財務諸表
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| 提出書類、表紙 | 有価証券報告書 |
| 提出日、表紙 | 2024-09-27 |
| 英訳名、表紙 | ULVAC,Inc. |
| 代表者の役職氏名、表紙 | 代表取締役社長 岩下 節生 |
| 本店の所在の場所、表紙 | 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 |
| 電話番号、本店の所在の場所、表紙 | (0467)89-2033 |
| 様式、DEI | 第三号様式 |
| 会計基準、DEI | Japan GAAP |
| 連結決算の有無、DEI | true |
| 当会計期間の種類、DEI | FY |
corp
| 沿革 | ２【沿革】 当社は、1952年米国NRC Equipment Corporationと技術提携を前提とした総代理店契約を結び各種真空装置の輸入販売を目的として創業いたしました。 創業後の主要事項は次のとおりであります。 年月主要事項1952年８月各種真空装置の輸入販売を目的として、日本真空技術株式会社（資本金６百万円）を創業。 1955年４月大森工場を新設し、国産装置の製造に着手。 1956年11月株式会社東洋精機真空研究所を合併し、尼崎工場として真空化学装置及び真空ポンプ等の規格品の製造に着手。 1959年４月本社及び大森工場を横浜市に移転。 1961年７月真空技術の基本を応用し、真空冶金事業を開始。 1962年９月真空材料株式会社（商号変更 アルバックマテリアル㈱）を設立、耐火材料の販売を開始。 1962年10月熱分析機器の専門メーカーとして真空理工株式会社（現・アドバンス理工㈱）を設立。 1963年10月新生産業株式会社（1929年９月20日創立）に吸収合併されると共に、同日社名を日本真空技術株式会社と改称し、旧日本真空技術株式会社の事業内容を継続。 1964年１月外国事業部リライアンス部を分離し、米国Reliance Electric and Engineering Co.と共同出資で日本リライアンス株式会社（現・㈱ＲＥＪ）を設立。 1964年７月香港万豊有限公司と共同出資で合弁会社Hong Kong ULVAC Co.,Ltd.を設立。 1966年４月真空冶金事業部を分離し、真空冶金株式会社を設立。 1968年５月本社及び横浜工場を茅ヶ崎市に移転。 1970年７月専売特約店の三和アルバック販売株式会社（商号変更 アルバック東日本㈱）を設立。 1971年７月小型真空ポンプの専門メーカーとして真空機工株式会社（現・アルバック機工㈱）を設立。 1972年７月超材料研究所を千葉県に新設。 1975年12月対米輸出の拠点として北米に現地法人ULVAC North America Corp.(現・ULVAC Technologies, Inc.)を設立。 1977年１月九州地区の営業活動の拡大のために九州アルバック株式会社（商号変更 アルバック九州㈱）を設立。 1979年１月サービス事業部を分離し、アルバックサービス株式会社を設立。 SI事業部を分離し、アルバック成膜株式会社を設立。 1981年10月米国Helix Technology Corp.と共同出資でアルバック・クライオ株式会社を設立。 1982年１月台湾台北市にULVAC TAIWAN Co.,Ltd.（現・ ULVAC TAIWAN INC.）を設立。 1982年11月米国The Perkin Elmer Corp.と共同出資でアルバック・ファイ株式会社を設立。 1982年12月茨城県筑波学園都市（現つくば市）市内に筑波超材料研究所を設立。 1983年２月中国北京市に北京事務所を開設。 1985年３月核融合臨界プラズマ実験装置「JT-60」の真空排気系を納入。 1985年４月関西の拠点工場としてアルバック精機株式会社を設立。 1987年１月大型装置の生産体制強化のため、青森県八戸市に東北真空技術株式会社（商号変更 アルバック東北㈱）を設立。 1987年２月欧州地区のサービス体制強化のため、西独にULVAC GmbHを設立。 1987年５月グループ会社支援のため、株式会社アルバック・コーポレートセンターを設立。 1987年９月英文社名をULVAC JAPAN,Ltd.と変更。 1988年10月真空ポンプの量産体制確立のため、鹿児島に九州真空技術株式会社を設立。 1990年５月半導体製造装置の生産体制強化のため静岡県裾野市に富士裾野工場を新設。 1991年12月九州真空技術㈱がアルバック精機㈱を合併し、アルバック精機㈱に商号変更。 1992年４月資本金12億10百万円より38億30百万円に増資。 1992年６月資本金38億50百万円に増資。 1994年10月アルバックサービス㈱がアルバックマテリアル㈱を合併し、アルバックテクノ㈱に商号変更。 1995年５月韓国ソウル市に、ULVAC KOREA,Ltd.を設立。 1995年９月中国に寧波中策動力機電集団有限公司と合弁で寧波愛発科真空技術有限公司を設立。 1996年11月真空装置の生産能力拡充のため、東北真空技術㈱、アルバック九州㈱鹿児島事業所にクリーン工場を増設。 年月主要事項1998年１月シンガポールCSセンター、台湾新竹R&Dセンターを開設し、アジアのネットワークを拡大。 2000年４月台北五股サービスセンターを開設。 2000年８月ULVAC KOREA,Ltd.に生産工場として平澤工場を設置。 2001年５月寧波愛発科真空技術有限公司に新工場を設置。 2001年７月株式会社アルバック（英文社名ULVAC,Inc.）に商号変更。 2001年11月カスタマーサポート強化のためULVAC TAIWAN INC.桃園CIP工場を設置。 2002年１月カスタマーサポート体制の充実のためULVAC SINGAPORE PTE LTDを設立。 2002年７月アルバック東日本㈱が高山アルバック㈱を合併し、アルバック イーエス㈱（現・アルバック販売㈱）に商号変更。 2002年12月米国Physical Electronics USA,Inc.が保有するアルバック・ファイ㈱株式（50％）を取得し、100％子会社化。 2003年３月米国RELIANCE ELECTRIC COMPANYより日本リライアンス㈱株式（31％）を取得し、持分を81％に引き上げ。 2003年５月アルバック東北㈱、アルバックテクノ㈱、UMAT㈱による機械加工、表面処理、精密洗浄の一貫工場を東北に設置。 2003年７月中国における本格的生産工場とCSソリューション工場として愛発科真空技術（蘇州）有限公司を設立。 2003年８月工業用インクジェット装置を製造・販売しているLitrex Corporationの株式50％を取得。 2004年４月東京証券取引所市場第１部に株式を上場。 資本金38億50百万円より81億円に増資。 2004年５月資本金81億円より89億50百万円に増資。 2004年７月韓国にULVAC KOREA,Ltd.とアルバック東北㈱が共同出資で大型基板真空用部品の製造を目的としたUlvac Korea Precision,Ltd.を設立。 韓国にULVAC KOREA,Ltd.と真空冶金㈱が共同出資で成膜装置用部品の表面処理を目的としたPure Surface Technology,Ltd.を設立。 2004年８月中国に日本リライアンス㈱、啓電実業股份有限公司と共同出資で制御盤及び自動制御駆動装置の製造、販売を目的とした愛発科啓電科技（上海）有限公司（現・愛発科自動化科技（上海）有限公司）を設立。 2004年12月資本金89億50百万円より134億68百万円に増資。 2005年１月中国にアルバック機工㈱と江蘇宝驪集団公司と共同出資で真空ポンプ用部品の製造、販売を目的とした愛発科天馬電機（靖江）有限公司を設立。 中国に沈陽中北真空技術有限公司と共同出資で真空炉の製造、販売を目的とした愛発科中北真空（沈陽）有限公司を設立。 成都東方愛発科真空技術有限公司を子会社化し、愛発科東方真空（成都）有限公司に商号変更。 2005年４月真空冶金㈱がUMAT㈱を合併し、アルバックマテリアル㈱に商号変更。 フラットパネルディスプレイ事業拡大のため、富士通ヴィエルエスアイ㈱より設備事業譲受。 2005年６月ULVAC KOREA,Ltd.に生産拡大のため玄谷工場を増設。 アルバック機工㈱宮崎事業所に小型真空ポンプの評価、検証を目的とした信頼性評価センターを設置。 2005年11月英国Cambridge Display Technology Limitedが保有するLitrex Corporation株式（50％）を取得し100％子会社化。 タイに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC (THAILAND) LTD.を設立。 2005年12月台湾にフラットパネルディスプレイ製造装置などの製造を目的としたULVAC TaiwanManufacturing Corporationと、部品加工や部品洗浄などフィールドサポートを目的としたULTRA CLEAN PRECISION TECHNOLOGIES CORP.を設立。 2006年３月中国における子会社の管理統括等を目的とした愛発科（中国）投資有限公司を設立。 2006年４月台湾に制御盤等の製造を目的としたULVAC AUTOMATION TAIWAN Inc.を設立。 2006年７月韓国に研究開発を目的としたULVAC Research Center KOREA，Ltd.を設立。 台湾に研究開発を目的としたULVAC Research Center TAIWAN，Inc.を設立。 2006年８月精密ステージを製造・販売しているシグマテクノス㈱の株式（70％）を取得。 マレーシアに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC MALAYSIA SDN.BHD.を設立。 年月主要事項2006年９月神奈川県茅ヶ崎市に真空装置部品の表面処理を目的とした、アルバックテクノ㈱ケミカルセンターを新設。 宮崎県西都市に小型真空ポンプの生産集約化を目的として、アルバック機工㈱宮崎事業所を増 設。 2006年11月愛知県春日井市にフラットパネルディスプレイ製造装置の生産能力拡充のため、愛知工場を新設。 2007年６月インドビジネス拡大のため、ULVAC,Inc.India Branch.を設立。 2007年９月埼玉県日高市に大型の精密ステージの製造・販売するためシグマテクノス㈱本社工場を新設。 2007年11月啓電実業股份有限公司の持株譲渡に伴い愛発科啓電科技（上海）有限公司を愛発科自動化科技(上海）有限公司に商号変更。 2008年２月開発委託設計を目的としたアルバック ワイ・エム・イー㈱（商号変更 アルバックエンジニアリング㈱）を設立。 2008年７月フィールドサポートを専門とした、アルバックヒューマンリレーションズ㈱を設立。 2008年８月台湾における経営の合理化などを目的としてULVAC TAIWAN INC.を存続会社とし、ULVAC Taiwan Manufacturing Corporationと合併。 2008年８月韓国にスパッタリングターゲットの製造及びボンディングを目的とした、ULVAC Materials Korea,Ltd.を設立。 2008年10月スパッタリングターゲット材の効率的な生産と開発体制の強化を目的として、アルバックマテリアル㈱から当社へ事業を移し、洗浄事業のサポート体制の充実を目的として、アルバックテクノ㈱とアルバック九州㈱へ事業譲渡。 2009年４月中国にスパッタリングターゲットの製造及びボンディングを目的とした、愛発科電子材料（蘇州）有限公司を設立。 2009年４月中国にタッチパネルの製造などを目的とした愛発科豪威光電薄膜科技（深圳）有限公司を設立。 2009年６月ディスプレイ事業を東アジアで機動的に事業展開するため、Litrex Corporationを解散し、当社にて同事業を継続。 2009年12月中国に研究開発を目的とした愛発科（蘇州）技術研究開発有限公司を設立。 2010年１月資本金134億68百万円より208億73百万円に増資。 2010年３月研究開発強化のため、富里工業団地に千葉超材料研究所を新設移設。 2010年10月当社がアルバックマテリアル㈱を吸収合併、アルバック九州㈱のサービス、洗浄、表面処理事業をアルバックテクノ㈱に事業譲渡。 また、アルバック九州㈱がアルバック精機㈱を吸収合併。 2011年７月韓国の研究開発強化のため、ULVAC Research Center KOREA，Ltd.を解散し、ULVAC KOREA,Ltd.の付属研究所として韓国超材料研究所を設立。 2012年６月㈱アルバック・コーポレートセンターを解散し、当社にて同事業を継続。 