一方、これまで市場成長をけん引してきた中国市場については、米中間のデカップリングの進展及び同国政府による国産化政策を背景として現地競合企業との競争が激化していることから、収益性を重視した選択的な事業展開と設備投資を行ってまいります。 また、いずれの地域においても、現地当局との関係構築や有力顧客との長期供給契約の締結を通じて、安定的な取引関係を構築し、強固な事業基盤を確立することにより、当社グループの市場におけるポジションをより盤石なものとしていくことが重要であると考えております。 先端技術領域においては、当社グループは既に、フォトマスクの技術開発及び生産に不可欠なマルチビーム描画装置を朝霞工場及びドレスデン工場に導入しEUVマスクの開発・生産を開始するとともに、Curvilinear等の最新技術を用いた光マスクの生産への適用を進めております。 特に、EUVマスクについては、ブランクスメーカーとの協業によるHigh-NAリソグラフィ向け新規ブランクス開発や、IBM社とのプロセス共同開発等を推進し、次世代EUVマスク分野において競合他社に先行することを目指しております。 (ⅱ)レガシー領域の戦略的強化半導体市場では、28nm以細の先端ノードのみならず、いわゆるレガシー領域においても今後の成長が見込まれております。 これは、AIやデータセンター向けに比較的高性能な半導体需要が増加していることに加え、レガシー領域においてはIoTや自動運転等多様なアプリケーションの開発と普及により、必ずしも高度な性能を必要としない半導体の量的需要が増加していることに起因しております。 当社グループでは、こうした需要に対してタイムリーにフォトマスクを供給する体制を維持するため、各工場におけるレガシー装置について、グループ全体最適の目線で更新投資計画を策定し、効率的かつ計画的な更新を進めております。 加えて、装置延命や自社内保守技術の高度化により、稼働率の維持・向上及び原価低減を図るとともに、装置ベンダーとは異なる後発ベンダーとの連携による代替パーツの共同開発等も進めることで、競争力のある生産設備ラインナップの確保に努めてまいります。 (ⅲ)グローバル製造拠点のバーチャル「1」工場化当社グループは、得意先と同一国内に所在する製造拠点での生産を原則としつつ、顧客要求仕様や各製造拠点における設備の稼働状況及び生産能力等を勘案し、拠点間で互いに生産委託を行うことにより、グループ全体で需給最適化及び生産量の最大化に取り組んでおります。 本施策をさらに高度化するため、8つの製造拠点が連携し、あたかも1つの工場として機能する「バーチャル『1』工場」化を推進しております。 具体的には、拠点間の生産委託プロセスの自動化や、生産日程計画におけるAIエンジンの開発・適用を進めることで、ワークフロー改革を通じた生産効率の向上及び供給力の強化に取り組んでまいります。 ② 新事業開拓当社グループでは、フォトマスク事業で培った微細加工技術を応用し、ナノインプリント技術において金型として用いられるモールドを製品化しております。 ナノインプリント技術は多様な用途で応用が期待されておりますが、当社では特に今後大きな市場形成が期待されるARグラスに用いられるWaveguide※用モールドを事業化すべく、現在普及しているバイナリー構造に加え、各種3D構造マスターモールド※による競争力のある製品の開発と顧客開拓を進めております。 現在、日本及び欧州において3D構造マスターモールドの生産体制を構築しており、3Dモールド市場における当社グループのプレゼンスを強化し、顧客ニーズに迅速に応えられる体制の確立を推進しております。 さらに、中期的な戦略として、ナノインプリント技術を活用した受託加工サービスを日本で展開すべく、その中核となる試作ラインを朝霞工場に構築しました。 ARグラスやメタレンズなどのフォトニクス市場が求める高品質な光学部品の開発能力を強化し、量産に向けた体制の構築を進めております。 ③ サステナビリティに関する取り組み当社グループは、持続的な成長と環境・社会への貢献を実現するために重点的に取り組む課題として、環境・社会・ガバナンスそれぞれの領域におけるマテリアリティを特定し、課題解決に向けた取り組みを進めております。 特定したマテリアリティについては、「第2 事業の状況 2 サステナビリティに関する考え方及び取組 (1) サステナビリティ全般への対応 ④ 戦略」に記載しております。 (4) 経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等当社グループは、持続的な企業価値の向上につながる収益性の管理に加え、積極的な事業投資と財務の健全性の両立及び利益成長に応じた株主還元の強化を図るべく、「売上収益成長率」「営業利益率」を経営上の重要な経営指標として位置付けております。 なお、各指標の算定方法は以下の通りであります。 売上収益成長率＝(当連結会計年度の売上収益－前連結会計年度の売上収益)÷前連結会計年度の売上収益 営業利益率＝営業利益÷売上収益 (※用語)Waveguide光を特定の方向に導くための光学デバイスのことで、AR／VRヘッドセットなどのデバイスで使用される。 マスターモールドナノインプリント技術において使用される金型のこと。 当社では3D構造のマスターモールドをフォトマスク事業で培ったリソグラフィ技術により作成している。 |
| 戦略 | ④ 戦略当社グループは、持続的な成長と環境・社会への貢献を実現するために重点的に取り組む課題として、環境・社会・ガバナンスそれぞれの領域におけるマテリアリティを以下のとおり特定し、課題解決に向けた取り組みを進めております。 マテリアリティの特定にあたっては、SASBスタンダード等の国際的なESG情報開示ガイドラインの内容やESG評価機関の評価項目、当社グループを取り巻く社会課題等を総合的に勘案し、サステナビリティ経営課題を抽出・整理しました。 そして、抽出したサステナビリティ経営課題を「当社グループにとっての財務的影響度」「ステークホルダーにとっての影響度」の両面でマトリクス評価を行い、重要度がより高い項目を当社グループのマテリアリティとして特定しております。 マテリアリティ主な取り組み環境気候変動対応・再生可能エネルギーの導入やエネルギー効率改善計画、それに必要な設備投資計画の策定・実行水資源の適正使用・水使用量削減計画の策定・実行・水質基準に照らした汚染防止施策の実行生物多様性の保全・当社グループの各拠点における現地国・地域の状況等に応じた実行計画の策定、執行状況の調査社会人権と責任ある労働慣行の推進・従業員向けの人権に関するトレーニングや教育の実施・企業競争力向上に向けた多様な人財の登用・賃金水準、労働時間、休暇などの雇用条件が社会情勢等に適合するよう、定期的な見直し地域社会への貢献・地域の自然資源や景観の保全、地域の環境への負荷軽減に対する取り組みへの参加人的資本開発・従業員のスキル、経験に応じた教育プログラム、トレーニングセッションの計画的な実施・基礎的又は新しい技術やプロセスへのトレーニングを受けた従業員の履歴を管理し、今後のスキル開発への活用ガバナンス実効性の高い経営・知識、経験、能力のバランスが取れた経営陣の配置と、それによる適切な経営判断の実現強固なコンプライアンス体制の整備・危機管理委員会、コンプライアンス委員会、サステナビリティ委員会の定期的な開催、取締役会との連携によるリスク・コンプライアンス管理の維持・強化・各国・地域の法令・規制に適合した企業活動の実施シェアホルダー・エンゲージメントの推進・株主総会のほかにも株主と対話する機会創出への積極的な取り組み、及び企業経営への反映 |
| 指標及び目標 | ⑤ 指標及び目標環境・社会・ガバナンスそれぞれの領域におけるマテリアリティの特定に併せ、マテリアリティごとに指標及び目標を設定するとともに、各年度における目標の進捗状況について定期的なモニタリングを実施し、サステナビリティ委員会に報告しております。 マテリアリティ指標・目標環境気候変動対応・CO2排出量(Scope1+2)：2030年度に2017年度比35.1％削減水資源の適正使用・規制値超過による行政措置件数：0件生物多様性の保全・当社グループの各拠点における現地国・地域の状況等に応じた執行状況の調査完了社会人権と責任ある労働慣行の推進・グローバルでのエンゲージサーベイを実施(2025年度以降) ※結果を踏まえ翌年度以降改善目標を改めて設定地域社会への貢献・地域社会活動・環境活動への参加件数／参加者数：前年度比プラス人的資本開発・スキル向上に向けた従業員研修時間、回数：前年度比プラスガバナンス実効性の高い経営・スキルマトリクスの作成、開示：1回／年・取締役会実効性評価の実施：1回／年強固なコンプライアンス体制の整備・重大法令違反件数：0件シェアホルダー・エンゲージメントの推進・決算説明会など対話機会の確保：年4回以上・株主へのアンケート実施、分析、開示 |
| 人材の育成及び社内環境整備に関する方針、戦略 | ① 人財開発ポリシー／エンゲージメントの向上人財開発は、当社が直面する事業、組織、環境等の変化に対応し、従業員一人ひとりの成長、育成を通じて組織力を向上し、会社の成長につなげることを目的としております。 (ⅰ)グループ全体での共通理念・価値観の醸成当社グループは、世界中のお客様の期待に応え、さらにその期待を常に超えていくために、「One Team」、「One Operation」をスローガンとして掲げ、組織が一丸となってチームワークを発揮し、グループ全体で最高のパフォーマンスを実現するために不可欠となる共通理念、価値観の共有を、推進しております。 2025年度には、当社として初めて、グループ全体でエンゲージメントサーベイを実施し、各拠点で従業員のエンゲージメントを高め、組織全体のパフォーマンスの向上を図るべく様々な施策を講じるとともに、当社のMVVのさらなる浸透を図り、それを体現し、世界で戦える組織・人財づくりを推進するべく、「会社としてのコミットメント」と「組織ビジョン」を策定しました。 ＜会社としてのコミットメント＞グローバルで活躍できる機会の提供・会社が発展を目指し、持続的に成長することで、社員にグローバルで活躍するフィールドを提供する。 人財育成と成長実感・多様な人財が集い、協働することで、「組織の成長」と「個人の成長」がつながり、「成長」や「貢献」 を実感できる職場環境を創造する。 ＜組織ビジョン＞「主体性」、「挑戦」を推奨し、成長や貢献を実感できる自律した組織 ・社員一人ひとりが会社方針を理解し、顧客志向で自らの役割を主体的に考え、行動に移す。 ・部署を超えた対話や交流で関係の質を高め、組織全体で最高のパフォーマンスを追求する。 ・上司や関連部門が社員のチャレンジを支援し、改善の継続、変革を促進する。 (ⅱ)主体的なキャリアの形成当社グループは、従業員一人ひとりが自身の役割に基づき、それぞれのポジションにおいてパフォーマンスを最大化することで、組織全体のパフォーマンスを向上するとともに、会社の成長、発展に合わせて、次のキャリアの選択肢を形成していくことが重要と考えております。 社員の能力向上及び自律的なキャリア形成を支援するため、日常の業務を通じた上司との対話において、社員一人ひとりが自身の役割と成長課題を認識できる仕組みを構築するとともに、階層別研修や専門分野別研修等の体系的な提供、社内公募や自己申告制度など適切な機会の提供に努めております。 (ⅲ)経営／マネジメント／ビジネスに関する基礎知識・能力取得による組織力向上当社グループは、従業員一人ひとりが自身の役割を正確に認識し、役割に必要な知識・スキルを有すると同時に、組織の壁を越えて連携することが組織のパフォーマンス向上につながると考え、多様な研修プログラムを提供しております。 2026年度は、教育・研修プログラムのさらなる充実を図り、デジタル人財の育成や将来の経営を担う人財の育成を計画的に行うとともに、社内外の人財交流を通じて、視野の拡大や視座・視点の引き上げによって、新たな価値創造につなげてまいります。 また、当社グループは、人財育成を通じて組織力の向上を図るため、2025年度より研修効果を測定するサーベイツールを新たに導入しており、研修満足度の把握に留まらず、研修の学びの深さ、現場での活用、行動変化を定点で可視化することで、効果的なプログラムの立案と継続的なプログラムの改善を行っています。 (Ⅳ)AI／DX人財の育成と活用推進国内外でAI／DX人財を戦略的に育成するとともに、組織や国・地域を超えた連携を強化する機会を創出することで、業務効率、生産性の大幅な向上を図り、人員体制の効率化も進めてまいります。 また、技術開発や品質改善を加速し、データとAIを重要な資産として活用するデータドリブン経営を推進してまいります。 (Ⅴ)組織文化の浸透／エンゲージメントの向上社員エンゲージメントと社員を活かす環境の整備の施策として、マネジメントの強化、コミュニケーションの活性化、主体性やチャレンジ、学びや成長を会社全体で支援するための組織風土・仕組みづくりを進めています。 こうした活動を通して、エンゲージメントスコアの向上を図るとともに、信頼関係を基盤にチームパフォーマンスの最大化を目指してまいります。 ＜エンゲージメントスコア＞ 2025年度実績2026年度目標2027年度目標社員エンゲージメント65対前年+4P対前年+4P社員を活かす環境66対前年+4P対前年+3P ② ダイバーシティ、エクイティ＆インクルージョン(DEI)の推進当社グループでは、将来にわたって持続的に成長・発展していくためには、年齢や性別、人種や国籍を問わず、従業員一人ひとりの多様性を尊重しつつ、各人がパフォーマンスを最大限に発揮することが必要不可欠であるという認識のもと、異なる視点を持つ従業員同士が協働し、学び合うことで、企業とともに従業員の成長・発展につなげ、従業員一人ひとりが世界を舞台に一層活躍できる環境を整備しております。 (ⅰ)各部門における、専門性の高い多様な人財の雇用促進当社グループは、中長期的な事業成長を支えるため、新卒採用とキャリア採用を併用するとともに、リファラル採用、アルムナイ等、多様なルートを通じて、必要な人財を計画的に確保しております。 