2012年７月販売体制強化のため、アルバック イーエス㈱をアルバック販売㈱に商号変更。 2012年９月2013年10月2014年５月2014年６月2014年12月2015年１月2016年12月シグマテクノス㈱を解散。 日本リライアンス㈱の一部株式（80％相当）を㈱高岳製作所へ譲渡。 ULVAC Research Center TAIWAN，Inc.を解散し、ULVAC TAIWAN INC.にて同事業を継続。 中国に輸入部品の保税扱いでの仕入れ、販売のため、愛発科真空設備（上海）有限公司を設立。 アルバック理工㈱（現・アドバンス理工㈱）の全株式を㈱チノーへ譲渡。 アルバックエンジニアリング㈱を解散。 沈陽中北真空技術有限公司が保有する愛発科中北真空（沈陽）有限公司の株式（25％）を取得し、100％子会社化。 2017年９月100％子会社化に伴い、愛発科中北真空（沈陽）有限公司を愛発科真空技術（沈陽）有限公司に商号変更。 2018年７月中国にフラットパネルディスプレイ用マスクブランクス事業の生産、販売を目的とした愛発科成膜技術（合肥）有限公司を設立。 2018年10月2019年１月寧波愛発科真空技術有限公司が第三者割当増資を実施。 日本リライアンス㈱を㈱ＲＥＪに商号変更。 2021年２月2021年５月愛発科豪威光電薄膜科技（深圳）有限公司を解散。 Pure Surface Technology,Ltd.がULVAC Materials Korea,Ltd.、Ulvac Korea Precision,Ltd.、UF TECH,Ltd.を吸収合併。 年月主要事項2021年７月2021年８月 2022年４月 2022年６月2022年７月2023年11月 2024年５月アルバックヒューマンリレーションズ㈱の全株式を㈱マイスティアへ譲渡。 中国にリークテスト装置の生産、販売を目的とした愛発科東方検測技術（成都）有限公司を設立。 東京証券取引所の市場区分見直しにより、東京証券取引所の市場第一部からプライム市場に移行。 ㈱ＲＥＪの全株式をアイダエンジニアリング㈱へ譲渡。 当社がアルバック東北㈱、アルバック九州㈱を吸収合併。 中国に表面分析装置の販売、カスタマーサポートを目的とした愛発科費恩斯（南京）儀器有限公司を設立。 韓国に製品・技術開発の加速、コラボレーションと技術サポートの強化を目的としたTechnology Center PYEONGTAEKを新設。 |
| 事業の内容 | ３【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社37社、関連会社８社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。 事業区分主要製品真空機器事業FPD製造装置スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、真空蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他半導体及び電子部品製造装置スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理（自然酸化膜除去等）装置、超高真空装置他コンポーネント真空ポンプ（ドライポンプ、メカニカルブースタポンプ、油回転ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ、イオンポンプ、油拡散ポンプ）、真空計、リークテスト装置、リークディテクタ、ガス分析計、成膜用電源、成膜コントローラ、真空バルブ、真空搬送ロボット、各種真空部品他一般産業用装置真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置他真空応用事業材料スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属（Ta、Nb、W、Mo）、表面処理、超微粒子（ナノメタルインク）他その他オージェ電子分光分析装置、X線光電子分光分析装置、二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等（１）連結財務諸表 注記事項（セグメント情報等）」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。 主要製品概要スパッタリング装置真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。 ＣＶＤ装置つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。 エッチング装置真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。 真空蒸着装置真空中で特定の物質を熱し、そこから蒸発する原子や分子をより温度の低い面に凝縮させて、表面に膜を形成する装置。 真空熱処理炉真空中で各種金属の焼入、ろう付、焼戻、容体化、時効、磁性処理等を行う装置。 以上のような装置により、携帯電話、スマートフォン、PC、タブレットPC、携帯音楽プレイヤー、デジタル家電、薄型テレビ、自動車等の最終製品を構成するエレクトロニクス部品等が生み出されております。 また、主な各々の事業区分ごとの事業の流れは以下のとおりです。 |
| 関係会社の状況 | ４【関係会社の状況】 会社名住所資本金又は出資金（百万円）主要な事業議決権の所有割合（％）関係内容営業上の取引役員の兼任等資金援助設備の賃貸借(連結子会社) アルバックテクノ㈱神奈川県茅ヶ崎市125真空機器事業100.0当社製品の販売・カスタマーサポートありなしありアルバック機工㈱（注）５宮崎県西都市280真空機器事業100.0同社製品の仕入ありありありアルバック販売㈱（注）５東京都港区90真空機器事業真空応用事業100.0(33.0)当社製品の販売ありなしありULVAC Technologies,Inc.（注）５米国マサチューセッツ州千US$17,580真空機器事業100.0当社製品の販売ありなしなしULVAC KOREA,Ltd.韓国平澤市千WON8,144,460真空機器事業100.0(17.5)当社製品の製造・販売・カスタマーサポートありありなしULVAC TAIWAN INC.台湾新竹市千NT$498,000真空機器事業100.0(10.0)当社製品の製造・販売・カスタマーサポートありなしなしアルバック・クライオ㈱（注）３神奈川県茅ヶ崎市50真空機器事業50.0同社製品の仕入ありありありアルバック・ファイ㈱神奈川県茅ヶ崎市100真空応用事業100.0当社からの製品の仕入ありありありULVAC SINGAPORE PTE LTDシンガポール千SG$8,300真空機器事業92.8(37.8)当社製品の販売・カスタマーサポートありなしなし愛発科真空技術(蘇州)有限公司（注）５中国蘇州市千RMB246,521真空機器事業100.0(69.4)当社が販売する真空装置の製造委託等ありなしなし愛発科東方真空(成都)有限公司中国成都市千RMB85,009真空機器事業74.7(30.6)当社製品の製造・販売ありなしなし愛発科東方検測技術(成都)有限公司中国成都市千RMB60,000真空機器事業74.7(74.7)当社からの製品の仕入ありなしなし愛発科自動化科技(上海)有限公司中国上海市千RMB25,817真空応用事業57.5(45.0)同社製品の仕入ありなしなし愛発科天馬電機(靖江)有限公司中国靖江市千RMB24,830真空機器事業60.0(20.0)同社製品の仕入ありなしなし愛発科真空技術(沈陽)有限公司中国沈陽市千RMB129,319真空機器事業100.0(67.1)当社製品の製造・販売ありなしなしPhysical Electronics USA,Inc.米国ミネソタ州US$1,000真空応用事業100.0(100.0)－ありなしなしULVAC MALAYSIA SDN.BHD.マレーシア千RM25,000真空機器事業96.0(59.0)当社製品の販売・カスタマーサポートありありなし愛発科(中国)投資有限公司（注）５中国上海市千RMB573,000真空応用事業100.0中国事業の管理業務の委託ありなしなしタイゴールド㈱神奈川県茅ヶ崎市99真空応用事業90.0同社製品の仕入ありなしありPure Surface Technology,Ltd.（注）５韓国平澤市千WON26,794,990真空機器事業真空応用事業100.0(56.2)当社からの製品の仕入ありありなしULVAC CRYOGENICS KOREAINCORPORATED（注）３韓国平澤市千WON6,145,000真空機器事業50.0(50.0)当社からの製品の仕入ありなしなし 会社名住所資本金又は出資金（百万円）主要な事業議決権の所有割合（％）関係内容営業上の取引役員の兼任等資金援助設備の賃貸借ULTRA CLEAN PRECISIONTECHNOLOGIES CORP.台湾台南市千NT$341,000真空機器事業100.0(100.0)当社からの製品の仕入ありなしなしアルバック成膜㈱埼玉県秩父市100真空応用事業65.0当社からの製品の仕入ありありなしULCOAT TAIWAN,Inc.台湾台南市千NT$512,000真空応用事業65.0(65.0)当社からの製品の仕入ありなしなし愛発科商貿(上海)有限公司中国上海市千RMB15,940真空機器事業真空応用事業100.0(100.0)当社製品の販売・カスタマーサポートありなしなし愛発科真空設備(上海)有限公司中国上海市千RMB5,000真空機器事業100.0(100.0)当社製品の販売ありなしなし愛発科電子材料(蘇州)有限公司（注）５中国蘇州市千RMB165,251真空応用事業100.0(77.9)当社製品の製造・販売ありなしなし愛発科成膜技術(合肥)有限公司中国合肥市千RMB80,267真空応用事業67.7(67.7)当社からの製品の仕入ありなしなし愛発科費恩斯(南京)儀器有限公司中国南京市千RMB1,500真空応用事業100.0(100.0)－ありなしなし(持分法適用関連会社) ㈱昭和真空（注）４相模原市中央区2,177真空機器事業21.6当社からの製品の仕入なしなしなしULVAC AUTOMATION TAIWAN Inc.台湾新北市千NT$80,000真空応用事業40.0同社製品の仕入ありなしなし寧波愛発科真空技術有限公司中国寧波市千RMB192,493真空機器事業49.0同社製品の仕入ありなしなし （注）１．「主要な事業」欄には、セグメントの名称を記載しております。 ２．「議決権の所有割合」欄の（ ）内数字は、間接所有割合で内数であります。 ３．持分は50％以下でありますが、実質的に支配しているため子会社としております。 ４．有価証券報告書を提出している会社であります。 ５．特定子会社に該当しております。 |