また、採用にあたっては、専門性、経験、価値観の多様性を重視し、性別、年齢、国籍等にとらわれない公正な機会提供に努めています。 2024年度実績2025年度実績2026年度計画経験者採用者の比率(採用人員比)58.1％58.6％43.2％女性社員の比率(人員比)14.1％16.6％17.1％外国籍社員の比率(人員比)2.8％3.9％4.0％ (ⅱ)女性活躍推進／障がい者雇用の取り組み当社グループは、女性活躍に向けて、アファーマティブ・アクション(積極的な格差是正措置)の考えのもと行動計画を策定し、様々な取り組みを行っております。 当社における管理職に占める女性労働者の割合は、2025年度実績で8.4％となっており、2030年度までに15.0％とすることを目標としております。 当社グループは、障がい者の雇用に向け、近隣の特別支援学校と連携し、継続的な採用活動を行うとともに、自動扉やトイレなどの構内の労働環境整備を進めるなど、誰もが安心して、活き活きと働ける会社の実現に取り組んでおります。 ③ 働き方改革育児や介護との両立など働き方のニーズが多様化する中、就業機会の拡大や意欲・能力を存分に発揮できる環境整備を進め、生産性の向上をはかりながらワークライフバランスを実現するべく、当社グループは、育児や介護などのライフイベントに対応した様々な施策を講じるとともに、在宅勤務やスマートワーク勤務など、柔軟な働き方が可能となる勤務制度の拡充に取り組んでおります。 併せて、AI/DXの活用による業務効率の向上、機能性と利便性を有したオフィス環境の整備など、ソフト／ハード両面にわたる生産性の向上を通じて、仕事と生活の両立、ワークライフバランスの実現を目指す取り組みを推進しております。 ④ 従業員の健康と安全の維持・向上当社グループは、従業員の安全と心身の健康を重要な経営課題と捉え、ゼロ災害を推進するとともに、長時間労働の抑制や就業管理の適正化、柔軟な働き方の推進に取り組んでいます。 加えて、健康保険組合やEAPを支援する企業と連携し、健康保持・増進、メンタルヘルス支援に関する各種施策を通じて、安心して働き続けられる職場環境の整備を進めています。 上記のような取り組みを通じて、当社グループは、事業戦略及び外部環境の変化を踏まえつつ、人財戦略の高度化を図り、人的資本への継続的な投資を通じて、企業価値の持続的向上と社会からの信頼確保に取り組んでまいります。 ⑤ 指標及び目標人的資本・多様性に関する取り組みのうち多様性については、性別、経験者(通年)採用及び国籍の3つの観点から取り組みを進めており、当社の主な指標及び目標と実績につきましては、以下のとおりであります。 |
| 人材の育成及び社内環境整備に関する方針に関する指標の内容並びに当該指標を用いた目標及び実績、指標及び目標 | 指標目標2025年度実績管理職に占める女性労働者の割合(％)(注1)2030年度までに15.0％8.4％男性労働者の育児休業取得率(％)(注2)30.0％100.0％経験者採用者の割合(％)前年比増+0.5％外国籍社員の割合(％)前年比増+1.1％ (注) 1．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」(平成27年法律第64号)の規定に基づき算出したものであります。 2．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」(平成3年法律第76号)の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」(平成3年労働省令第25号)第71条の6第1号における育児休業等の取得割合を算出したものであります。 |
| 事業等のリスク | 3 【事業等のリスク】 本書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主なリスク、リスクの顕在化の可能性、顕在化の時期、連結業績等への影響度及びリスクへの対応は、以下のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1) 経営に関するリスク① 半導体業界の需要変動に関わるリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：中期～長期、影響度：大)当社グループの主力事業を取り巻く半導体業界は、需要変動が大きく、経済環境や地政学リスク等の影響を受けやすい事業環境にあります。 世界経済の動向次第では、景気後退等を背景として半導体を使用する電子機器の需要が減少し、半導体市場全体の需要が縮小する可能性があります。 また、IDMやファウンドリの事業戦略の変化により外販フォトマスクの需要が変動する可能性があるほか、特定地域における政治・経済的な不安定化や貿易摩擦等が半導体サプライチェーンに影響を及ぼした場合、フォトマスク需要に変動が生じる可能性があります。 これらのリスクが顕在化した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループはEUVマスクやCurvilinear技術等の次世代技術の開発及び設備投資を継続的に実施し、半導体市場の技術革新に対応しております。 フォトマスク需要のうち、研究開発フェーズにおける需要は量産フェーズに比べて経済動向の影響を受けにくい特性があることから、顧客や装置ベンダー等との共同開発を通じて、研究開発段階から技術パートナーとして参画できる体制を構築することにより、量産前の段階から一定の需要を確保し、半導体市場の需要変動が業績に与える影響の低減に努めております。 ② 競合に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：中期～長期、影響度：大)フォトマスク市場は、半導体メーカーが自社で製造する「内製」と、外部ベンダーが供給する「外販」に大別され、外販市場は当社グループを含む比較的少数のフォトマスクベンダーにより構成されております。 このため、主要な販売先であるIDMやファウンドリが内製による調達方針を強化した場合や、外販フォトマスクベンダー間における価格競争等が激化した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローに影響を及ぼす可能性があります。 また、近年、中国において新興のフォトマスクベンダーが多数台頭しており、価格競争や技術競争の激化が懸念されております。 加えて、将来的に半導体メーカーの内製部門が外販事業を展開する可能性も否定できず、これら競合環境の変化が当社グループの事業環境に不確実性をもたらすリスクがあります。 (リスクへの対応)当社グループは、最先端ノードからレガシー領域まで幅広く対応可能な技術開発や設備投資を推進するとともに、生産効率の向上やコスト競争力の強化に取り組んでおります。 また、研究開発段階から顧客と連携し、フォトマスク製造専業としての独立性と信頼性を活かすことで、継続的な取引関係の構築に努めております。 さらに特定顧客への依存度を抑制するため、幅広い販売先との取引関係の構築を進めております。 ③ サプライチェーンに関するリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：―、影響度：大)当社グループは、事業に必要となる原材料、製造設備・部品及びエネルギー等を、外部のサプライヤーや協力企業から調達しております。 半導体製造においては、特定の原材料や製造設備において限られたサプライヤーが大きなシェアを有する場合があり、これらの供給に支障が生じた場合、半導体サプライチェーン全体に大きな影響を及ぼす可能性があります。 特に、フォトマスクの製造受託においては、使用する材料や製造設備が顧客の認定(使用許諾)により指定されるケースが多く、当社グループの判断のみで代替材料や設備へ切り替えることが困難な場合があります。 加えて、認定範囲の拡大には、顧客による評価が必要となり、許諾取得までに一定の期間を要することがあります。 このため、認定済みサプライヤーや協力企業が地政学的な事象や災害により被災、倒産、廃業した場合、又は品質問題が発生した場合には、原材料等の安定的な調達が困難となり、当社グループの業績及び財務状況に影響を及ぼす可能性があります。 また、原材料やエネルギー価格の高騰についても、当社グループの業績及び財務状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、顧客から提示されるフォーキャスト情報に基づき、サプライヤーや協力企業との間で密な情報共有を行い、安定的な調達体制の構築に努めております。 また、BCPの観点から、需要の多い材料や使用設備について、代替となる認定対象や認定範囲の拡大を顧客に適宜提案する取り組みを進めております。 加えて、不測の事態に備え、各拠点において適切な在庫水準を確保するとともに、拠点間で在庫を融通可能な体制を構築することで、供給リスクの低減を図っております。 ④ 国際取引に伴う外部環境の変動によるリスク(顕在化の可能性：中～高、顕在化の時期：短期～中期、影響度：大)当社グループは、国内外において生産及び販売活動を展開しており、海外市場向けに製品・サービスを提供しております。 このため、外貨建て取引に伴う為替相場の変動は、短期的に当社グループの業績に影響を及ぼす可能性とともに、海外子会社の現地通貨建て財務諸表の円換算においても、為替相場の変動が影響する可能性があります。 また、米国政府による関税措置の強化や輸出入規制の変更をはじめとする、各国・地域の安全保障政策や産業政策の変化によって、当社グループの競争力が相対的に低下し、売上高及び利益に悪影響を及ぼす可能性があり、輸出規制等に抵触した場合には、輸出禁止、罰金等の行政処分や刑事罰を受けるリスクがあります。 これらの国際取引に伴う外部環境の変動や為替相場の変動が顕在化した場合には、当社グループの事業活動、経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローに影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、各国・地域における通商政策や安全保障政策の動向を継続的にモニタリングし、当社グループ事業への影響を分析するとともに、事前に対応策についての検討を行うことでリスク低減に努めております。 為替変動については、グループ全体で受注・製造・出荷・売上等の財務情報や金利動向に係わる情報共有のもと、金融機関による市場分析を踏まえつつ、必要に応じて適時為替予約等のリスクヘッジ手段を活用しております。 また、関税に関しては、各国・地域における需要に応じた製造拠点の見直しを通じた関税コストの最小化を図るとともに、必要なコストについては顧客との協議により販売価格への適正な反映を図っております。 加えて、輸出規制や関連法令への対応については、政策当局や業界団体、並びに各国・地域の関係当局とのコミュニケーションを通して早期に情報収集を行い、輸出規制、技術開発に関する規制等をテーマとした教育を定期的に行うなど、グループ役職員の輸出規制等に対する知識習得と規制遵守への取り組みを強化しております。 ⑤ 中期事業目標の未達に関わるリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：中期、影響度：中)当社グループが策定した中期事業目標は、顧客の需要見通しを踏まえた適切なタイミングでの設備投資や生産プロセスの立ち上げ、顧客の生産認定取得を通じた市場シェアの維持・拡大、並びに、業務効率の向上を通じた収益の拡大と収益性の向上を前提としております。 しかしながら、外販フォトマスク市場における競争の激化等、市場環境が目標策定時の想定を超え変化した場合の他、関連法令・規制・税制の不利益な変更、エンジニア等の人財を確保・育成できない場合や、技術動向の変化への対応が十分に行えない場合、又は、こうしたリスクへの対応に想定を超える費用が発生した場合には、中期事業目標を達成できない可能性があります。 これらのリスクが顕在化した場合、当社グループの事業活動、経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローに影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、多様な顧客基盤とグローバルな生産体制を構築することにより、特定の顧客需要や特定拠点に過度に依存しない事業構造の構築を図っております。 また、営業部門による顧客動向の継続的な把握に加え、工場及びスタッフ部門において各国・地域の政策、規制及び技術動向を注視し、定期的な情報共有を通じた戦略の見直し、実効施策の修正を適時適切に遂行可能とする、環境変化に柔軟に対応した政策立案・施策執行の仕組み、運用体制を整えております。 ⑥ 労務管理に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループは、各拠点が所在する国・地域において適用される労務関連法令及び規則に基づき、適正な労務管理を行っております。 しかしながら、長時間労働、ハラスメント、差別や人権侵害等のコンプライアンス違反や、従業員の健康状態・メンタルヘルスの悪化等が発生した場合には、法令等に基づく処罰や制裁を受ける可能性があるほか、社会的信用や企業イメージの低下、補償等に係る費用の発生により、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、労務関連法令及び規則を遵守した適正な労働時間管理並びに安全衛生管理の徹底に取り組んでおります。 また、労務管理に関する研修・教育の実施に加え、「2 サステナビリティに関する考え方及び取組 (3) 人的資本に関する戦略、指標及び目標」に記載のとおり、従業員のエンゲージメント向上や健康・安全の維持及び向上を目的とした各種制度や施策を継続的に展開しております。 ⑦ 税務に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループは、各拠点が所在する国・地域の税制に準拠した税務処理及び適正な納税に努めております。 しかしながら、各国・地域における租税制度の改正、税務行政の運用変更、又は税務申告に関する税務当局との見解の相違等により、想定を超える税負担が生じる可能性があります。 これらのリスクが顕在化した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、税務が経営及び業績に与える影響を理解した上で、税務リスクを継続的かつ包括的に把握・評価する体制の整備に努めております。 また、税務専門人財の育成及び知見の蓄積を進めるとともに、必要に応じて外部の税務専門家を活用することで、適切な税務対応の強化に取り組んでおります。 ⑧ 環境規制に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：小)当社グループは、各拠点が所在する国・地域において、水質汚染、大気・土壌汚染、化学物質の管理、騒音・振動等に関する環境関連法令及び規制の遵守が求められております。 当社グループでは法令・規制の遵守に向けた対処策を講じておりますが、これら法令・規制に違反した場合や、法令・規制の強化又は環境負荷低減の追加的な対応が求められ、環境保全に係る費用が増加した場合、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、環境保全に係る規程・社内ルール等を整備するとともに、環境関連設備・機器について定期的な点検・修繕を実施するなど、各種環境保全活動に取り組んでおります。 併せて、サステナビリティ委員会及び危機管理委員会において、マテリアリティの目標達成に向けた進捗管理を定期的に行うとともに、環境に係る問題発生時における事業への影響を最小化すべく迅速な対応が取れる体制整備を進めております。 ⑨ 有形固定資産の減損損失リスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループは、生産能力の維持及び拡大を目的として継続的に設備投資を行っており、多くの有形固定資産を保有しております。 設備投資にあたっては、客観的な数値に基づき各種の承認プロセスでの慎重な検討を行った上で投資判断をしておりますが、想定を超える経営環境の変化や事業状況の悪化等により、有形固定資産の収益性(資産価値)が低下し、十分なキャッシュ・フローを創出できないと判断される場合には、当該資産に対する減損損失を計上することにより、当社グループの業績及び財務状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、設備投資に関する投資基準の精度向上に取り組むとともに、適切な投資タイミングや収益性の検証を行っております。 また、必要に応じて外部調査機関等の情報も活用し、市場環境の変化を継続的に把握することで、減損損失リスクの低減に努めております。 ⑩ 知的財産に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：小)当社グループは、事業競争力の維持・強化の観点から、保有技術や製品に関する知的財産権の保護及び権利化に取り組んでおります。 しかしながら、第三者による当社グループの知的財産権の侵害、又は当社グループが第三者の知的財産権を侵害した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、研究開発部門、技術部門、事業戦略部門及び法務部門が連携し、必要に応じて外部専門家の支援を得ながら、知的財産戦略の策定及び運用を行っております。 また、役職員に対する知的財産に関する教育を定期的に実施し、リスク低減に努めております。 ⑪ 製品の品質等に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループが製造する半導体用フォトマスクに対しては、顧客である半導体メーカーから高度な品質管理が要求されております。 当社グループでは、製品品質の維持・向上に向けた教育制度を整備するとともに、内部監査の実施により潜在的な品質に係る問題を顕在化させ是正する品質管理体制の強化に努めております。 また、品質に係る設備トラブル等が発生した場合を想定し、各製造拠点における情報伝達・対応フローを明確に定めております。 しかしながら、製品品質に起因する不具合や設備トラブル等を起因として、万が一、顧客に損失が発生した場合には、損害賠償費用の発生等により、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、各製造拠点における作業の標準化や製造レシピの整理を進めるとともに、MES(製造実行システム)を活用した生産・品質管理を行っております。 また、製造拠点間の製造連携においては、高精度なデータマッチング技術を活用し、拠点間で均質な品質を確保する体制を構築しております。 加えて、品質問題発生時には、他拠点の知見も活用することで、早期是正及び再発防止に取り組んでおります。 ⑫ 情報セキュリティ等に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：大)当社グループにおいて、不正アクセスやサイバー攻撃、その他不測の事態により、情報システムの障害や重要なデータの破壊、改ざん又は漏洩等が発生した場合には、社会的信用の低下、ノウハウの流出、対応・復旧に係る多額の費用の発生、さらには事業活動の一時的な停止を余儀なくされる可能性があります。 これらの事象が発生した場合、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、「情報セキュリティ基本方針」に基づき、情報セキュリティに関する規程類の整備及び運用を行っております。 また、各国・地域に所在する拠点におけるセキュリティ対策状況を定期的に評価・改善するとともに、サイバー攻撃への技術的対策や、情報セキュリティマネジメントシステム(ISMS)認証の取得、全役職員を対象とした教育を通じて、情報セキュリティへの意識向上とリスク低減に取り組んでおります。 ⑬ コンプライアンスに関するリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：短期～長期、影響度：中～大)当社グループは、国内外において事業を展開するにあたり、各国・地域の法令・規制、業界ルール及び社会的規範の遵守徹底を図るため、危機管理委員会、コンプライアンス委員会等の会議体において業務執行状況の検証を行う等の対策を講じております。 しかしながら、これら法令・規範等に反する事象が生じた場合、法令等に基づく処分や事業活動に対する制約等が課せられるほか、レピュテーションの低下等により、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、コンプライアンス委員会を中心として、社内規程の整備、教育・研修の実施、内部通報制度の運用を図るほか、経営監査室による監査体制の強化に取り組んでおります。 また、法令・規範等に反する事象が生じた場合には、事実関係の早期把握並びに再発防止策の策定を適切に行う体制を整備し、コンプライアンスリスクの低減に努めております。 ⑭ 訴訟等に関わるリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：短期～長期、影響度：小～中)当社グループは、法令及び契約の遵守に努めておりますが、事業活動を遂行する過程において、取引先等から訴訟を提起される可能性や、訴訟に至らないものの紛争や請求等を受ける可能性があります。 これらには、労働問題、製品の品質に関する保証又は責任、知的財産権の侵害、機密情報の漏洩等に関連するものが含まれます。 これらの訴訟や紛争については、当社グループが必ずしも有利な結果を得られる保証はなく、その内容や結果によっては、当社グループの事業活動、社会的評価、経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、法務部門を中心として関係部門が連携し、必要に応じて外部専門家の助言を得ながら、訴訟や紛争の未然防止及び発生時の適切な対応に取り組んでおります。 ⑮ 朝霞工場等、事業用資産及びユーティリティ供給設備に関わるリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：長期、影響度：大)当社グループは、当社朝霞工場の他、事業活動に必要な土地・建物の一部について、TOPPANホールディングス株式会社等の第三者から賃借しており、事業活動に必要な電力、ガス、水等のユーティリティ供給設備の一部について、その運営を外部事業者に委託しております。 事業用資産の賃借、並びにユーティリティ設備の運営委託に際しては、契約に基づき長期安定的に使用を可能とする法的な権利を確保しておりますが、契約更新時の条件変更や賃料の改定、又は契約更新がなされない場合には、事業活動の継続に影響が生じる可能性があります。 また、契約相手先との関係の変化、法令の改正、周辺環境の変化等により、事業用資産、並びにユーティリティ設備の継続利用が困難となった場合や、原状回復義務や代替地確保に係る追加的な費用が発生した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、事業用資産に係る契約締結に際しては事業運営の安定性を担保する契約条項を確保する他、更新時期を踏まえ事前に対処策について十分な検討を行うとともに、賃貸借契約の相手先との継続的なコミュニケーションを通じて安定した関係の維持に努めております。 また、ユーティリティ供給設備については、委託先の運営状況を定期的に確認するとともに、事業継続上の影響を最小化する観点から、必要に応じて、当社グループ自らが保守運営管理可能な体制整備に努め、併せて、代替策の検討やリスク分散にも取り組んでおります。 (2) 災害等のリスク 自然災害・伝染病リスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループは、グローバルに事業を展開しており、各製造拠点の所在する各国・地域において、地震や台風等の自然災害が発生した場合、又は重篤な伝染病の蔓延等により、当社グループの生産設備やクリーンルーム等の主要施設に被害が生じ、あるいは生産・営業活動の停滞を余儀なくされる可能性があります。 また、これらの事象が外部のサプライヤーや協力会社、顧客を含むサプライチェーン全体に混乱をもたらした場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、BCPの観点から、各国・地域に所在する複数の製造拠点において顧客認定を取得し、特定の拠点に過度に依存しない生産体制の構築を進めております。 また、需要の多い原材料や設備については、各拠点で適切な在庫水準を確保するとともに、拠点間で在庫を適時融通可能な体制を整備しております。 併せて、重大な災害の発生に備え、各種マニュアルや行動手順、緊急連絡体制の整備を行うなど、事業の継続及び早期復旧に向けた対策に取り組んでおります。 (3) 主要株主との関係について(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：中期、影響度：小) 当連結会計年度末現在、TOPPANホールディングス株式会社は当社議決権の46.55％を保有しており、取締役1名を当社へ派遣しております。 当社では、経営方針及び事業運営に関する重要な事項のほか取締役会等の会社機関における意思決定に際しては十分な審議を行い、当社独自の判断に基づき決議事項を決定しておりますが、TOPPANホールディングス株式会社は株主総会における議決権行使や取締役会での意見表明を通じて、当社の経営方針や重要な意思決定に一定の影響を及ぼす可能性があります。 また、同社との関係性の変化や利害の不一致が生じた場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応) 当社は、様々な専門知識と見識を有し、豊富な経験と経営手腕を発揮された独立社外役員を選任し、当社を含めたグローバル全体の企業運営・管理、業務執行の管理監督機能の維持・向上を図り、企業経営の健全性、並びに少数株主利益に十分に配慮した事業運営を担保するガバナンス体制を構築しております。 また、TOPPANグループとの取引にあたっては、社外取締役を中心にした特別委員会において取引条件の妥当性、経済的な合理性等を検証し、検証の結果、これらの要件が担保されている場合に限り取引を実施する手続き、体制を整備しております。 併せて、検証された取引が、検証された条件により実行されていることを内部監査により確認する仕組みを設け、当社グループの経営の健全性、事業運営の独立性を確保しております。 (4) 上海徐匯科盛徳半導体有限公司が工場として使用する賃借物件について(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：短期、影響度：中) 当社のグループ会社である上海徐匯科盛徳半導体有限公司において、同社が工場として使用する賃借物件に関して、下記のとおり現地の法令、行政手続きに関する問題が生じております。 なお、当社は本件に付き法律顧問である現地弁護士事務所より意見書を取得しており、賃借人である上海徐匯科盛徳半導体有限公司に直接責任があると考えられる事項は、下記4項目のうち「4．建屋増設時の行政手続きの不備」に限られ、その他の事項に対する責任は基本的には賃貸人にあると認識しております。 本件に起因して現地当局が上海徐匯科盛徳半導体有限公司の生産活動に何らかの制約を課すことになった場合、操業停止や工場移転が必要となることで当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 1．割当土地上の建築物の賃貸に関して必要となる要件(行政手続きを含む)の不備2．土地使用用途の相違3．建屋建設時の行政手続きの未完4．建屋増設時の行政手続きの不備 (リスクへの対応) 当社及び上海徐匯科盛徳半導体有限公司では、問題事項の解決に向け、現地法律事務所の知見を得ながら、賃貸人との協議を重ねてまいりました。 しかしながら、同敷地内に賃貸人が所有する別の違法建築物が複数存在するなどの理由から、上海徐匯科盛徳半導体有限公司が借用する物件のみに正規手続きを追完することは困難であるとの結論に至りました。 一方で、行政手続きを未完のまま放置しておくことは、行政当局から立ち退きや工場の取り壊しを要求されるリスクも考えられることから、当該リスクの低減を図るため、行政当局との協議を行ってまいりました。 その結果、2024年2月に、本件土地が所在する地区の産業政策を所管する徐匯区商務委員会より、上海徐匯科盛徳半導体有限公司に対して「貴社が賃貸借契約期間内において、引き続き、既存の範囲内で、賃借した経営場所を使用し、既存の生産経営用途を維持し、合法的に経営活動を展開することを支持する」という見解が書面で示されたことから、当社グループといたしましては、上海徐匯科盛徳半導体有限公司の立ち退きや取り壊しを求められるリスクは低減されたものと判断し、現工場での生産を継続する方針としております。 |