| 従業員の状況 | ５【従業員の状況】 (1)連結会社の状況 （2024年６月30日現在）セグメントの名称従業員数（名）真空機器事業4,601真空応用事業938全社（共通）695合計6,234 （注）１．従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。 ２．全社（共通）として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (2)提出会社の状況 （2024年６月30日現在）従業員数（名）平均年齢（歳）平均勤続年数（年）平均年間給与（円）1,68044.517.27,511,019 セグメントの名称従業員数（名）真空機器事業1,324真空応用事業157全社（共通）199合計1,680 （注）１．従業員数は、当社から他社への出向者を除き、他社から当社への出向者を含む就業人員であります。 ２．平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。 ３．全社（共通）として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (3)労働組合の状況当社グループの労働組合は、主としてアルバック労働組合であります。 なお、労使関係については良好であり、特記すべき事項はありません。 (4)管理職に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休暇取得率及び労働者の男女の賃金の差異①提出会社当事業年度管理職に占める女性労働者の割合（％） （注）１男性労働者の育児休業取得率（％） （注）２労働者の男女の賃金の差異（％）（注）３全労働者正規雇用労働者パート・有期労働者4.830.259.180.355.6 （注）１．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき2024年６月30日を基準に算出したものであります。 ２．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」（1991年法律第76号）の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」（1991年労働省令第25号）第71条の４第１号における育児休業等と育児目的休暇の取得割合を2023年７月１日から2024年６月30日の期間で算出したものであります。 ３．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき算出したものであります。 なお、制度上の賃金格差は無く、主に上位職層における女性比率が低いことによるものであります。 ②連結子会社当事業年度名称管理職に占める女性労働者の割合（％） （注）１男性労働者の育児休業取得率 （％） （注）２労働者の男女の賃金の差異（％）（注）３全労働者正規雇用労働者パート・有期労働者アルバックテクノ株式会社0.833.357.574.843.3アルバック機工株式会社0.025.0－－－アルバック販売株式会社7.1100.0－－－アルバック・クライオ株式会社15.2100.0－－－アルバック・ファイ株式会社8.10.0－－－アルバック成膜株式会社0.014.3－－－タイゴールド株式会社0.00.0－－－ （注）１．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき常時雇用する労働者が101名以上の国内子会社を対象に、2024年６月30日を基準に算出したものであります。 ２．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」（1991年法律第76号）の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」（1991年労働省令第25号）第71条の４第１号における育児休業等と育児目的休暇の取得割合を算出したものであります。 なお、常時雇用する労働者が101名以上の国内子会社を対象に、2023年７月１日から2024年６月30日の期間で集計した数値を記載しております。 また、「0.0」は取得対象者のうち、実際に取得した労働者が無いことを示しています。 ３．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき常時雇用する労働者が301名以上の国内子会社を対象に算出しております。 なお、制度上の賃金格差は無く、主に上位職層における女性比率が低いことによるものです。 また、「－」は、常時雇用する労働者が300人以下の国内子会社であり、情報公表の対象外としております。 |
| 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等 | １【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】 （1）会社の経営の基本方針当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。 ①顧客満足の増進複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。 ②生産技術の革新製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化（モジュール化、ユニット化）を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。 ③独創的な商品開発競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。 ④自由闊達な組織経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。 ⑤企業価値の向上株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 （2）経営環境当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、欧米における高い金利水準の継続や中国における景気減速懸念に伴う海外景気の下振れリスクが意識される等、先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、スマートフォンやパソコン等の需要減速に伴う短期的な半導体メーカーの設備投資の鈍化がみられますが、中長期的には、生成AIへの期待等による半導体需要拡大が引き続き見込まれるとともに、地政学的リスク等に対応した世界各地での半導体工場新増設計画が進められています。 また、エレクトロニクス業界では、グリーンエネルギー政策等に基づくEV導入促進政策の継続的な進展等に伴うパワーデバイス投資、スマート社会化構想等に基づくデジタル化の促進やメタバースの実現等に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産のための投資、中国におけるエレクトロニクスの国産化政策に基づく投資等の継続的な拡大が続いています。 そして、フラットパネルディスプレイ（FPD）業界においては、引き続き、タブレットやパソコン用のITパネルが液晶から有機ELへ転換する過渡期にあり、大型基板の有機EL投資が引き続き期待されます。 また、産業用電池業界においても、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上の実現に向けた量産投資の本格化の兆候が引き続き認められています。 （3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題当社グループは、「互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念のもと、真空及びその周辺技術を、装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートといった幅広い事業領域において取扱うことで生み出されるシナジー効果を強みとした事業経営を行っております。 また、このシナジー効果をより効果的に発揮できるよう、当社グループ間の連携強化や世界の多様な企業や研究所等とビジネスパートナーシップの形成を推進することで、よりグローバルに事業を展開し、更なる持続的成長と企業価値向上を実現する高い収益性を有する企業集団となることを目指しています。 また、当社グループは、「真空技術及びその周辺技術の総合利用により、経済価値、社会価値、環境価値を創造する」というサステナビリティ方針に基づき、当社グループの事業活動を通して、幅広いステークホルダーとともに、産業と科学の発展に貢献し、環境負荷の低減や健康と幸せの創造により適正な利潤を追求し、気候危機や資源不足等地球の持続可能性を脅かす環境問題の解決に向けての取組みも推進しております。 これらの当社グループの経営基本理念やサステナビリティ方針を踏まえ、当社グループは、“Vision2032”「未来につながる『可能性の場』であり続ける」を策定して開示しました。 この“Vision2032”は、当社グループの10年後の理想像を、当社創業時から受け継がれてきた企業文化や価値観を未来志向に変換した姿とすることを目指したもので、当社グループは、この“Vision2032”の実現に向けて当社グループが取組むべき重要課題（マテリアリティ）を念頭においた経営に、グループ一丸となって引き続き取組んでおります。 〈当社グループが取組むべき重要課題（マテリアリティ）〉・真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進・多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり・バリューチェーンにおける人権尊重・責任ある行動・持続可能な地球環境への貢献 そして、この重要課題（マテリアリティ）に取組むため、当社グループは、2024年６月期を初年度とする３年間（2024年６月期～2026年６月期）の中期経営計画を策定して開示しました。 当社グループは、この中期経営計画の基本方針、重点戦略と具体的取組み及び数値目標（連結）を堅持し、引き続き中期経営計画の目標達成に努めております。 中期経営計画の概要は次のとおりです。 ①基本方針 ・真空技術による社会的価値創造 ・利益・資本効率重視の経営 ②数値目標（連結）指 標2026年６月期目標〈参考〉2024年６月期実績売上高3,000億円2,611億円売上総利益率35％30.9％営業利益率16％11.4％営業キャッシュ・フロー（３年間累計）630億円（初年度実績）172億円ROE（自己資本利益率）14％9.7％ ③重点戦略と具体的取組み1．成長事業における製品競争力の強化共創によるイノベーションの推進各分野における世界のリーディング企業、大学等との最先端技術の共同開発を推進することで、技術革新に対応した製品開発力を強化し、併せてグローバル開発体制の強化に努める半導体及び電子部品事業の拡大①半導体：先端ロジックにおける当社グループの技術力や当社グループが採用された製造工程の実績をもとに、メモリー及びレガシー半導体分野においても当社グループがその製造工程での採用を獲得することを目指し、更なる拡販活動を強化し、事業拡大に努める②電子部品：当社グループが注力する主要５分野（パワーデバイス、オプトデバイス、通信デバイス、電子部品、実装）において、当社グループの主力製品の性能や納期等の側面における差別化を目指し、更なる拡販活動を強化し、事業拡大に努めるカスタマーサービス事業の強化製品ライフサイクル全体をカバーすることを当社グループにおけるビジネス機会と捉え、当社グループが特に注力すべき地域におけるサポート体制の強化や当社グループから顧客に対する提案型での既存装置の改良や改善といったビジネスの推進を目指すことで、更なる当社グループの総合的なサービス力強化に努める 2．グローバル生産性の向上モノづくり力強化当社グループの売上総利益率の更なる向上を目指し、計画的生産の拡充を推進し、技術設計から購買・生産体制まですべての工程における生産性向上の推進に努める①技術設計強化：当社グループにおける各ビジネスプロセス（開発、営業、技術設計、購買、製造等）の連携を強化し、当社グループの販売製品のモジュール化、標準化を更に推進し、製品企画力強化に努める②購買体制強化：当社グループにとってのキーサプライヤーとの連携を強化し、当社グループの販売製品の計画的生産に対応した戦略購買力の更なる強化に努める③生産体制強化：当社グループの販売製品毎の最適拠点での生産を進めるとともに、当社グループにおける事業間の経営資源の再配分を柔軟に行うことで、更なる生産性の向上に努めるデジタル化の推進当社グループにおける効率的な生産を更に推進するために業務プロセスの見直しを実施するとともに、当該推進を目的とした各種情報システムの導入を進めることで、当社グループにおけるグローバルな生産性の更なる向上に努める3．経営基盤の強化ESG経営の強化①当社グループの事業活動におけるCO2排出の削減に継続して取組むとともに、気候危機等の社会的課題の解決に貢献する環境配慮型製品の更なる開発と拡販に努める②当社グループのみならず当社グループの取引先といったステークホルダーに至るまで、当社の推進する人権に配慮した事業運営についての理解を共有するとともに、労働環境をはじめとする人権尊重の推進の更なる実現に努める③当社グループの持続的な成長を実現するために、実効性、透明性の高い経営体制の強化に最適な見直しに継続的に取組むことにより、コーポレート・ガバナンス体制の更なる維持強化に努める財務基盤の強化、キャッシュ・フローマネジメントの強化当社グループの更なる成長に向けた十分な開発投資資金を確保し、当社事業をとりまく外部環境変化への迅速な対応を実現する強固な財務基盤の構築を更に進めるとともに、キャッシュ・フローマネジメントの更なる強化により、資本効率の一層の改善に努める人財経営の推進当社グループにおいて多様な人財が活躍できる環境を整備することで従業員エンゲージメントを高めるとともに、次世代リーダーとなる中核人財の育成プログラムを再構築することで当社グループの人的資本の更なる強化に努める |
| サステナビリティに関する考え方及び取組 | ２【サステナビリティに関する考え方及び取組】 当社グループは、サステナビリティをめぐる課題への対応が、中長期的な企業価値の向上と持続的な成長のために重要であると認識し、経営基本理念に基づきサステナビリティ方針を定め、真空技術及びその周辺技術の総合利用による経済価値、社会価値、環境価値の創造を目指しております。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 (1）ガバナンス当社グループは、社長直轄のサステナブル経営推進室を設置し、グループ全体でサステナビリティの取組みを推進しています。 年２回開催されるサステナビリティ推進委員会では、社内取締役、執行役員及び部署長が参加し、サステナビリティに関する目標設定・進捗管理、方針の検討、重要テーマへの取組みなどについて討議を行っています。 重要案件については、取締役会の決定した経営方針に基づいて重要な業務執行に関する事項について審議を行う機関である経営会議等で適宜報告や決議を実施しています。 また、サステナビリティ担当執行役員は、サステナビリティ推進委員会の内容及びグループ全体のサステナビリティの取組みについて取締役会に報告し、取締役会は業務執行状況を的確に把握し、適切に監督しています。 (2）戦略当社グループでは、2050年にありたい姿「真空技術で世の中のためになる価値をパートナーとともに生み出し、人と地球の未来に貢献し続けている企業」及び“Vision2032”「未来につながる『可能性の場』であり続ける」の実現に向けた当社グループ固有の経営課題を「マテリアリティ」と定義し、「ステークホルダーにとっての重要度」と「事業への影響度」の２軸で評価し以下の４項目を特定しています。 特定したマテリアリティに取組み、経営基盤を強化するとともに、真空技術で社会的価値を創造し人と地球の未来に貢献し続けている企業を目指します。 ①真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進当社グループのあらゆる事業活動の中核には「真空技術及びその周辺技術の総合利用」があります。 近年深刻化する気候変動、資源の枯渇といった地球規模の課題に対し技術力を駆使してイノベーションの創出を目指します。 そのために、顧客や取引先、関係各所と先端技術の研究開発や新たな取組みを推進します。 さらに、人財育成、知的財産戦略の強化など、多角的に推進の基盤を強化してまいります。 新中期経営計画で掲げている「成長事業における製品競争力の強化」においては、次世代のインフラの中核となる半導体・電子デバイスや大容量バッテリーを実用化する技術・製造装置の開発を関連企業・研究機関と進めます。 これにより社会基盤、カーボンニュートラル、新エネルギー分野での課題解決型事業を強化・創出するとともに、利益・資本効率重視の経営を推進することで、飛躍の土台を築き上げます。 ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり（多様性の確保に向けた人財育成方針と社内環境整備方針）当社グループは、世界の半導体メーカー・電子デバイスメーカーやパネルメーカーが集中する日本・中国・韓国・台湾など東アジアを中心に、幅広い顧客基盤、先端研究機関とのネットワーク、開発・営業・カスタマーサポート拠点、製造拠点、サプライヤー網を持っており、グローバルに事業展開する多数のグループ会社から形成されています。 「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念を実践・実現していくためには、当社が企業倫理行動基準の中に定めた「社員の人格・個性の尊重」「人権の尊重とあらゆる差別的取扱の禁止」を遵守し、グローバルに活躍する従業員の個性を尊重し、多様性を受け入れ活かすことが大きな原動力になります。 このようなダイバーシティを尊重し、インクルージョンを推進することによりイノベーションを創出し、顧客や社会の課題を解決することで、従業員それぞれの成長につながる新しい価値を生み出し続けることを目指します。 このような考えに基づき、変化の激しいビジネス環境を勝ち抜いていく上で、外部環境の変化に強くグローバルに活躍できる人財の育成を強化するため、働きがいのある職場環境や人事諸制度の整備、教育機会の創出に努めます。 ③バリューチェーンにおける人権尊重・責任ある行動「国連グローバル・コンパクト」に署名し、人権・労働・環境・腐敗防止の４分野で企業が遵守すべき普遍的原則である「国連グローバル・コンパクトの10原則」に基づき、各分野における取組みを推進しています。 当社グループにおいては、「企業倫理行動基準」を定め、自らの業務が人権を侵害していないかを判断するための指針としています。 さらに、国際連合の「ビジネスと人権に関する指導原則」をはじめとする国際規範を踏まえた「ULVAC人権方針」を策定し、事業に反映することで、人権に関する重要な課題を特定し、その取組みを明らかにしています。 当該方針に従い、人権デューデリジェンスのプロセスを構築し、企業活動を通じて人権に与えうる影響の認識、防止、対処に向けた取組みを進めています。 そして、このプロセスを通じて生じる問題に対する救済メカニズムの充実にも努めています。 また、当社グループでは、エレクトロニクス業界を中心としたCSR推進団体であるRBA（Responsible Business Alliance）の行動規範の遵守に努めています。 その原則を基に、主要生産拠点での自己評価調査を定期的に行っています。 取引先に対してもこれらの規範の遵守を求めています。 ④持続可能な地球環境への貢献地球環境の保全が重要課題の一つとしてとらえ、環境に配慮したビジネス活動を展開し、気候変動対応や水資源の有効活用など資源循環への取組みを加速し住みよい地球と豊かな社会の発展に貢献していきます。 中でも、気候変動の取組みについては、重要な経営課題の一つとして位置付けています。 IEA（国際エネルギー機関）等が発表する「世界の平均気温が４℃以上上昇する」「世界の平均気温がパリ協定で合意した２℃未満の上昇に抑えられる（一部1.5℃以内）」のシナリオで、気候変動が中長期的に事業に影響を及ぼすリスク・機会を以下のとおり特定しており、「カーボンプライシング」「台風や豪雨等の異常気象による災害発生による事業継続リスク」「パワーデバイスの市場機会の拡大」について、リスクと機会を分析し事業への定量的な影響について評価しました。 今後事業への影響の定量化の範囲を拡大するとともに、具体的な施策の検討を更に進めてまいります。 主なリスクカテゴリー要素施策市場顧客の行動変化による事業コストの増加事業活動における再生可能エネルギーの導入や省エネルギー施策の徹底政策及び法規制カーボンプライシング技術既存製品・サービスを排出量の少ないものに置換各分野の技術革新に貢献する製造装置等の製品・サービスの研究開発及び製品の低消費電力化の推進急性・慢性台風や豪雨等の異常気象による災害発生による事業継続リスク自然災害時における事業継続計画の策定、対策の実施 主な機会カテゴリー要素施策製品・サービス低消費電力デバイス、パワーデバイス、リチウムイオン電池に寄与する装置や技術への期待の高まり、低消費電力型製品へのニーズの拡大各分野の技術革新に貢献する製造装置等の製品・サービスの研究開発及び製品の低消費電力化の推進 責任ある社会の一員として積極的に取組んでいくため、当社グループは事業活動における中長期の温室効果ガス排出量削減目標として、2030年に40％削減（2020年比）、2050年には実質ゼロを定め、国内外における省エネルギーに対する取組み努力、太陽光発電設備の設置、再生可能エネルギーの導入を積極的に推進するとともに、環境配慮型製品の開発等あらゆる活動を通じて温室効果ガス排出量抑制に努め、気候変動対策に取組んでまいります。 (3）リスク管理経営に重大なダメージを与える全てのリスクについては経営企画室を所管部署として定め、当該リスクの特定とその対策の立案を社内関係部署やグループ会社に指示しています。 これにより、リスクの識別と全社的な対応の推進を行い、結果をリスクマネジメント委員会に報告しています。 同委員会では、これらのリスクの詳細な洗い出しや特定、さらには事業報告や改善策の検討を行い、モニタリングを通じて早期検出や報告、対処を実施しています。 また、中長期的なサステナビリティリスクについてはサステナブル経営推進室を所管部署として定め、サステナビリティに関連するリスクの特定を社内関係部署やグループ会社に指示し、その結果をサステナビリティ推進委員会に報告しています。 同委員会では中長期的なリスクに対する取組みの進捗を管理しています。 最終的に、取締役会はこれらの委員会からの報告を受け、リスクの管理状況を監督しています。 当社グループは、これらの体制を通じて、経営の安定と持続可能な成長を目指します。 機関・組織機能・役割取締役会リスクの管理状況について、サステナビリティ推進委員会及びリスクマネジメント委員会より報告を受け、監督サステナビリティ推進委員会中長期的なサステナビリティリスクの重要性評価をマテリアリティ特定・見直しのプロセスにおいて実施、取組み進捗を管理リスクマネジメント委員会経営に重大なダメージを与える全てのリスクの洗い出し、特定、事業報告及び改善策の検討、モニタリングによる予兆・早期検出・報告・対処を実施サステナブル経営推進室社内の関係部署及びグループ会社にサステナビリティに係るリスクの特定を指示、リスクを識別し全社的な対応を推進、サステナビリティ推進委員会へ報告経営企画室社内の関係部署及びグループ会社に経営に重大なダメージを与えるリスクの特定と対策立案を指示、リスクを識別し全社的な対応を推進、リスクマネジメント委員会へ報告なお、重大なリスクの詳細については、「３ 事業等のリスク」に記載のとおりであります。 (4）指標及び目標中長期的な企業価値向上及び持続的な成長において、財務のみならず非財務における指標の達成は重要であり、今後も当社グループ全体で活動してまいります。 当社グループのサステナビリティに関する主な指標及び目標は次のとおりであります。 ・環境に関する主な指標指標目標温室効果ガス排出量2030年の温室効果ガス排出量を2020年比40％削減（Scope1、2）2050年の温室効果ガス排出量実質ゼロ GHG排出量の削減実績の詳細な情報については、下記の当社ウェブサイトにおいて公開している環境データをご参照ください。 https://www.ulvac.co.jp/sustainability/environment/edata/index.html 人財育成及び社内環境整備に関する方針については、「（2）戦略 ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり」に記載のとおりであります。 ・人的資本に関する主な指標指標目標実績女性管理職比率2026年６月までにグループ全体で10％以上9.8％（2024年６月期） 「サステナビリティに関する考え方及び取組」に関する詳細な情報については、下記の当社ウェブサイトにおいて公開しているULVAC VALUE REPORTをご参照ください。 2024年版については2025年１月に公開予定です。 https://www.ulvac.co.jp/sustainability/index.html |