| 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析 | 4 【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1) 経営成績等の状況の概要当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。 )の状況の概要は次のとおりであります。 なお、当社グループは「フォトマスク関連事業」の単一セグメントであるため、セグメント別の記載を省略しております。 ① 財政状態及び経営成績の状況(ⅰ)財政状態当連結会計年度末における総資産は、前連結会計年度末に比べ62,973百万円増加し、230,725百万円となりました。 これは現金及び現金同等物が23,837百万円、有形固定資産が21,154百万円、その他の金融資産が7,298百万円、それぞれ増加したこと等によるものであります。 負債は、前連結会計年度末に比べ4,848百万円増加し、56,218百万円となりました。 これは契約負債が1,495百万円減少したものの、その他金融負債が4,814百万円、借入金が661百万円増加したこと等によるものであります。 資本は、前連結会計年度末に比べ58,125百万円増加し、174,507百万円となりました。 これは利益剰余金が25,125百万円、新規上場に伴う新株の発行により資本金が10,040百万円、資本剰余金が10,026百万円、その他の資本の構成要素が12,933百万円、それぞれ増加したこと等によるものであります。 (ⅱ)経営成績当連結会計年度における世界経済は、地政学リスクや金融政策の動向等、不透明な要因が残るものの、米国を中心とした堅調な個人消費や企業投資を背景に、総じて緩やかな回復基調で推移しました。 欧州や中国では景気回復の足取りにばらつきが見られた一方で、デジタル化やグリーン投資といった中長期的な成長分野への投資は継続しており、世界経済全体としては底堅さを維持する環境となりました。 このような状況のもと、半導体市場においては、生成AIの普及拡大やクラウドサービスの需要増加を背景としたデータセンター向け投資が引き続き高水準で推移しました。 その結果、高性能演算を担うロジック製品や、データ処理量の増加に対応するメモリ製品を中心に需要の回復及び成長が進み、半導体市場全体を大きくけん引する状況となりました。 最終製品分野による需要動向には引き続き濃淡が見られるものの、全体としては回復基調が継続する事業環境となりました。 半導体市場の拡大を背景に、フォトマスク市場においては先端から成熟まですべてのノードにおいて需要が堅調に推移しました。 先端領域では、半導体の微細化・高集積化の進展に伴い、高精度かつ高付加価値なフォトマスクに対する需要が引き続き堅調であり、安定した受注環境が継続しました。 また、成熟プロセス向けにおいても幅広い用途での需要が維持され、底堅く推移しました。 外販フォトマスク市場においては、フォトマスクを内製しないファウンドリからの外注需要拡大に加え、フォトマスクを内製する半導体メーカーにおいても、内部リソース不足を背景に外注需要が高まりました。 このような事業環境のもと、当社グループは、EUVマスクをはじめとする先端微細加工技術における強みと、世界8拠点からなるグローバル生産ネットワークを活用し、世界各地の顧客及びパートナーに対して高品質のフォトマスクを安定した納期で提供してまいりました。 その結果、当連結会計年度の当社グループの業績は、売上収益は129,576百万円(前期比9.8％増)となりましたが、材料費及び減価償却費の増加に加え、上場に伴う一過性費用の増加により営業利益は27,530百万円(前期比2.4％減)となりました。 税引前利益は33,432百万円(前期比8.6％増)、親会社の所有者に帰属する当期利益は24,947百万円(前期比150.9％増)となりました。 ② キャッシュ・フローの状況当連結会計年度末における現金及び現金同等物の残高は、前連結会計年度末に比べ23,837百万円増加し、51,552百万円となりました。 当連結会計年度における各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は以下のとおりであります。 (営業活動によるキャッシュ・フロー)営業活動によるキャッシュ・フローは、税引前利益33,432百万円、減価償却費及び償却費18,486百万円、法人所得税の支払額8,621百万円等により、36,061百万円の収入(前年同期は26,227百万円の収入)となりました。 (投資活動によるキャッシュ・フロー)投資活動によるキャッシュ・フローは、有形固定資産の取得による支出33,207百万円、貸付けによる支出2,961百万円等により、35,150百万円の支出(前年同期は32,885百万円の支出)となりました。 (財務活動によるキャッシュ・フロー)財務活動によるキャッシュ・フローは、株式の発行による収入19,992百万円、短期借入金の純増減額1,064百万円、リース負債の返済による支出2,413百万円等により、19,862百万円の収入(前年同期は28,536百万円の支出)となりました。 ③ 生産、受注及び販売の状況(ⅰ)生産実績当社グループは受注から納品までの期間が短いため、生産実績は販売実績と概ね同等の金額となります。 そのため、生産実績に関しては販売実績を記載しております。 セグメントの名称金額(百万円)前年同期比(％)フォトマスク事業129,576109.8 (ⅱ)受注実績当社グループは受注生産を行っておりますが、受注から納品までの期間が短いため、受注実績に関する記載を省略しております。 (ⅲ)販売実績当連結会計年度の販売実績は次のとおりであります。 セグメントの名称販売高(百万円)前年同期比(％)フォトマスク事業129,576109.8 (注) 主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は次のとおりであります。 相手先前連結会計年度(自 2024年4月1日 至 2025年3月31日)当連結会計年度(自 2025年4月1日 至 2026年3月31日)金額(百万円)割合(％)金額(百万円)割合(％)Samsung Electronics Co., Ltd.－－15,06311.6 (注) 前連結会計年度におけるSamsung Electronics Co., Ltd.に対する販売実績は、総販売実績に対する割合 が10％未満であるため、記載を省略しております。 (2) 経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。 なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において判断したものであります。 ① 重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定当社グループの連結財務諸表は、IFRS会計基準に基づき作成しております。 連結財務諸表の作成にあたって、過去の経験及び利用可能な情報を収集し、合理的と考えられるさまざまな要因を勘案した上で、見積もり及び判断を行っておりますが、見積り特有の不確実性があるため、実際の結果はこれらの見積りと異なる場合があります。 連結財務諸表の作成にあたって用いた会計上の見積り及び仮定のうち、重要なものは「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1) 連結財務諸表 連結財務諸表注記 4．重要な会計上の見積り及び判断」に記載しております。 ② 財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容当社グループの当連結会計年度の財政状態及び経営成績に関する認識及び分析・検討内容については、「(1) 経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。 経営成績に重要な影響を与える要因については、「第2 事業の状況 3 事業等のリスク」に記載のとおりであります。 ③ キャッシュ・フローの状況の分析・検討内容並びに資本の財源及び資金の流動性に係る情報当社グループの当連結会計年度のキャッシュ・フローの状況の分析・検討内容につきましては、「(1) 経営成績等の状況の概要 ② キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。 資本の財源及び資金の流動性に係る情報について、当社グループにおける資金需要は運転資金及び設備投資であり、自己資金から賄っております。 また、不測の事態に備えて金融機関とコミットメントライン契約を締結しており、必要な資金を適時に確保する体制を整えております。 ④ 経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標につきましては、「第2 事業の状況 1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等 (4) 経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等」に記載のとおり、持続的な企業価値の向上につながる収益性の管理に加え、積極的な事業投資と財務の健全性の両立及び利益成長に応じた株主還元の強化を図るべく、「売上収益成長率」「営業利益率」を経営上の重要な経営指標として位置付けております。 当連結会計年度における各指標は以下のとおりであります。 2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期売上収益成長率―106.3％110.2％109.8％営業利益率28.5％18.5％23.9％21.2％ 2026年3月期は、半導体市場の拡大を背景に、フォトマスク市場においても先端から成熟まですべてのノードにおいて需要が堅調に推移し、売上収益成長率は109.8％となりましたが、材料費及び減価償却費の増加に加え、上場に伴う一過性費用の増加により営業利益率は21.2％と低下しました。 今後も売上収益成長率と営業利益率の向上に向けた施策を講じてまいります。 (参考情報) 当社グループは、経営成績の推移を適切に把握するために、調整後営業利益、調整後EBITDA及び調整後親会社の所有者に帰属する当期利益を算出しております。 これらは、IFRS会計基準により規定された指標ではなく、当社グループが、投資家にとって当社グループの業績を評価するために有用であると考える財務指標であり、上場後には発生しないと見込まれる上場関連費用や、非経常的損益項目(通常の営業活動の結果を示していると考えられない項目)の影響を除外しております。 (1)調整後営業利益(単位：百万円) IFRS会計基準第2期第3期第4期第5期2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期営業利益28,68019,82728,19927,530(調整額) ＋減損損失672,580－482＋スタンドアローン・上場準備費用8071234348＋株式報酬費用5183645＋資本再編の検討に要した費用－91－調整額 計1522,677270876調整後営業利益28,83222,50428,46928,407 (2)調整後EBITDA(単位：百万円) IFRS会計基準第2期第3期第4期第5期2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期当期利益22,15916,1059,94524,947＋法人所得税費用7,2066,79620,8258,484－金融収益△ 601△ 2,851△3,411△7,151＋金融費用3043161,3481,800＋減価償却費及び償却費8,48015,87615,24018,486EBITDA37,54836,24243,94746,567(調整額) ＋減損損失672,580－482＋スタンドアローン・上場準備費用8071234348＋株式報酬費用5183645＋資本再編の検討に要した費用－91－調整額 計1522,677270876調整後EBITDA37,70038,91944,21747,444 (3)調整後親会社の所有者に帰属する当期利益(単位：百万円) IFRS会計基準第2期第3期第4期第5期2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期親会社の所有者に帰属する当期利益22,15916,1059,94524,947(調整額) ＋減損損失672,580－482＋スタンドアローン・上場準備費用8071234348＋株式報酬費用5183645＋資本再編の検討に要した費用－91－＋資本再編に伴う株式譲渡課税－－6,247－＋欧州連結子会社の繰延税金資産の回収可能性見直し－－8,221－＋調整項目に対する税金調整額△ 47△ 820△83△268調整額 計1061,85814,656608調整後親会社の所有者に帰属する当期利益22,26517,96324,60125,556 (注) 1．調整後営業利益＝営業利益＋減損損失＋スタンドアローン・上場準備費用＋株式報酬費用＋資本再編の検討に要した費用2．調整後EBITDA＝当期利益－金融収益＋金融費用＋法人所得税費用＋減価償却費及び償却費＋減損損失＋スタンドアローン・上場準備費用＋株式報酬費用＋資本再編の検討に要した費用3．調整後親会社の所有者に帰属する当期利益＝親会社の所有者に帰属する当期利益＋減損損失＋スタンドアローン・上場準備費用＋株式報酬費用＋資本再編の検討に要した費用＋資本再編に伴う株式譲渡課税＋欧州連結子会社の繰延税金資産の回収可能性見直し＋調整項目に対する税金調整額 |