| 戦略 | (2）戦略当社グループでは、2050年にありたい姿「真空技術で世の中のためになる価値をパートナーとともに生み出し、人と地球の未来に貢献し続けている企業」及び“Vision2032”「未来につながる『可能性の場』であり続ける」の実現に向けた当社グループ固有の経営課題を「マテリアリティ」と定義し、「ステークホルダーにとっての重要度」と「事業への影響度」の２軸で評価し以下の４項目を特定しています。 特定したマテリアリティに取組み、経営基盤を強化するとともに、真空技術で社会的価値を創造し人と地球の未来に貢献し続けている企業を目指します。 ①真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進当社グループのあらゆる事業活動の中核には「真空技術及びその周辺技術の総合利用」があります。 近年深刻化する気候変動、資源の枯渇といった地球規模の課題に対し技術力を駆使してイノベーションの創出を目指します。 そのために、顧客や取引先、関係各所と先端技術の研究開発や新たな取組みを推進します。 さらに、人財育成、知的財産戦略の強化など、多角的に推進の基盤を強化してまいります。 新中期経営計画で掲げている「成長事業における製品競争力の強化」においては、次世代のインフラの中核となる半導体・電子デバイスや大容量バッテリーを実用化する技術・製造装置の開発を関連企業・研究機関と進めます。 これにより社会基盤、カーボンニュートラル、新エネルギー分野での課題解決型事業を強化・創出するとともに、利益・資本効率重視の経営を推進することで、飛躍の土台を築き上げます。 ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり（多様性の確保に向けた人財育成方針と社内環境整備方針）当社グループは、世界の半導体メーカー・電子デバイスメーカーやパネルメーカーが集中する日本・中国・韓国・台湾など東アジアを中心に、幅広い顧客基盤、先端研究機関とのネットワーク、開発・営業・カスタマーサポート拠点、製造拠点、サプライヤー網を持っており、グローバルに事業展開する多数のグループ会社から形成されています。 「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念を実践・実現していくためには、当社が企業倫理行動基準の中に定めた「社員の人格・個性の尊重」「人権の尊重とあらゆる差別的取扱の禁止」を遵守し、グローバルに活躍する従業員の個性を尊重し、多様性を受け入れ活かすことが大きな原動力になります。 このようなダイバーシティを尊重し、インクルージョンを推進することによりイノベーションを創出し、顧客や社会の課題を解決することで、従業員それぞれの成長につながる新しい価値を生み出し続けることを目指します。 このような考えに基づき、変化の激しいビジネス環境を勝ち抜いていく上で、外部環境の変化に強くグローバルに活躍できる人財の育成を強化するため、働きがいのある職場環境や人事諸制度の整備、教育機会の創出に努めます。 ③バリューチェーンにおける人権尊重・責任ある行動「国連グローバル・コンパクト」に署名し、人権・労働・環境・腐敗防止の４分野で企業が遵守すべき普遍的原則である「国連グローバル・コンパクトの10原則」に基づき、各分野における取組みを推進しています。 当社グループにおいては、「企業倫理行動基準」を定め、自らの業務が人権を侵害していないかを判断するための指針としています。 さらに、国際連合の「ビジネスと人権に関する指導原則」をはじめとする国際規範を踏まえた「ULVAC人権方針」を策定し、事業に反映することで、人権に関する重要な課題を特定し、その取組みを明らかにしています。 当該方針に従い、人権デューデリジェンスのプロセスを構築し、企業活動を通じて人権に与えうる影響の認識、防止、対処に向けた取組みを進めています。 そして、このプロセスを通じて生じる問題に対する救済メカニズムの充実にも努めています。 また、当社グループでは、エレクトロニクス業界を中心としたCSR推進団体であるRBA（Responsible Business Alliance）の行動規範の遵守に努めています。 その原則を基に、主要生産拠点での自己評価調査を定期的に行っています。 取引先に対してもこれらの規範の遵守を求めています。 ④持続可能な地球環境への貢献地球環境の保全が重要課題の一つとしてとらえ、環境に配慮したビジネス活動を展開し、気候変動対応や水資源の有効活用など資源循環への取組みを加速し住みよい地球と豊かな社会の発展に貢献していきます。 中でも、気候変動の取組みについては、重要な経営課題の一つとして位置付けています。 IEA（国際エネルギー機関）等が発表する「世界の平均気温が４℃以上上昇する」「世界の平均気温がパリ協定で合意した２℃未満の上昇に抑えられる（一部1.5℃以内）」のシナリオで、気候変動が中長期的に事業に影響を及ぼすリスク・機会を以下のとおり特定しており、「カーボンプライシング」「台風や豪雨等の異常気象による災害発生による事業継続リスク」「パワーデバイスの市場機会の拡大」について、リスクと機会を分析し事業への定量的な影響について評価しました。 今後事業への影響の定量化の範囲を拡大するとともに、具体的な施策の検討を更に進めてまいります。 主なリスクカテゴリー要素施策市場顧客の行動変化による事業コストの増加事業活動における再生可能エネルギーの導入や省エネルギー施策の徹底政策及び法規制カーボンプライシング技術既存製品・サービスを排出量の少ないものに置換各分野の技術革新に貢献する製造装置等の製品・サービスの研究開発及び製品の低消費電力化の推進急性・慢性台風や豪雨等の異常気象による災害発生による事業継続リスク自然災害時における事業継続計画の策定、対策の実施 主な機会カテゴリー要素施策製品・サービス低消費電力デバイス、パワーデバイス、リチウムイオン電池に寄与する装置や技術への期待の高まり、低消費電力型製品へのニーズの拡大各分野の技術革新に貢献する製造装置等の製品・サービスの研究開発及び製品の低消費電力化の推進 責任ある社会の一員として積極的に取組んでいくため、当社グループは事業活動における中長期の温室効果ガス排出量削減目標として、2030年に40％削減（2020年比）、2050年には実質ゼロを定め、国内外における省エネルギーに対する取組み努力、太陽光発電設備の設置、再生可能エネルギーの導入を積極的に推進するとともに、環境配慮型製品の開発等あらゆる活動を通じて温室効果ガス排出量抑制に努め、気候変動対策に取組んでまいります。 |
| 指標及び目標 | (4）指標及び目標中長期的な企業価値向上及び持続的な成長において、財務のみならず非財務における指標の達成は重要であり、今後も当社グループ全体で活動してまいります。 当社グループのサステナビリティに関する主な指標及び目標は次のとおりであります。 ・環境に関する主な指標指標目標温室効果ガス排出量2030年の温室効果ガス排出量を2020年比40％削減（Scope1、2）2050年の温室効果ガス排出量実質ゼロ GHG排出量の削減実績の詳細な情報については、下記の当社ウェブサイトにおいて公開している環境データをご参照ください。 https://www.ulvac.co.jp/sustainability/environment/edata/index.html 人財育成及び社内環境整備に関する方針については、「（2）戦略 ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり」に記載のとおりであります。 ・人的資本に関する主な指標指標目標実績女性管理職比率2026年６月までにグループ全体で10％以上9.8％（2024年６月期） 「サステナビリティに関する考え方及び取組」に関する詳細な情報については、下記の当社ウェブサイトにおいて公開しているULVAC VALUE REPORTをご参照ください。 2024年版については2025年１月に公開予定です。 https://www.ulvac.co.jp/sustainability/index.html |
| 人材の育成及び社内環境整備に関する方針、戦略 | ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり（多様性の確保に向けた人財育成方針と社内環境整備方針）当社グループは、世界の半導体メーカー・電子デバイスメーカーやパネルメーカーが集中する日本・中国・韓国・台湾など東アジアを中心に、幅広い顧客基盤、先端研究機関とのネットワーク、開発・営業・カスタマーサポート拠点、製造拠点、サプライヤー網を持っており、グローバルに事業展開する多数のグループ会社から形成されています。 「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念を実践・実現していくためには、当社が企業倫理行動基準の中に定めた「社員の人格・個性の尊重」「人権の尊重とあらゆる差別的取扱の禁止」を遵守し、グローバルに活躍する従業員の個性を尊重し、多様性を受け入れ活かすことが大きな原動力になります。 このようなダイバーシティを尊重し、インクルージョンを推進することによりイノベーションを創出し、顧客や社会の課題を解決することで、従業員それぞれの成長につながる新しい価値を生み出し続けることを目指します。 このような考えに基づき、変化の激しいビジネス環境を勝ち抜いていく上で、外部環境の変化に強くグローバルに活躍できる人財の育成を強化するため、働きがいのある職場環境や人事諸制度の整備、教育機会の創出に努めます。 |
| 人材の育成及び社内環境整備に関する方針に関する指標の内容並びに当該指標を用いた目標及び実績、指標及び目標 | 人財育成及び社内環境整備に関する方針については、「（2）戦略 ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり」に記載のとおりであります。 ・人的資本に関する主な指標指標目標実績女性管理職比率2026年６月までにグループ全体で10％以上9.8％（2024年６月期） 「サステナビリティに関する考え方及び取組」に関する詳細な情報については、下記の当社ウェブサイトにおいて公開しているULVAC VALUE REPORTをご参照ください。 2024年版については2025年１月に公開予定です。 https://www.ulvac.co.jp/sustainability/index.html |
| 事業等のリスク | ３【事業等のリスク】 有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①市場変動による影響当社グループは、特に半導体及び電子部品、FPD等の製造工程で使われる真空装置の分野において、独自技術の開発を行い市場に投入しています。 この分野におけるシェアを獲得し、成長してまいりましたが、顧客である半導体及び電子部品メーカー、FPDメーカーの市況変化による設備投資の大幅な縮小や顧客の財務状況の悪化が発生した場合には、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、2024年６月期を初年度とする中期経営計画において、「真空技術による社会的価値創造」と「利益・資本効率重視の経営」の２つの基本方針を定めております。 この２つの方針のもと、市場変動の中でも生産性向上による利益率の改善を図り、成長領域における開発に集中することで、持続的成長を実現してまいります。 また、幅広い分野で使用される多様な製品により、特に半導体や電子部品の分野における収益の安定基盤を築き、市場変動への対応力を高めております。 ②研究開発による影響当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてまいりました。 しかしながら、開発の著しい遅延を余儀なくされ、新製品の市場への投入の遅れが生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 成長のために必要な開発について、投資の選択と集中によりスピードアップを図るとともに、定期的なモニタリングを実施して著しい遅延が生じないよう、その進捗を管理しております。 ③グローバルな競争環境の影響当社グループは、グローバルに事業を展開し、世界各国・各地域の顧客に向けて製品を提供しております。 しかし、競合他社もグローバルに展開しており、新規参入もある競争環境の中で、製品の性能のみならず価格面での競争も激化しております。 このような競争環境により、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、顧客の製造工程で必要とされる製品に対して、最先端技術を用いた製品を適時に投入することで、競争力を維持し、競争環境に対応してまいります。 ④人財の確保に関する影響当社グループがグローバルな事業環境の中で成長を続けるために、人財の確保は最も重要なことと位置付けております。 事業の成長に必要な人財を確保し続けることができない場合、競争力の低下を招くこととなり、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、人材を「人財」として捉え、多様な人財が挑戦し続ける場の創出に努めています。 人財の採用・育成を推進し、多様な人財が心身ともに健康で活気に満ち、個人の能力が最大限に発揮できるように、健康経営等を通して推進することで働く環境を整え、必要な人財を確保しております。 ⑤サプライチェーンに関する影響当社グループは、製品を生産するための部品需給の逼迫による部品価格の高騰、供給の遅延が発生した場合や、大規模な災害などによるサプライチェーンの障害などにより生産活動の停止、遅延が発生した場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 当社グループでは、仕入先との協力体制構築や早期の部品手配などにより、必要な部品の確保に努めております。 ⑥法令、規制に関する影響当社グループは、グローバルに事業を展開しており、各国・各地域において、輸出入規制、競争法、汚職・贈賄、労働法、環境法、移転価格税制等の様々な分野の法令や規制の適用対象となります。 