| 研究開発活動 | 6 【研究開発活動】 当社グループの研究開発活動は、外販フォトマスク市場におけるシェアトップの地位を堅持し、市場の発展に寄与していく方針のもと、伸長する技術領域における技術開発力の強化や、次世代EUVマスク開発等の新事業領域での研究開発に加え、レガシー装置の延命、代替パーツの開発等の生産効率化、合理化による利益創出を実現する開発活動に注力しております。 これらの研究開発活動については、当社朝霞工場と持分法適用会社であるAdvanced Mask Technology Center GmbH & Co. KGを中心拠点として行っており、必要に応じて販売先やベンダー、コンソーシアム等との共同開発も積極的に推進しております。 また、研究開発の成果・確立した技術については、当社グループ各工場へ技術移転がなされる体制を整えております。 主な研究開発とその成果は次のとおりであります。 なお、当社グループはフォトマスク事業の単一セグメントであるため、セグメントごとの記載は省略しております。 (1) 次世代EUVマスク向け吸収膜開発EUVリソグラフィは従来の光学リソグラフィよりも短い波長の光を用いるため、より微細な回路パターンを形成することができます。 EUVリソグラフィは反射型光学系を用いてウェハ露光されるため、EUVマスクにも反射特性が求められます(下図参照)。 EUVマスクは、基板の上にEUV光を反射する多層反射膜が形成され、その上にEUV光を吸収する吸収膜が形成されております。 吸収膜上に所望のパターンを描画～エッチング加工する事でマスク上にパターンが形成されておりEUVマスクに照射されたEUV光がウェハ上に反射されることで、ウェハパターンが形成されます。 そのため、EUVマスクの吸収膜特性はウェハ露光に大きな影響を与えます。 吸収膜の候補は大きく2つあり、1つは低屈折材料を用いた吸収膜であり、位相効果を利用する事でウェハ上に高いコントラストを得ることができ、従来よりも低露光量でウェハパターンの形成が可能となります。 もう1つは、消衰係数の高い材料を用いた吸収膜であり、従来よりも吸収膜を薄膜化し、ウェハ露光で問題となる3次元効果(射影効果等)の低減が可能となります。 今期はブランクスメーカーと共同開発した新材料のマスクプロセスを構築し、これを研究開発機構であるimec、及びIBM社と共同でウェハ露光試験を行い、ウェハ上で良好な特性を確認しました。 (EUVリソグラフィイメージ図) (2) EUVマスク後工程(検査、AIMS等)の技術構築、装置選定EUVマスク後工程とは、EUVマスク製造におけるパターン形成後の工程を指し、検査、修正、欠陥判定、ペリクル着脱などの工程を指します。 当社グループでは顧客ニーズや技術、コストを踏まえた装置選定、EUVマスク量産に必要な装置の見極めや欠陥保証技術の開発に取り組んでおります。 今期は装置メーカーと次世代フォトマスクに必要な検査機能の開発を行い、成果の一部を国際学会で報告しました。 (3) 光マスク及びEUVマスク向けの要素技術開発要素技術については、マスク上のパターンを基板上に正確に転写する位置精度向上技術の開発、マスク寸法特性(マスク上のパターンの寸法精度と形状精度)改善技術の開発に取り組んでおります。 位置精度向上技術については、位置精度を悪化させる要因の調査・対策検討、膜応力や描画時の帯電、熱の影響を改善する取り組みを実施中であり、マスク寸法特性改善技術については、材料改善や新技術導入による改善手法の開発に取り組んでおります。 (4) ナノインプリントリソグラフィ(Nano-Imprint-Lithography、以下「NIL」という。 )NILは、当社グループがフォトマスク事業で培った微細加工技術の強みを応用可能な技術であり、AR(拡張現実)ヘッドセット、スマートフォンや車載用センサー、医療用画像システムなど様々なアプリケーションへの展開が期待されております。 メタレンズのような微細かつ特殊な形状の3Dパターンを作成する場合、従来のフォトリソグラフィ技術を用いることは困難又は非効率とされるところ、NILはナノメートルスケールの複雑な構造体を広い面積にわたって効率的に形成することができる、コストパフォーマンスに優れた量産プロセスであります。 当社グループでは、NILプロセスで要求されるスランテッドやブレイズドといった3D構造マスターモールドの製造プロセスを確立するとともに、モールドのみならず当該モールドを使用したNILプロセスそのものの量産試作ラインの構築に向け、研究開発に取り組んでおります。 当連結会計年度における当社グループ全体の研究開発費は1,238百万円であります。 |
| 設備投資等の概要 | 1 【設備投資等の概要】 当社グループでは、生産設備の増強、生産性・効率性、及び製造製品の品質の向上、並びに研究開発機能の充実・強化などを目的とした設備投資を継続的に実施しております。 当連結会計年度の設備投資の総額は有形固定資産のほか、無形固定資産への投資を含め33,236百万円となりました。 そのうち主要なものは、マルチビーム描画装置をはじめとするEUVマスク等の生産設備及びレガシー装置の更新、使用可能年限の延長を目的としたものであります。 |
| 主要な設備の状況 | 2 【主要な設備の状況】 (1) 提出会社2026年3月31日現在事業所名(所在地)セグメントの名称設備の内容帳簿価額(百万円)従業員数(名)建物及び構築物機械装置土地(面積㎡)使用権資産建設仮勘定その他合計本社(東京都港区)フォトマスク事業事務所設備等11－－7018420396［9］朝霞工場(埼玉県新座市)フォトマスク事業生産設備等1,16414,103－64325916816,338290［25］滋賀工場(滋賀県東近江市)フォトマスク事業生産設備等5812,404262(9,998)9226083,610113［46］ (注) 1．IFRS会計基準に基づく数値を記載しております。 2．帳簿価額のうち「その他」は、工具器具備品、車両運搬具、ソフトウエアの合計であります。 3．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。 4．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。 5．臨時従業員は、契約社員、パートタイマー及びアルバイトであります。 6．連結会社以外から賃借している土地、建物等の主要な設備は、使用権資産に含まれております。 (2) 在外子会社2026年3月31日現在会社名事業所名(所在地)セグメントの名称設備の内容帳簿価額(百万円)従業員数(名)建物及び構築物機械装置土地(面積㎡)使用権資産建設仮勘定その他合計Tekscend Photomask US Inc.本社他(米国テキサス州)フォトマスク事業事務所設備等87066354(71,905)8,96295－10,35065［4］Tekscend Photomask Round Rock Inc.本社他(米国テキサス州)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等7678,992－553,414－13,230316［11］Tekscend Photomask Germany GmbH本社(ドイツザクセン州)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等－26－1910－21871［6］Tekscend Photomask GmbH本社他(ドイツザクセン州)フォトマスク事業―－－－－－－－－Tekscend Photomask France S.A.S.本社他(フランスエソンヌ県)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等30791－82156－1,70084［4］Tekscend Photomask Korea Inc.本社他(韓国利川市)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等6126,548658(38,473)173,209－11,046202［4］Tekscend Photomask Singapore Pte. Ltd.本社他(シンガポール)フォトマスク事業事務所設備等371－1,2996,578－7,91716［2］中華科盛德光罩股份有限公司本社他(台湾桃園市)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等1,80018,9335,440(15,088)－2688726,530392［43］上海徐匯科盛徳半導体有限公司本社他(中国上海市)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等1,1449,925－1,454671－13,196299［4］Tekscend Photomask HK Company Limited 本社(中国香港特別行政区)フォトマスク事業―－－－－－－－－Tekscend Photomask Cayman Inc.本社(ケイマン諸島)フォトマスク事業―－－－－－－－－科盛德半導体材料(上海)有限公司本社他(中国上海市)フォトマスク事業生産設備－4,892－－－－4,892－Tekscend Photomask North America Inc.本社他(米国テキサス州)フォトマスク事業―－－－－－－－－ (注) 1．IFRS会計基準に基づく数値を記載しております。 2．帳簿価額のうち「その他」は、工具器具備品、車両運搬具、ソフトウエアの合計であります。 3．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。 4．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。 5．臨時従業員は、契約社員、パートタイマー及びアルバイトであります。 6．連結会社以外から賃借している機械装置、土地、建物等の主要な設備は、使用権資産に含まれております。 |
| 設備の新設、除却等の計画 | 3 【設備の新設、除却等の計画】 (1) 重要な設備の新設等 シンガポールにおいては、政府による積極的な支援策を背景に、半導体関連産業の集積及び生産能力の拡大が進んでおり、これに伴いフォトマスク需要の増加が見込まれております。 当社は、主要顧客との地理的な近接性に加え、将来的なインド市場への供給拠点としての戦略的意義を考慮し、東南アジア及びインド市場の成長を取り込むことを目的として、シンガポールに新工場の建設を進めております。 また、AI・データセンター需要の拡大を背景とした先端半導体分野におけるフォトマスク需要の高まりを踏まえ、当社は、韓国における供給体制の一層の強化及び安定的な製品供給の実現を目的として、同国に第3工場を新設する計画であります。 これらの新設工場には、製造設備を中心とした成長投資に加え、既存設備の更新等を目的とした投資及び関連システムへの投資を実施する予定であり、その概要については設備の内容ごとに記載しております。 当連結会計年度後1年間の設備投資計画は総額630億円であり、設備の内容ごとの内訳は次のとおりであります。 また、当社グループはフォトマスク事業の単一セグメントであるため、セグメントごとの記載は省略しております。 設備の内容2026年3月末計画金額(百万円)摘要成長投資48,500シンガポール及び韓国における新工場の建設並びに米国などへの製造設備の増強レガシー投資6,000老朽化した設備の更新その他8,500関連システムの強化等合計63,000 (2) 重要な設備の除却等該当事項はありません。 |
| 研究開発費、研究開発活動 | 1,238,000,000 |
| 設備投資額、設備投資等の概要 | 33,236,000,000 |
Employees
| 平均年齢（年）、提出会社の状況、従業員の状況 | 44 |
| 平均勤続年数（年）、提出会社の状況、従業員の状況 | 3 |
| 平均年間給与、提出会社の状況、従業員の状況 | 8,070,000 |
| 管理職に占める女性労働者の割合、提出会社の指標 | 0 |
| 全労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
| 正規雇用労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
| 非正規雇用労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
Investment
| 株式の保有状況 | (5) 【株式の保有状況】 ① 投資株式の区分の基準及び考え方当社は、保有目的が純投資目的である投資株式と純投資目的以外の目的である投資株式の区分について、株式の価値の変動又は配当の受領によって利益を得ることを目的として保有する株式を純投資目的である投資株式とし、それ以外の株式を純投資目的以外の目的である投資株式としております。 ② 保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式(ⅰ)保有方針及び保有の合理性を検証する方法並びに個別銘柄の保有の適否に関する取締役会等における検証の内容当社は、取引先との安定的な取引関係の維持・強化等が、当社の中期的な企業価値の向上に資すると判断する場合に限り、保有目的が純投資以外の目的である投資株式を保有しております。 その保有については、取締役会において、個別銘柄毎に経済合理性や将来の見通しを検証しております。 (ⅱ)銘柄数及び貸借対照表計上額 銘柄数(銘柄)貸借対照表計上額の合計額(百万円)非上場株式21非上場株式以外の株式－－ (当事業年度において株式数が増加した銘柄)該当事項はありません。 (当事業年度において株式数が減少した銘柄)該当事項はありません。 (ⅲ)特定投資株式及びみなし保有株式の銘柄ごとの株式数、貸借対照表計上額等に関する情報特定投資株式該当事項はありません。 みなし保有株式該当事項はありません。 ③ 保有目的が純投資目的である投資株式該当事項はありません。 ④ 当事業年度に投資株式の保有目的を純投資目的から純投資目的以外の目的に変更したもの該当事項はありません。 ⑤ 当事業年度の前4事業年度及び当事業年度に投資株式の保有目的を純投資目的以外の目的から純投資目的に変更したもの該当事項はありません。 ⑥ 政策保有株式の発行会社との業務提携等の概要該当事項はありません。 |
| 銘柄数、非上場株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 2 |
| 貸借対照表計上額、非上場株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 1,000,000 |
Shareholders
| 大株主の状況 | (6) 【大株主の状況】 2026年3月31日現在 氏名又は名称住所所有株式数(株)発行済株式(自己株式を除く。)の総数に対する所有株式数の割合(％) TOPPANホールディングス株式会社東京都台東区台東1丁目5番1号46,237,90146.55 日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口)東京都港区赤坂1丁目8番1号 赤坂インターシティAIR6,873,0006.91 QATAR HOLDING LLC(常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部)C/O QATAR INVESTMENT AUTHORITY, OOREDOO TOWER (BUI LDING 14), ALDAFNA STREET (STREET 801), AL DAFNA(東京都港区港南2丁目15－1 品川インターシティA棟)4,600,6414.63 CEPLUX-THE INDEPENDENT UCITS PLATFORM 2(常任代理人 シティバンク、エヌ・エイ東京支店)31, Z.A. BOURMICHT, L-8070, BERTRANGE, LUXEMBOURG(東京都新宿区新宿6丁目27番30号)2,232,6002.24 THE CHASE MANHATTAN BANK, N.A. LONDONSECS LENDING OMNIBUS ACCOUNT(常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部)WOOLGATE HOUSE, COLEMAN STREET LONDON EC2P 2HD, ENGLAND(東京都港区港南2丁目15－1 品川インターシティA棟)1,436,7001.44 株式会社カストディ銀行(信託口)東京都中央区晴海1丁目8－121,385,2001.39 NORTHERN TRUST CO.(AVFC) RE UKUC UCITS CLIENTS NON LENDING 10PCT TREATY ACCOUNT(常任代理人 香港上海銀行東京支店)50 BANK STREET CANARY WHARF LONDON E14 5NT, UK(東京都中央区日本橋3丁目11－1)1,322,2001.33 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505025(常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部)ONE CONGRESS STREET, SUITE 1, BOSTON, MASSACHUSETTS(東京都港区港南2丁目15－1 品川インターシティA棟)1,131,7041.13 三木 正浩東京都港区1,116,3001.12 インテグラル株式会社東京都千代田区丸の内1丁目9－2849,6330.85計－67,185,87967.59 |
| 株主数－金融機関 | 15 |
| 株主数－金融商品取引業者 | 55 |
| 株主数－外国法人等－個人 | 111 |
| 株主数－外国法人等－個人以外 | 145 |
| 株主数－個人その他 | 30,700 |
| 株主数－その他の法人 | 926 |
| 株主数－計 | 31,952 |
| 氏名又は名称、大株主の状況 | インテグラル株式会社 |
| 株主総会決議による取得の状況 | (1) 【株主総会決議による取得の状況】 該当事項はありません。 |
| 株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容 | (3) 【株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容】 該当事項はありません。 |
Audit
| 監査法人１、連結 | 有限責任 あずさ監査法人 |
| 独立監査人の報告書、連結 | 独立監査人の監査報告書 2026年６月18日テクセンドフォトマスク株式会社取締役会 御中 有限責任 あずさ監査法人 東京事務所 指定有限責任社員業務執行社員 公認会計士山下 誠 指定有限責任社員業務執行社員 公認会計士関口 男也 ＜連結財務諸表監査＞監査意見当監査法人は、金融商品取引法第193条の2第1項の規定に基づく監査証明を行うため、「経理の状況」に掲げられているテクセンドフォトマスク株式会社の2025年4月1日から2026年3月31日までの連結会計年度の連結財務諸表、すなわち、連結財政状態計算書、連結損益計算書、連結包括利益計算書、連結持分変動計算書、連結キャッシュ・フロー計算書及び連結財務諸表注記について監査を行った。 当監査法人は、上記の連結財務諸表が、「連結財務諸表の用語、様式及び作成方法に関する規則」第312条により規定された国際会計基準に準拠して、テクセンドフォトマスク株式会社及び連結子会社の2026年3月31日現在の財政状態並びに同日をもって終了する連結会計年度の経営成績及びキャッシュ・フローの状況を、全ての重要な点において適正に表示しているものと認める。 監査意見の根拠当監査法人は、我が国において一般に公正妥当と認められる監査の基準に準拠して監査を行った。 監査の基準における当監査法人の責任は、「連結財務諸表監査における監査人の責任」に記載されている。 当監査法人は、我が国における職業倫理に関する規定（社会的影響度の高い事業体の財務諸表監査に適用される規定を含む。 ）に従って、会社及び連結子会社から独立しており、また、監査人としてのその他の倫理上の責任を果たしている。 当監査法人は、意見表明の基礎となる十分かつ適切な監査証拠を入手したと判断している。 監査上の主要な検討事項監査上の主要な検討事項とは、当連結会計年度の連結財務諸表の監査において、監査人が職業的専門家として特に重要であると判断した事項である。 監査上の主要な検討事項は、連結財務諸表全体に対する監査の実施過程及び監査意見の形成において対応した事項であり、当監査法人は、当該事項に対して個別に意見を表明するものではない。 フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性監査上の主要な検討事項の内容及び決定理由監査上の対応テクセンドフォトマスク株式会社及び連結子会社（以下「テクセンドフォトマスクグループ」という。 ）は、主にフォトマスク製品の製造及び販売を行っている。 連結財務諸表注記「5．セグメント情報」に記載のとおり、当連結会計年度の売上収益129,576百万円はすべてフォトマスク関連事業から発生している。 連結財務諸表注記「3．重要性がある会計方針（15）収益」に記載のとおり、契約の定めに基づき顧客に製品を引き渡した時点や、インコタームズ等で定められた貿易条件に基づきリスク負担が顧客に移転する時点において、顧客が当該製品に対する支配を獲得する取引については、国内販売においては主に顧客に製品が到着した時に、輸出販売においては主にインコタームズ等で定められた貿易条件に基づき支配が顧客に移転した時に収益を認識している。 また、契約の定めに基づき製品に対する支配が顧客に一定の期間にわたり移転する取引は、顧客との契約における履行義務を充足するにつれて、一定の期間にわたり収益を認識している。 この点、フォトマスク製品の販売については、主に以下の理由から、履行義務を充足していないにもかかわらず、売上の計上が前倒しされるリスクが存在する。 • フォトマスク製品はテクセンドフォトマスクグループにおける主力製品であり、販売部門が事業計画達成のプレッシャーを感じる可能性があること• 特に決算月では、事業計画達成のためのプレッシャーが強まり、売上前倒し計上の誘因がある一方で、入金などによる売上の最終顛末の確認が困難であること以上から、当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性が、当連結会計年度の連結財務諸表監査において特に重要であり、監査上の主要な検討事項に該当すると判断した。 当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性を検討する ため、主に以下の手続を実施した。 これには、一部の連結子会社の監査人を関与させ、同監査人への指揮、監督及びその作業の査閲を含め、主として以下の監査手続を実施することが含まれる。 (1) 内部統制の評価販売プロセスに関連する内部統制の整備及び運用の状況の有効性を評価した。 評価に当たっては、特に、製品の到着あるいは顧客の検収が確認できる証憑等と照合することにより、適切な会計期間に帰属した売上収益であることを確認する統制に焦点を当てた。 (2) 売上収益が適切な会計期間に計上されているか否かの検討売上収益が適切な会計期間に計上されているか否かを検討するため、テクセンドフォトマスク株式会社及び一部の連結子会社の売上収益に対して、以下の手続を実施した• 期間帰属の適切性が損なわれるリスクが高い期末月の売上取引から、特定の基準に基づいて取引を抽出し、売上収益の期間帰属の適切性を検討するために、物品受領書や船積書類等、履行義務を充足し支配が顧客に移転したことを示す外部証憑と照合した。 その他の記載内容その他の記載内容は、有価証券報告書に含まれる情報のうち、連結財務諸表及び財務諸表並びにこれらの監査報告書以外の情報である。 経営者の責任は、その他の記載内容を作成し開示することにある。 また、監査役及び監査役会の責任は、その他の記載内容の報告プロセスの整備及び運用における取締役の職務の執行を監視することにある。 当監査法人の連結財務諸表に対する監査意見の対象にはその他の記載内容は含まれておらず、当監査法人はその他の記載内容に対して意見を表明するものではない。 連結財務諸表監査における当監査法人の責任は、その他の記載内容を通読し、通読の過程において、その他の記載内容と連結財務諸表又は当監査法人が監査の過程で得た知識との間に重要な相違があるかどうか検討すること、また、そのような重要な相違以外にその他の記載内容に重要な誤りの兆候があるかどうか注意を払うことにある。 当監査法人は、実施した作業に基づき、その他の記載内容に重要な誤りがあると判断した場合には、その事実を報告することが求められている。 その他の記載内容に関して、当監査法人が報告すべき事項はない。 連結財務諸表に対する経営者並びに監査役及び監査役会の責任経営者の責任は、国際会計基準に準拠して連結財務諸表を作成し適正に表示することにある。 これには、不正又は誤謬による重要な虚偽表示のない連結財務諸表を作成し適正に表示するために経営者が必要と判断した内部統制を整備及び運用することが含まれる。 連結財務諸表を作成するに当たり、経営者は、継続企業の前提に基づき連結財務諸表を作成することが適切であるかどうかを評価し、国際会計基準に基づいて継続企業に関する事項を開示する必要がある場合には当該事項を開示する責任がある。 監査役及び監査役会の責任は、財務報告プロセスの整備及び運用における取締役の職務の執行を監視することにある。 連結財務諸表監査における監査人の責任監査人の責任は、監査人が実施した監査に基づいて、全体としての連結財務諸表に不正又は誤謬による重要な虚偽表示がないかどうかについて合理的な保証を得て、監査報告書において独立の立場から連結財務諸表に対する意見を表明することにある。 虚偽表示は、不正又は誤謬により発生する可能性があり、個別に又は集計すると、連結財務諸表の利用者の意思決定に影響を与えると合理的に見込まれる場合に、重要性があると判断される。 監査人は、我が国において一般に公正妥当と認められる監査の基準に従って、監査の過程を通じて、職業的専門家としての判断を行い、職業的懐疑心を保持して以下を実施する。 ・ 不正又は誤謬による重要な虚偽表示リスクを識別し、評価する。 また、重要な虚偽表示リスクに対応した監査手続を立案し、実施する。 監査手続の選択及び適用は監査人の判断による。 さらに、意見表明の基礎となる十分かつ適切な監査証拠を入手する。 ・ 連結財務諸表監査の目的は、内部統制の有効性について意見表明するためのものではないが、監査人は、リスク評価の実施に際して、状況に応じた適切な監査手続を立案するために、監査に関連する内部統制を検討する。 ・ 経営者が採用した会計方針及びその適用方法の適切性、並びに経営者によって行われた会計上の見積りの合理性及び関連する注記事項の妥当性を評価する。 ・ 経営者が継続企業を前提として連結財務諸表を作成することが適切であるかどうか、また、入手した監査証拠に基づき、継続企業の前提に重要な疑義を生じさせるような事象又は状況に関して重要な不確実性が認められるかどうか結論付ける。 継続企業の前提に関する重要な不確実性が認められる場合は、監査報告書において連結財務諸表の注記事項に注意を喚起すること、又は重要な不確実性に関する連結財務諸表の注記事項が適切でない場合は、連結財務諸表に対して除外事項付意見を表明することが求められている。 監査人の結論は、監査報告書日までに入手した監査証拠に基づいているが、将来の事象や状況により、企業は継続企業として存続できなくなる可能性がある。 ・ 連結財務諸表の表示及び注記事項が、国際会計基準に準拠しているかどうかとともに、関連する注記事項を含めた連結財務諸表の表示、構成及び内容、並びに連結財務諸表が基礎となる取引や会計事象を適正に表示しているかどうかを評価する。 ・ 連結財務諸表に対する意見表明の基礎となる、会社及び連結子会社の財務情報に関する十分かつ適切な監査証拠を入手するために、連結財務諸表の監査を計画し実施する。 監査人は、連結財務諸表の監査に関する指揮、監督及び査閲に関して責任がある。 監査人は、単独で監査意見に対して責任を負う。 監査人は、監査役及び監査役会に対して、計画した監査の範囲とその実施時期、監査の実施過程で識別した内部統制の重要な不備を含む監査上の重要な発見事項、及び監査の基準で求められているその他の事項について報告を行う。 監査人は、監査役及び監査役会に対して、独立性についての我が国における職業倫理に関する規定を遵守したこと、並びに監査人の独立性に影響を与えると合理的に考えられる事項、及び阻害要因を除去するための対応策を講じている場合又は阻害要因を許容可能な水準にまで軽減するためのセーフガードを適用している場合はその内容について報告を行う。 監査人は、監査役及び監査役会と協議した事項のうち、当連結会計年度の連結財務諸表の監査で特に重要であると判断した事項を監査上の主要な検討事項と決定し、監査報告書において記載する。 ただし、法令等により当該事項の公表が禁止されている場合や、極めて限定的ではあるが、監査報告書において報告することにより生じる不利益が公共の利益を上回ると合理的に見込まれるため、監査人が報告すべきでないと判断した場合は、当該事項を記載しない。 ＜報酬関連情報＞当監査法人及び当監査法人と同一のネットワークに属する者に対する、会社及び子会社の監査証明業務に基づく報酬及び非監査業務に基づく報酬の額は、「提出会社の状況」に含まれるコーポレート・ガバナンスの状況等 (3)【監査の状況】 に記載されている。 利害関係会社及び連結子会社と当監査法人又は業務執行社員との間には、公認会計士法の規定により記載すべき利害関係はない。 以 上 (注) 1．上記の監査報告書の原本は当社（有価証券報告書提出会社）が別途保管しております。 2．XBRLデータは監査の対象には含まれていません。 |
| 監査上の主要な検討事項、連結 | 監査上の主要な検討事項監査上の主要な検討事項とは、当連結会計年度の連結財務諸表の監査において、監査人が職業的専門家として特に重要であると判断した事項である。 監査上の主要な検討事項は、連結財務諸表全体に対する監査の実施過程及び監査意見の形成において対応した事項であり、当監査法人は、当該事項に対して個別に意見を表明するものではない。 フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性監査上の主要な検討事項の内容及び決定理由監査上の対応テクセンドフォトマスク株式会社及び連結子会社（以下「テクセンドフォトマスクグループ」という。 ）は、主にフォトマスク製品の製造及び販売を行っている。 連結財務諸表注記「5．セグメント情報」に記載のとおり、当連結会計年度の売上収益129,576百万円はすべてフォトマスク関連事業から発生している。 連結財務諸表注記「3．重要性がある会計方針（15）収益」に記載のとおり、契約の定めに基づき顧客に製品を引き渡した時点や、インコタームズ等で定められた貿易条件に基づきリスク負担が顧客に移転する時点において、顧客が当該製品に対する支配を獲得する取引については、国内販売においては主に顧客に製品が到着した時に、輸出販売においては主にインコタームズ等で定められた貿易条件に基づき支配が顧客に移転した時に収益を認識している。 また、契約の定めに基づき製品に対する支配が顧客に一定の期間にわたり移転する取引は、顧客との契約における履行義務を充足するにつれて、一定の期間にわたり収益を認識している。 この点、フォトマスク製品の販売については、主に以下の理由から、履行義務を充足していないにもかかわらず、売上の計上が前倒しされるリスクが存在する。 • フォトマスク製品はテクセンドフォトマスクグループにおける主力製品であり、販売部門が事業計画達成のプレッシャーを感じる可能性があること• 特に決算月では、事業計画達成のためのプレッシャーが強まり、売上前倒し計上の誘因がある一方で、入金などによる売上の最終顛末の確認が困難であること以上から、当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性が、当連結会計年度の連結財務諸表監査において特に重要であり、監査上の主要な検討事項に該当すると判断した。 当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性を検討する ため、主に以下の手続を実施した。 これには、一部の連結子会社の監査人を関与させ、同監査人への指揮、監督及びその作業の査閲を含め、主として以下の監査手続を実施することが含まれる。 (1) 内部統制の評価販売プロセスに関連する内部統制の整備及び運用の状況の有効性を評価した。 評価に当たっては、特に、製品の到着あるいは顧客の検収が確認できる証憑等と照合することにより、適切な会計期間に帰属した売上収益であることを確認する統制に焦点を当てた。 (2) 売上収益が適切な会計期間に計上されているか否かの検討売上収益が適切な会計期間に計上されているか否かを検討するため、テクセンドフォトマスク株式会社及び一部の連結子会社の売上収益に対して、以下の手続を実施した• 期間帰属の適切性が損なわれるリスクが高い期末月の売上取引から、特定の基準に基づいて取引を抽出し、売上収益の期間帰属の適切性を検討するために、物品受領書や船積書類等、履行義務を充足し支配が顧客に移転したことを示す外部証憑と照合した。 |
| 全体概要、監査上の主要な検討事項、連結 | 監査上の主要な検討事項とは、当連結会計年度の連結財務諸表の監査において、監査人が職業的専門家として特に重要であると判断した事項である。 監査上の主要な検討事項は、連結財務諸表全体に対する監査の実施過程及び監査意見の形成において対応した事項であり、当監査法人は、当該事項に対して個別に意見を表明するものではない。 |
| 見出し、監査上の主要な検討事項、連結 | フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性 |
| 内容及び理由、監査上の主要な検討事項、連結 | テクセンドフォトマスク株式会社及び連結子会社（以下「テクセンドフォトマスクグループ」という。 ）は、主にフォトマスク製品の製造及び販売を行っている。 連結財務諸表注記「5．セグメント情報」に記載のとおり、当連結会計年度の売上収益129,576百万円はすべてフォトマスク関連事業から発生している。 連結財務諸表注記「3．重要性がある会計方針（15）収益」に記載のとおり、契約の定めに基づき顧客に製品を引き渡した時点や、インコタームズ等で定められた貿易条件に基づきリスク負担が顧客に移転する時点において、顧客が当該製品に対する支配を獲得する取引については、国内販売においては主に顧客に製品が到着した時に、輸出販売においては主にインコタームズ等で定められた貿易条件に基づき支配が顧客に移転した時に収益を認識している。 また、契約の定めに基づき製品に対する支配が顧客に一定の期間にわたり移転する取引は、顧客との契約における履行義務を充足するにつれて、一定の期間にわたり収益を認識している。 この点、フォトマスク製品の販売については、主に以下の理由から、履行義務を充足していないにもかかわらず、売上の計上が前倒しされるリスクが存在する。 • フォトマスク製品はテクセンドフォトマスクグループにおける主力製品であり、販売部門が事業計画達成のプレッシャーを感じる可能性があること• 特に決算月では、事業計画達成のためのプレッシャーが強まり、売上前倒し計上の誘因がある一方で、入金などによる売上の最終顛末の確認が困難であること以上から、当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性が、当連結会計年度の連結財務諸表監査において特に重要であり、監査上の主要な検討事項に該当すると判断した。 |
| 開示への参照、監査上の主要な検討事項、連結 | 連結財務諸表注記 |
| 監査上の対応、監査上の主要な検討事項、連結 | 当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性を検討する ため、主に以下の手続を実施した。 これには、一部の連結子会社の監査人を関与させ、同監査人への指揮、監督及びその作業の査閲を含め、主として以下の監査手続を実施することが含まれる。 (1) 内部統制の評価販売プロセスに関連する内部統制の整備及び運用の状況の有効性を評価した。 評価に当たっては、特に、製品の到着あるいは顧客の検収が確認できる証憑等と照合することにより、適切な会計期間に帰属した売上収益であることを確認する統制に焦点を当てた。 (2) 売上収益が適切な会計期間に計上されているか否かの検討売上収益が適切な会計期間に計上されているか否かを検討するため、テクセンドフォトマスク株式会社及び一部の連結子会社の売上収益に対して、以下の手続を実施した• 期間帰属の適切性が損なわれるリスクが高い期末月の売上取引から、特定の基準に基づいて取引を抽出し、売上収益の期間帰属の適切性を検討するために、物品受領書や船積書類等、履行義務を充足し支配が顧客に移転したことを示す外部証憑と照合した。 |
| その他の記載内容、連結 | その他の記載内容その他の記載内容は、有価証券報告書に含まれる情報のうち、連結財務諸表及び財務諸表並びにこれらの監査報告書以外の情報である。 経営者の責任は、その他の記載内容を作成し開示することにある。 また、監査役及び監査役会の責任は、その他の記載内容の報告プロセスの整備及び運用における取締役の職務の執行を監視することにある。 当監査法人の連結財務諸表に対する監査意見の対象にはその他の記載内容は含まれておらず、当監査法人はその他の記載内容に対して意見を表明するものではない。 連結財務諸表監査における当監査法人の責任は、その他の記載内容を通読し、通読の過程において、その他の記載内容と連結財務諸表又は当監査法人が監査の過程で得た知識との間に重要な相違があるかどうか検討すること、また、そのような重要な相違以外にその他の記載内容に重要な誤りの兆候があるかどうか注意を払うことにある。 当監査法人は、実施した作業に基づき、その他の記載内容に重要な誤りがあると判断した場合には、その事実を報告することが求められている。 その他の記載内容に関して、当監査法人が報告すべき事項はない。 |
| 報酬関連情報、連結 | ＜報酬関連情報＞当監査法人及び当監査法人と同一のネットワークに属する者に対する、会社及び子会社の監査証明業務に基づく報酬及び非監査業務に基づく報酬の額は、「提出会社の状況」に含まれるコーポレート・ガバナンスの状況等 (3)【監査の状況】 に記載されている。 |
Audit1
| 監査法人１、個別 | 有限責任 あずさ監査法人 |