そこで、当社グループは、これらの法令や規制の遵守に務めております。 もし、これらの法令や規制への抵触が認められた場合には、当社グループの社会的信用の低下はもちろんのこと、課徴金や損害賠償責任が発生する可能性があり、また、各国の安全保障上の政策に基づく規制、その他、将来において予期せぬ法令や規制の改正や強化が生じた場合、その対応や対応に不備があった場合の是正措置に関する費用負担や事業活動の制限等が発生する可能性があります。 当社グループは、企業倫理行動基準を定めて各種法規制遵守の重要性を国内外グループ会社に啓蒙するとともに、社内外の内部通報制度を活用して、法令等の違反の早期発見と対策に務めています。 また、当社グループ各社に設置するコンプライアンス委員会やリスクマネジメント委員会においても、法令や規制への抵触のおそれがある行為の内容についての報告を実施し、適宜必要な対応がとれる体制をとっております。 また、とりわけ重要な法令や規制への対応は当社経営会議で報告の上、当社役員の主導でグループ各社へ展開する体制をとっております。 ⑦品質に関する影響当社グループは、国際規格であるISO9001の認証取得を含む品質保証体制を確立し、高レベルのサービスを提供し続けてまいりました。 しかしながら、常に最先端技術を利用した製品を提供していることから開発的要素も多く、予期せぬ不良が発生し、追加原価の発生・損害賠償や信頼低下による売上高減少を招いた場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、2024年６月期を初年度とする中期経営計画において、モノづくり力強化を進めており、コスト、信頼性、規格仕様が決定される上流工程の業務を強化しております。 製品の完成度を高めるバリューエンジニアリング、不適合内容の水平展開など品質向上の仕組みを盛り込むとともに、再発防止策の実施・徹底を進めております。 ⑧資金調達に関する影響当社グループは、金融機関からの借入金等により資金調達を行っておりますが、市場環境、当社の信用力低下等により、資金調達が困難になる可能性があります。 また、当社グループの借入金に係る金融機関との契約には、財務制限条項が付されているものがあり、現状、当社グループの財政状態は当該条項に照らして問題のない水準にあるものの、当該条項に抵触した場合、資金調達に支障が生じる可能性があります。 資金調達が想定どおりに行えない場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、資金調達にあたって年度別の返済額の平準化に努めており、リファイナンスリスクの低減や返済負担の軽減を図っております。 また、社会情勢や経済環境の先行きが不透明な中、不測の事態に備え、十分な手元流動性資金を確保するとともに、コミットメントラインを設定し追加資金を確保できる体制を整えており、当面資金調達リスクは極めて低い状態にあります。 事業環境の急激な変化にも対応できるよう、引き続き、適時に必要資金を確保できる体制を維持してまいります。 ⑨情報セキュリティに関する影響当社グループは、事業上の重要情報及び事業の過程で入手した個人情報や取引先等の機密情報を保有しております。 これらの情報が意図せず流出した場合、顧客の喪失や社会的信用の低下、損害賠償等が発生する可能性があります。 また、盗難・紛失等による第三者の不正流用、サイバー攻撃、その他不測の事態によって重要データの破壊や改ざん、情報漏えいや流出、情報システムの停止等が発生する可能性があります。 これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、情報システムやネットワークに対する定期的なリスクアセスメントや監視等のセキュリティ対策を進めております。 また、情報管理に関する諸規程のもと、適切な情報管理体制を構築するとともに、社員教育によりその徹底を図っております。 ⑩外国為替変動による影響当社グループは、海外売上高比率が高いものの、原則として円建取引を行っております。 しかしながら、当該円建取引では、円高時に海外メーカーと比較して価格競争力の面で不利になることがあります。 また、一部外貨建取引もありますが、外貨建取引においては、急激な為替変動による為替リスクが生じる可能性があります。 これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、為替予約等によりリスクヘッジを行うことで、為替変動による業績への影響を低減するよう努めております。 ⑪知的財産権に関する影響当社グループは、各種真空装置に関する多数の特許を保有し、積極的に新規権利獲得にも努めております。 しかしながら、第三者から不測の特許侵害訴訟が提起された場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 これに備えるため、当社グループの製品・技術に関して、定期的に特許調査を行っております。 ⑫安全に関する影響当社グループの製品に関連する安全性等の問題により、顧客への損害発生、損害賠償責任や売上高の減少、社会的信用の低下等につながる可能性があります。 また、不測の事態により従業員や施設に影響を与える労働災害が発生し、製品の供給やサービスの提供に支障をきたす事態となった場合、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 当社グループは、「安全第一」を企業経営の基本とし、顧客に利用していただく様々な製品やサービスの安全と、私たち自身が安全で明るく元気に働くことのできる活気ある職場づくりを、リスクアセスメントを中心とした安全管理システムの運用を通じて目指していきます。 ⑬環境規制、気候変動への対応に関する影響当社グループは、地球温暖化防止、水質汚濁、大気汚染、騒音、土壌汚染、廃棄物処理、使用する有害化学物質等に関する国内外の環境法令の遵守に努めております。 しかしながら、将来の環境規制への適応が困難な事象や不測の事態が発生した場合、環境対応費用の増加や事業活動停止、社会的信用の低下等の可能性があり、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響が及ぶ可能性があります。 気候変動対応に関しては、重要な経営課題の１つととらえ「気候関連財務情報タスクフォース（TCFD）」による提言に賛同するとともにシナリオ分析に基づくリスクと機会を予測し活動を推進しております。 さらに、2030年に温室効果ガス排出量を40％削減（2020年比）、2050年の温室効果ガス排出量実質ゼロを目標とし、定期的なモニタリングと進捗管理を行っております。 環境関連法令や規制を遵守するための取組み、環境理念や環境方針に基づいた環境負荷の低減、温室効果ガス排出量削減目標達成に向けた施策を継続的に推進し、環境情報の適切な開示を行ってまいります。 ⑭その他リスク当社グループと同様にグローバルな事業展開や広範な事業展開をしている企業と同じく、各国・各地域における経済環境、自然災害、戦争、テロ、感染症等の諸般の不可抗力要因が、当社グループの経営成績や財政状態に悪影響を及ぼす可能性があります。 |
| 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析 | ４【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】 (1）経営成績等の状況の概要当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー（以下「経営成績等」という。 ）の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、欧米における高い金利水準の継続や中国における景気減速懸念に伴う海外景気の下振れリスクが意識される等、先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、スマートフォンやパソコン等の需要減速に伴う短期的な半導体メーカーの設備投資の鈍化がみられますが、中長期的には、生成AIへの期待等による半導体需要拡大が引き続き見込まれるとともに、地政学的リスク等に対応した世界各地での半導体工場新増設計画が進められています。 また、エレクトロニクス業界では、グリーンエネルギー政策等に基づくEV導入促進政策の継続的な進展等に伴うパワーデバイス投資、スマート社会化構想等に基づくデジタル化の促進やメタバースの実現等に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産のための投資、中国におけるエレクトロニクスの国産化政策に基づく投資等の継続的な拡大が続いています。 そして、フラットパネルディスプレイ（FPD）業界においては、引き続き、タブレットやパソコン用のITパネルが液晶から有機ELへ転換する過渡期にあり、大型基板の有機EL投資が引き続き期待されます。 また、産業用電池業界においても、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上の実現に向けた量産投資の本格化の兆候が引き続き認められています。 その結果、当連結会計年度につきましては、受注高は2,581億81百万円(前年同期比109億60百万円(4.4％)増)、売上高は2,611億15百万円(同335億87百万円(14.8％)増)となりました。 また、損益面では、営業利益は297億71百万円(同98億25百万円(49.3％)増)、経常利益は297億85百万円(同69億５百万円(30.2％)増)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は202億33百万円(同60億64百万円(42.8％)増)となりました。 企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。 「真空機器事業」真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 （FPD製造装置）ITパネル用液晶ディスプレイ製造装置に関する投資は一段落しましたが、EVバッテリーの小型大容量化や安全性が向上したことによる量産投資が本格化しはじめたため、受注高は前年同期並み、売上高は前年同期を上回りました。 （半導体及び電子部品製造装置）半導体製造装置については、先端ロジック及びメモリの投資が当連結会計年度の下期より回復したこと、電子部品製造装置については、パワーデバイスの投資が活発化したこと等により、受注高・売上高ともに前年同期を上回りました。 （コンポーネント）EV用バッテリーや家電製品向けリークテスト装置等が好調に推移し、受注高・売上高ともに前年同期を上回りました。 （一般産業用装置）高機能磁石製造装置や医療用凍結乾燥装置等が好調に推移し、受注高・売上高ともに前年同期を上回りました。 その結果、真空機器事業の受注高は2,071億56百万円、受注残高は1,259億68百万円、売上高は2,123億14百万円となり、261億46百万円の営業利益となりました。 「真空応用事業」真空応用事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 （材料）FPD関連製品の工場稼働率の回復等により受注高・売上高ともに前年同期を上回りました。 （その他）表面分析機器関連の受注高は前年同期を下回りましたが、高精細・高機能ディスプレイ向けマスクブランクス関連等が好調に推移し、売上高は前年同期を上回りました。 その結果、真空応用事業の受注高は510億26百万円、受注残高は190億32百万円、売上高は488億１百万円となり、35億63百万円の営業利益となりました。 また、当連結会計年度末の財政状態は以下のとおりとなりました。 資産合計は、前連結会計年度末に比べ351億79百万円増加し、3,886億53百万円となりました。 これは、現金及び預金が20億65百万円減少した一方で、受取手形、売掛金及び契約資産が197億23百万円、棚卸資産が75億37百万円、有形固定資産が101億57百万円それぞれ増加したことなどによります。 負債合計は、前連結会計年度末に比べ123億６百万円増加し、1,609億26百万円となりました。 これは、契約負債が39億39百万円、長期借入金が37億14百万円、賞与引当金が18億81百万円それぞれ増加したことなどによります。 純資産合計は、前連結会計年度末に比べ228億73百万円増加し、2,277億27百万円となりました。 これは、親会社株主に帰属する当期純利益の計上を主な要因として利益剰余金が148億54百万円、為替換算調整勘定が59億76百万円それぞれ増加したことなどによります。 この結果、自己資本比率は56.7％となりました。 今後もキャッシュ・フローマネジメントの強化等により、財務基盤の更なる強化を目指してまいります。 ②キャッシュ・フロ－の状況当連結会計年度のキャッシュ・フローの状況は以下のとおりとなりました。 営業活動によるキャッシュ・フローは、運転資金が増加する一方で、税金等調整前当期純利益、減価償却費等を計上したこと等により、171億62百万円の収入となりました。 中期経営計画において2026年６月期までの目標として掲げている営業キャッシュ・フロー630億円（３年間累計）の実現に向けて、引き続きキャッシュ・フローマネジメントの一層の強化に努めてまいります。 投資活動によるキャッシュ・フローは、有形及び無形固定資産の取得による支出などにより、195億24百万円の支出となりました。 その結果、フリー・キャッシュ・フローは23億62百万円の支出となりました。 財務活動によるキャッシュ・フローは、業績連動配当性向に基づいた配当金の支払などに充当し、27億84百万円の支出となりました。 当社は株主の皆様への利益配分を最重要政策の一つと位置づけ、更なる成長により長期的な配当増額を目指しております。 この一環として、2024年６月期より業績連動配当性向を引き上げ、35％以上を目途として実施する方針としております。 以上に加え、円安による為替影響23億69百万円を加算した結果、当連結会計年度末における現金及び現金同等物の残高は、前連結会計年度末に比べ27億76百万円減少し、845億41百万円となりました。 ③生産、受注及び販売の実績a.生産実績 当連結会計年度における生産実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。 セグメントの名称生産高（百万円）前年同期比（％）真空機器事業215,723114.2真空応用事業48,842114.1合計264,565114.1 （注）金額は、販売価格をもって表示しております。 b.受注実績 当連結会計年度における受注実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。 セグメントの名称受注高（百万円）前年同期比（％）受注残高（百万円）前年同期比（％）真空機器事業207,156102.8125,968100.8真空応用事業51,026111.619,032118.8合計258,181104.4145,000102.8 c.販売実績 当連結会計年度における販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。 セグメントの名称販売高（百万円）前年同期比（％）真空機器事業212,314114.9真空応用事業48,801114.1合計261,115114.8 （注）１．セグメント間の取引については相殺消去しております。 ２．主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。 セグメントの名称品目当連結会計年度販売高（百万円）割合（％）真空機器事業FPD製造装置55,08525.9半導体及び電子部品製造装置95,91345.2コンポーネント39,07718.4一般産業用装置22,23910.5計212,314100.0真空応用事業材料24,22449.6その他24,57750.4計48,801100.0 (2）経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。 なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容当連結会計年度における当社グループの経営成績は、売上高は2,611億15百万円（前年同期比14.8％増）となりました。 半導体及び電子部品製造装置において、先端ロジック・メモリ向けの投資が回復傾向にあることや、日本・中国のパワーデバイス投資活発化、FPD製造装置に含まれる産業用電池業界において、EVバッテリーの小型大容量化・安全性向上に向けた量産投資が本格化しはじめたことが主な要因となります。 営業利益率は11.4％（前年同期比2.6ポイント増）となり前年同期から改善しました。 これは売上高の増加に加え、利益率の高い半導体及び電子部品製造装置の売上高が伸びたことが主な要因となります。 なお、研究開発費の総額は133億13百万円となり、前年同期から４億52百万円減少しました。 研究開発費の売上高に対する比率は前年同期から1.0ポイント減少し5.1％となりました。 研究開発力強化は、中期経営計画における主な取組みのひとつであり、将来の成長に向けた投資を引き続き強化しております。 経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「１ 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等（3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載のとおり、当社グループは2024年６月期を初年度とする３年間の中期経営計画を策定して開示しましたが、この中期経営計画において、「真空技術による社会的価値創造」及び「利益・資本効率重視の経営」の２つの基本方針を掲げております。 この方針のもと、売上高、売上総利益率、営業利益率、営業キャッシュ・フロー、ROE（自己資本利益率）を中期経営計画上の財務モデルにおける指標としております。 中期経営計画３年目の数値目標については、売上高3,000億円、売上総利益率35％、営業利益率16％、３年間累計の営業キャッシュ・フロー630億円、ROE14％としております。 この財務モデルの達成に向けて、「１ 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等（3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載した具体的取組みにより、中長期の視点で成長を目指してまいります。 セグメントごとの経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。 ・真空機器事業当連結会計年度における当セグメントの事業環境は、「（1）経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。 売上高は、前年同期比14.9％増の2,123億14百万円となりました。 先端ロジック・メモリ向けの投資が回復傾向にあることや、日本・中国のパワーデバイス投資活発化、FPD製造装置に含まれる産業用電池業界において、EVバッテリーの小型大容量化・安全性向上に向けた量産投資が本格化しはじめたことが主な要因となります。 セグメント利益率については、当連結会計年度は12.3％と、前年同期の9.0％から改善しました。 これは売上高の増加に加え、利益率の高い半導体及び電子部品製造装置の売上高が伸びたことが主な要因となります。 ・真空応用事業当連結会計年度における当セグメントの事業環境は、「（1）経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。 売上高は、前年同期比14.1％増の488億１百万円となりました。 FPD関連の顧客工場の稼働率回復等や、高精細・高機能ディスプレイ向けマスクブランクス関連等の売上高が好調に推移したことにより、当セグメントの売上高が増加しました。 セグメント利益率については、当連結会計年度は7.3％と、前年同期の7.8％から悪化しました。 これは、相対的に利益率の低い製品の売上高増加が主な要因であります。 財政状態の分析は「（1）経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。 ②キャッシュ・フローの状況の分析・検討内容並びに資本の財源及び資金の流動性に係る情報a.キャッシュ・フローの状況の分析・検討内容当連結会計年度のキャッシュ・フローの状況は「（1）経営成績等の状況の概要 ② キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。 b.資本の財源及び資金の流動性に係る情報当社グループの主な資金需要は、新たな成長戦略の足がかりとなる研究開発投資や設備投資、事業により生じる運転資金に基づくもので、とりわけ成長事業として強化を図っていく半導体や電子分野の開発投資を拡大する予定です。 これらの資金需要につきましては、営業活動によるキャッシュ・フロー及び金融機関からの借入金などにより対応し、資金調達にあたっては、リファイナンスリスクの低減や返済負担の軽減を図るために、年度別の返済額の平準化に努めております。 また、欧米における高い金利水準の継続や中国における景気減速懸念に伴う海外景気の下振れリスクが意識される中、十分な手元流動性資金を確保するとともに、コミットメントラインを設定し追加資金を確保できる体制を整えており、当面安定的な経営が可能な状態にあります。 事業環境の急激な変化にも対応できるよう、引き続き、適時に必要資金を確保できる体制を維持してまいります。 ③重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定当社グループの連結財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められている会計基準に基づき作成しております。 この連結財務諸表を作成するにあたって、資産、負債、収益及び費用の報告額に影響を及ぼす見積り及び仮定を用いておりますが、これらの見積り及び仮定に基づく数値は実際の結果と異なる可能性があります。 連結財務諸表の作成にあたって用いた会計上の見積り及び当該見積りの仮定のうち、重要なものについては、「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等（１）連結財務諸表 注記事項（重要な会計上の見積り）」に記載しております。 |
| 経営上の重要な契約等 | ５【経営上の重要な契約等】 当連結会計年度において、経営上の重要な契約等は行われておりません。 |
| 研究開発活動 | ６【研究開発活動】 当社グループは、真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進を経営の重要な柱に位置付けるとともに、持続可能な社会の実現に向けた技術開発を進めています。 気候変動や環境問題などといった社会課題に対応するためには、半導体や高機能な電子デバイスが貢献すると認識しており、当社グループの持つ真空薄膜形成技術がこれらのデバイスを製造するための核心技術となっています。 当連結会計年度においては、先端デバイス及び材料、エネルギー・環境、ヘルスケア領域に注力した研究開発活動を以下のとおり実施しております。 当社グループの開発体制は、グローバルに展開する各開発拠点において顧客密着型の開発を実施し、競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。 真空技術をコアとした製品のうち、主力である半導体、電子部品、FPD製造用スパッタリング装置に加え、スパッタリングターゲット材料の開発などシナジー効果を生かした開発を重点的に行っております。 また、省エネルギーに貢献するとして注目されているパワーデバイス向けイオン注入装置の開発を加速しております。 さらに、顧客の近くで製品・技術開発を加速し、コラボレーションと技術サポートを強化することを目的に、韓国 平澤市にTechnology Center PYEONGTAEKを設立いたしました。 新たな研究開発拠点の追加により、当社グループの柱と位置づけている半導体事業の更なる成長を目指してまいります。 「真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進」として、次々世代半導体分野においては、スキルミオン技術や光電融合、ヘルスケア分野においては、国立大学法人大阪大学医学部と共同で赤血球の真空凍結乾燥保管技術の開発を行っております。 産学連携の取組みの成果としては、大阪大学大学院工学研究科アルバック未来技術協働研究所において、電圧磁性制御による超低消費スキルミオン計算に関する先駆的な研究の取組みが評価され、国際会議MMM2023（*1）にて招待講演を行いました。 東京工業大学アルバック先進技術協働研究拠点においては、プロセスプラズマの空間分布診断手法を応用し、国際会議ISPlasma2024（*2）にて「Best Poster Presentation Award」を受賞いたしました。 