| 独立監査人の報告書、個別 | 独立監査人の監査報告書 2026年６月18日テクセンドフォトマスク株式会社取締役会 御中 有限責任 あずさ監査法人 東京事務所 指定有限責任社員業務執行社員 公認会計士山下 誠 指定有限責任社員業務執行社員 公認会計士関口 男也 ＜財務諸表監査＞監査意見当監査法人は、金融商品取引法第193条の2第1項の規定に基づく監査証明を行うため、「経理の状況」に掲げられているテクセンドフォトマスク株式会社の2025年4月1日から2026年3月31日までの第5期事業年度の財務諸表、すなわち、貸借対照表、損益計算書、株主資本等変動計算書、重要な会計方針、その他の注記及び附属明細表について監査を行った。 当監査法人は、上記の財務諸表が、我が国において一般に公正妥当と認められる企業会計の基準に準拠して、テクセンドフォトマスク株式会社の2026年3月31日現在の財政状態及び同日をもって終了する事業年度の経営成績を、全ての重要な点において適正に表示しているものと認める。 監査意見の根拠当監査法人は、我が国において一般に公正妥当と認められる監査の基準に準拠して監査を行った。 監査の基準における当監査法人の責任は、「財務諸表監査における監査人の責任」に記載されている。 当監査法人は、我が国における職業倫理に関する規定（社会的影響度の高い事業体の財務諸表監査に適用される規定を含む。 ）に従って、会社から独立しており、また、監査人としてのその他の倫理上の責任を果たしている。 当監査法人は、意見表明の基礎となる十分かつ適切な監査証拠を入手したと判断している。 監査上の主要な検討事項監査上の主要な検討事項とは、当事業年度の財務諸表の監査において、監査人が職業的専門家として特に重要であると判断した事項である。 監査上の主要な検討事項は、財務諸表全体に対する監査の実施過程及び監査意見の形成において対応した事項であり、当監査法人は、当該事項に対して個別に意見を表明するものではない。 フォトマスク関連事業における売上高の期間帰属の適切性監査上の主要な検討事項の内容及び決定理由監査上の対応テクセンドフォトマスク株式会社は、主にフォトマスク製品の製造及び販売を行っている。 損益計算書に計上されている売上高の金額は26,362百万円であり、製品の販売に係るものである。 注記事項「（重要な会計方針）7. 収益及び費用の計上基準」に記載のとおり、契約の定めに基づき顧客に製品を引き渡した時点や、インコタームズ等で定められた貿易条件に基づきリスク負担が顧客に移転する時点において、顧客が当該製品に対する支配を獲得する取引については、国内販売においては主に顧客に製品が到着した時に、輸出販売においては主にインコタームズ等で定められた貿易条件に基づき支配が顧客に移転した時に収益を認識している。 この点、フォトマスク製品の販売については、主に以下の理由から、履行義務を充足していないにもかかわらず、売上の計上が前倒しされるリスクが存在する。 • フォトマスク製品はテクセンドフォトマスク株式会社における主力製品であり、販売部門が事業計画達成のプレッシャーを感じる可能性があること• 特に決算月では、事業計画達成のためのプレッシャーが強まり、売上前倒し計上の誘因がある一方で、入金などによる売上の最終顛末の確認が困難であること以上から、当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上高の期間帰属の適切性が当事業年度の財務諸表監査において特に重要であり、監査上の主要な検討事項に該当すると判断した。 連結財務諸表の監査報告書において、「フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性」が監査上の主要な検討事項に該当すると判断し、監査上の対応について記載している。 当該記載内容は、個別財務諸表監査における監査上の対応と実質的に同一の内容であることから、監査上の対応に関する具体的な記載を省略している。 その他の記載内容その他の記載内容は、有価証券報告書に含まれる情報のうち、連結財務諸表及び財務諸表並びにこれらの監査報告書以外の情報である。 経営者の責任は、その他の記載内容を作成し開示することにある。 また、監査役及び監査役会の責任は、その他の記載内容の報告プロセスの整備及び運用における取締役の職務の執行を監視することにある。 当監査法人の財務諸表に対する監査意見の対象にはその他の記載内容は含まれておらず、当監査法人はその他の記載内容に対して意見を表明するものではない。 財務諸表監査における当監査法人の責任は、その他の記載内容を通読し、通読の過程において、その他の記載内容と財務諸表又は当監査法人が監査の過程で得た知識との間に重要な相違があるかどうか検討すること、また、そのような重要な相違以外にその他の記載内容に重要な誤りの兆候があるかどうか注意を払うことにある。 当監査法人は、実施した作業に基づき、その他の記載内容に重要な誤りがあると判断した場合には、その事実を報告することが求められている。 その他の記載内容に関して、当監査法人が報告すべき事項はない。 財務諸表に対する経営者並びに監査役及び監査役会の責任経営者の責任は、我が国において一般に公正妥当と認められる企業会計の基準に準拠して財務諸表を作成し適正に表示することにある。 これには、不正又は誤謬による重要な虚偽表示のない財務諸表を作成し適正に表示するために経営者が必要と判断した内部統制を整備及び運用することが含まれる。 財務諸表を作成するに当たり、経営者は、継続企業の前提に基づき財務諸表を作成することが適切であるかどうかを評価し、我が国において一般に公正妥当と認められる企業会計の基準に基づいて継続企業に関する事項を開示する必要がある場合には当該事項を開示する責任がある。 監査役及び監査役会の責任は、財務報告プロセスの整備及び運用における取締役の職務の執行を監視することにある。 財務諸表監査における監査人の責任監査人の責任は、監査人が実施した監査に基づいて、全体としての財務諸表に不正又は誤謬による重要な虚偽表示がないかどうかについて合理的な保証を得て、監査報告書において独立の立場から財務諸表に対する意見を表明することにある。 虚偽表示は、不正又は誤謬により発生する可能性があり、個別に又は集計すると、財務諸表の利用者の意思決定に影響を与えると合理的に見込まれる場合に、重要性があると判断される。 監査人は、我が国において一般に公正妥当と認められる監査の基準に従って、監査の過程を通じて、職業的専門家としての判断を行い、職業的懐疑心を保持して以下を実施する。 ・ 不正又は誤謬による重要な虚偽表示リスクを識別し、評価する。 また、重要な虚偽表示リスクに対応した監査手続を立案し、実施する。 監査手続の選択及び適用は監査人の判断による。 さらに、意見表明の基礎となる十分かつ適切な監査証拠を入手する。 ・ 財務諸表監査の目的は、内部統制の有効性について意見表明するためのものではないが、監査人は、リスク評価の実施に際して、状況に応じた適切な監査手続を立案するために、監査に関連する内部統制を検討する。 ・ 経営者が採用した会計方針及びその適用方法の適切性、並びに経営者によって行われた会計上の見積りの合理性及び関連する注記事項の妥当性を評価する。 ・ 経営者が継続企業を前提として財務諸表を作成することが適切であるかどうか、また、入手した監査証拠に基づき、継続企業の前提に重要な疑義を生じさせるような事象又は状況に関して重要な不確実性が認められるかどうか結論付ける。 継続企業の前提に関する重要な不確実性が認められる場合は、監査報告書において財務諸表の注記事項に注意を喚起すること、又は重要な不確実性に関する財務諸表の注記事項が適切でない場合は、財務諸表に対して除外事項付意見を表明することが求められている。 監査人の結論は、監査報告書日までに入手した監査証拠に基づいているが、将来の事象や状況により、企業は継続企業として存続できなくなる可能性がある。 ・ 財務諸表の表示及び注記事項が、我が国において一般に公正妥当と認められる企業会計の基準に準拠しているかどうかとともに、関連する注記事項を含めた財務諸表の表示、構成及び内容、並びに財務諸表が基礎となる取引や会計事象を適正に表示しているかどうかを評価する。 監査人は、監査役及び監査役会に対して、計画した監査の範囲とその実施時期、監査の実施過程で識別した内部統制の重要な不備を含む監査上の重要な発見事項、及び監査の基準で求められているその他の事項について報告を行う。 監査人は、監査役及び監査役会に対して、独立性についての我が国における職業倫理に関する規定を遵守したこと、並びに監査人の独立性に影響を与えると合理的に考えられる事項、及び阻害要因を除去するための対応策を講じている場合又は阻害要因を許容可能な水準にまで軽減するためのセーフガードを適用している場合はその内容について報告を行う。 監査人は、監査役及び監査役会と協議した事項のうち、当事業年度の財務諸表の監査で特に重要であると判断した事項を監査上の主要な検討事項と決定し、監査報告書において記載する。 ただし、法令等により当該事項の公表が禁止されている場合や、極めて限定的ではあるが、監査報告書において報告することにより生じる不利益が公共の利益を上回ると合理的に見込まれるため、監査人が報告すべきでないと判断した場合は、当該事項を記載しない。 ＜報酬関連情報＞報酬関連情報は、連結財務諸表の監査報告書に記載されている。 利害関係会社と当監査法人又は業務執行社員との間には、公認会計士法の規定により記載すべき利害関係はない。 以 上 (注) 1．上記の監査報告書の原本は当社（有価証券報告書提出会社）が別途保管しております。 2．XBRLデータは監査の対象には含まれていません。 |
| 監査上の主要な検討事項、個別 | 監査上の主要な検討事項監査上の主要な検討事項とは、当事業年度の財務諸表の監査において、監査人が職業的専門家として特に重要であると判断した事項である。 監査上の主要な検討事項は、財務諸表全体に対する監査の実施過程及び監査意見の形成において対応した事項であり、当監査法人は、当該事項に対して個別に意見を表明するものではない。 フォトマスク関連事業における売上高の期間帰属の適切性監査上の主要な検討事項の内容及び決定理由監査上の対応テクセンドフォトマスク株式会社は、主にフォトマスク製品の製造及び販売を行っている。 損益計算書に計上されている売上高の金額は26,362百万円であり、製品の販売に係るものである。 注記事項「（重要な会計方針）7. 収益及び費用の計上基準」に記載のとおり、契約の定めに基づき顧客に製品を引き渡した時点や、インコタームズ等で定められた貿易条件に基づきリスク負担が顧客に移転する時点において、顧客が当該製品に対する支配を獲得する取引については、国内販売においては主に顧客に製品が到着した時に、輸出販売においては主にインコタームズ等で定められた貿易条件に基づき支配が顧客に移転した時に収益を認識している。 この点、フォトマスク製品の販売については、主に以下の理由から、履行義務を充足していないにもかかわらず、売上の計上が前倒しされるリスクが存在する。 • フォトマスク製品はテクセンドフォトマスク株式会社における主力製品であり、販売部門が事業計画達成のプレッシャーを感じる可能性があること• 特に決算月では、事業計画達成のためのプレッシャーが強まり、売上前倒し計上の誘因がある一方で、入金などによる売上の最終顛末の確認が困難であること以上から、当監査法人は、フォトマスク関連事業における売上高の期間帰属の適切性が当事業年度の財務諸表監査において特に重要であり、監査上の主要な検討事項に該当すると判断した。 連結財務諸表の監査報告書において、「フォトマスク関連事業における売上収益の期間帰属の適切性」が監査上の主要な検討事項に該当すると判断し、監査上の対応について記載している。 当該記載内容は、個別財務諸表監査における監査上の対応と実質的に同一の内容であることから、監査上の対応に関する具体的な記載を省略している。 |
| 全体概要、監査上の主要な検討事項、個別 | 監査上の主要な検討事項とは、当事業年度の財務諸表の監査において、監査人が職業的専門家として特に重要であると判断した事項である。 監査上の主要な検討事項は、財務諸表全体に対する監査の実施過程及び監査意見の形成において対応した事項であり、当監査法人は、当該事項に対して個別に意見を表明するものではない。 |
| 見出し、監査上の主要な検討事項、個別 | フォトマスク関連事業における売上高の期間帰属の適切性 |
| その他の記載内容、個別 | その他の記載内容その他の記載内容は、有価証券報告書に含まれる情報のうち、連結財務諸表及び財務諸表並びにこれらの監査報告書以外の情報である。 経営者の責任は、その他の記載内容を作成し開示することにある。 また、監査役及び監査役会の責任は、その他の記載内容の報告プロセスの整備及び運用における取締役の職務の執行を監視することにある。 当監査法人の財務諸表に対する監査意見の対象にはその他の記載内容は含まれておらず、当監査法人はその他の記載内容に対して意見を表明するものではない。 財務諸表監査における当監査法人の責任は、その他の記載内容を通読し、通読の過程において、その他の記載内容と財務諸表又は当監査法人が監査の過程で得た知識との間に重要な相違があるかどうか検討すること、また、そのような重要な相違以外にその他の記載内容に重要な誤りの兆候があるかどうか注意を払うことにある。 当監査法人は、実施した作業に基づき、その他の記載内容に重要な誤りがあると判断した場合には、その事実を報告することが求められている。 その他の記載内容に関して、当監査法人が報告すべき事項はない。 |
| 報酬関連情報、個別 | ＜報酬関連情報＞報酬関連情報は、連結財務諸表の監査報告書に記載されている。 |
BS資産
| 電子記録債権、流動資産 | 195,000,000 |
| 仕掛品 | 351,000,000 |
| 原材料及び貯蔵品 | 1,016,000,000 |
| その他、流動資産 | 445,000,000 |
| 工具、器具及び備品（純額） | 199,000,000 |
| 土地 | 262,000,000 |
| 建設仮勘定 | 520,000,000 |
| 有形固定資産 | 19,500,000,000 |
| ソフトウエア | 155,000,000 |
| 無形固定資産 | 160,000,000 |
| 投資有価証券 | 1,000,000 |
| 長期前払費用 | 0 |
| 繰延税金資産 | 1,530,000,000 |
| 投資その他の資産 | 141,282,000,000 |
BS負債、資本
| 未払金 | 1,704,000,000 |
| 未払法人税等 | 2,570,000,000 |
| 未払費用 | 1,228,000,000 |
| 賞与引当金 | 585,000,000 |
| 資本剰余金 | 74,260,000,000 |
| 利益剰余金 | 37,560,000,000 |
| 株主資本 | 122,261,000,000 |
| 負債純資産 | 180,694,000,000 |
PL
| 売上原価 | 18,055,000,000 |
| 販売費及び一般管理費 | 4,755,000,000 |
| 営業利益又は営業損失 | 3,550,000,000 |
| 営業外収益 | 10,912,000,000 |