このように、数多くのテーマが表彰されるなど共創による異分野交流から生まれる新しいビジネス創出の場を形成しています。 また、長年にわたり真空技術に関する包括的な知識を提供してまいりました「真空ハンドブック」を、真空産業における最新の規格見直し動向を取り込み、三訂版として刊行いたしました。 本書はエレクトロニクス、医療、エネルギー、航空宇宙などの分野で活用されている真空基礎技術や半導体製造、成膜、分析などに関わる真空装置の構築・設計の現場で必要となる技術データの集大成です。 当連結会計年度における研究開発費の総額は13,313百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。 （真空機器事業）当社の事業の柱である、半導体や高機能電子デバイス、FPDなどの電子デバイス製造装置の各分野に開発投資を行い、新商品や新技術を創出し、高度なお客様のご要求にお応えしております。 また、真空ポンプや真空計測機器等各種のコンポーネント分野へも開発投資を行い、真空装置と機器を合わせて開発するシナジー効果を発揮しております。 当セグメントに係る研究開発費は12,403百万円となり、代表的な成果は次のとおりであります。 （１）半導体及び電子部品製造装置半導体製造装置においては、最先端ロジック分野におけるメタルハードマスク工程の実績をもとに他工程参入を実現するための装置及び成膜プロセス性能向上の開発を行っております。 また、メモリ分野においても微細化、高積層化の進むDRAM及び３次元NANDフラッシュメモリでの他工程参入を目指した装置及び成膜プロセス開発も進めております。 電子部品製造装置においては、パワーデバイス、通信デバイス、オプトデバイス、電子部品（MEMS等）及びパッケージングの製造に適した装置及びプロセス開発を行っております。 （２）FPD製造装置液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ及びフレキシブルディスプレイなどの分野における次世代技術への装置及びプロセス開発を行っております。 有機ELディスプレイにおいては、高精細化プロセスの要求が高まり、製品歩留まりを改善するための開発（スパッタリング装置等における低発塵新搬送機構、マスク合わせ精度向上）や成膜性能を向上する新ユニットの開発、新材料開発など、総合的な成膜技術向上を進めております。 さらに、高い水準で面内の均一性を維持管理していくためにAI活用による安定稼働、生産性向上、省人化を実現するための装置を開発しております。 今後採用の拡大が予想される、高移動度の酸化物半導体薄膜トランジスタ（TAOS）向けスパッタリングターゲット材料の開発を行うとともに、スパッタリング成膜プロセス開発も進めております。 （３）コンポーネント真空装置を構成する主要な機器として、真空ポンプや真空計測機器のほか、直流（DC）電源、真空搬送ロボット、真空バルブ等の開発を行っております。 その成果の一例として、一般社団法人日本真空工業会（以下、「JVIA」という。 ）において、プロセスガスモニタQulee「RGM2-201F」が2023年度のJVIA真空コンポーネント大賞を受賞し、JVIAでは初の４年連続の受賞となりました。 さらに、主に有機ELディスプレイ製造装置に搭載されるクライオポンプ、量子コンピュータや医療関連に使用する極低温冷凍機の開発も進めており、次世代半導体やヘルスケア分野などの幅広い分野に真空機器が貢献しております。 （真空応用事業）スパッタリングターゲット材料をはじめとする先端材料、表面分析装置やマスクブランクスの開発を行っており、当セグメントに係る研究開発費は910百万円となりました。 主に、半導体やFPDの高性能化に貢献するスパッタリングターゲット材料等の先端材料、先進的な表面分析装置の開発を行っております。 また、半導体やFPDのリソグラフィ工程の重要部材であるマスクブランクスなどの開発を行っております。 具体的には、表面分析分野において飛行時間型二次イオン質量分析計（TOF-SIMS：Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry）のフラッグシップモデルとなる「PHI nanoTOF 3+」を開発、2023年10月に販売を開始いたしました。 （*1）The 68th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials（*2）16th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials |
| 設備投資等の概要 | １【設備投資等の概要】 当連結会計年度は、21,539百万円の設備投資を行いました。 真空機器事業につきましては、半導体及び電子部品製造装置、FPD製造装置それぞれの事業の評価用機械装置や研究開発用機械装置等に、19,580百万円の投資を行いました。 真空応用事業につきましては、材料関連の生産用設備等に、1,958百万円の投資を行いました。 また、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。 |
| 主要な設備の状況 | ２【主要な設備の状況】 (1）提出会社（2024年６月30日現在） 事業所名（所在地）セグメントの名称設備の内容帳簿価額（百万円）従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積千㎡)リース資産その他合計本社工場(神奈川県茅ヶ崎市)真空機器事業全社管理業務研究開発業務FPD製造装置電子部品製造装置一般産業用装置コンポーネント上記に関わる設備6,4638,944603(51)20139016,602946富士裾野工場(静岡県裾野市)半導体製造装置研究開発業務上記に関わる設備9309,3923,028(106)13913,389188千葉富里工場(千葉県富里市)研究開発業務に関わる設備857640363(25)0831,94221東北工場(青森県八戸市)FPD製造装置電子部品製造装置上記に関わる設備86774414(83)11511,417200九州工場(鹿児島県霧島市)FPD製造装置半導体製造装置電子部品製造装置上記に関わる設備1,56716213(96)7251,829153千葉富里工場(千葉県富里市)真空応用事業ターゲット製造設備43034258(18)－172319東北工場(青森県八戸市)496625190(38)－71,31860九州工場(鹿児島県霧島市)931752102(46)－191,80464 (2）国内子会社（2024年６月30日現在） 会社名事業所名（所在地）セグメントの名称設備の内容帳簿価額（百万円）従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積 千㎡)リース資産その他合計アルバックテクノ株式会社本社工場他(神奈川県茅ヶ崎市他)真空機器事業メンテナンス等サービス設備1,225721,178(26)138842,697340アルバック機工株式会社本社工場(宮崎県西都市)真空機器事業小型真空ポンプ等生産設備42014151(50)21485911112アルバック・ファイ株式会社本社工場(神奈川県茅ヶ崎市）真空応用事業表面分析装置に関わる設備860－(－)1482569130アルバック成膜株式会社本社工場(埼玉県秩父市)真空応用事業真空薄膜製品生産設備962216844(56)223662,312180 (3）在外子会社（2024年６月30日現在） 会社名事業所名（所在地）セグメントの名称設備の内容帳簿価額（百万円）従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積 千㎡)リース資産その他合計ULVAC KOREA,Ltd.平澤工場他(韓国平澤市他)真空機器事業真空装置生産工場研究開発業務に関わる設備7,22337511(0)164957,868526愛発科真空技術(蘇州)有限公司本社工場(中国蘇州市)真空機器事業真空装置生産工場1,399118－(－)－791,596188愛発科東方真空(成都)有限公司本社工場(中国成都市)真空機器事業真空装置生産工場548505－(－)－621,116248愛発科東方検測技術（成都）有限公司本社工場（中国成都市）真空機器事業工場棟他2,428113－(－)－332,574256Pure Surface Technology,Ltd.本社工場(韓国平澤市)真空機器事業工場棟他1,73647026(25)213782,523113ULVAC CRYOGENICS KOREAINCORPORATED本社工場(韓国平澤市)真空機器事業工場棟他558140－(－)53273576愛発科商貿(上海)有限公司本社他(中国上海市他)真空機器事業メンテナンス等サービス設備216192－(－)31241761355ULVAC TAIWAN INC.台南工場他(台湾台南市他)真空機器事業真空装置生産工場他1,452231721 (2)927893,422307Physical Electronics USA, Inc.本社工場（米国ミネソタ州）真空応用事業工場棟他180111－(－)4182273196ULCOAT TAIWAN,Inc.本社工場(台湾台南市)真空応用事業工場棟他850638275(13)－721,836138愛発科電子材料(蘇州)有限公司本社工場(中国蘇州市)真空応用事業ターゲット製造工場584388－(－)701241,165101 （注）１．帳簿価額には、建設仮勘定の金額は含まれておりません。 ２．現在休止中の主要な設備はありません。 |
| 設備の新設、除却等の計画 | ３【設備の新設、除却等の計画】 (1）重要な設備の新設等 該当事項はありません。 (2）重要な設備の除却等 該当事項はありません。 |
| 研究開発費、研究開発活動 | 910,000,000 |
| 設備投資額、設備投資等の概要 | 1,958,000,000 |
Employees
| 平均年齢（年）、提出会社の状況、従業員の状況 | 45 |
| 平均勤続年数（年）、提出会社の状況、従業員の状況 | 17 |
| 平均年間給与、提出会社の状況、従業員の状況 | 7,511,019 |
| 管理職に占める女性労働者の割合、提出会社の指標 | 0 |
| 全労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
| 正規雇用労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
| 非正規雇用労働者、労働者の男女の賃金の差異、提出会社の指標 | 1 |
Investment
| 株式の保有状況 | （５）【株式の保有状況】 ①投資株式の区分の基準及び考え方 当社は、保有目的が純投資目的である投資株式と純投資目的以外の目的である投資株式の区分について、純投資目的の株式には、専ら株式価値の変動又は株式に係る配当によって利益を受けることを目的として保有する株式を区分し、純投資目的以外の株式には、それ以外の目的で保有する株式（政策保有株式）を区分しております。 ②保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式イ．保有方針及び保有の合理性を検証する方法並びに個別銘柄の保有の適否に関する取締役会等における検証の内容 当社は、取引先上場企業との事業上の関係の維持及び強化という観点から、当該取引先の株式を取得することが当社の持続的成長と中長期的な企業価値を向上させることに資すると判断した場合に限り、当該取引先の株式を取得することがあります。 政策保有株式については、保有目的の適切性、保有することによるメリット・リスク、資本コスト等の観点から保有の適否を検証し、毎年取締役会において報告することとしております。 その結果、保有の意義が希薄と判断したものについては、縮減を検討していくこととしております。 なお、当事業年度においては、当社保有の政策保有株式のうち１銘柄の売却を実施しました（売却金額169百万円） ロ．銘柄数及び貸借対照表計上額 銘柄数（銘柄）貸借対照表計上額の合計額（百万円）非上場株式526非上場株式以外の株式52,853 （当事業年度において株式数が増加した銘柄）該当事項はありません。 （当事業年度において株式数が減少した銘柄） 銘柄数（銘柄）株式数の減少に係る売却価額の合計額（百万円）非上場株式－－非上場株式以外の株式1169 ハ．特定投資株式及びみなし保有株式の銘柄ごとの株式数、貸借対照表計上額等に関する情報 特定投資株式銘柄当事業年度前事業年度保有目的、業務提携等の概要、定量的な保有効果及び株式数が増加した理由当社の株式の保有の有無株式数（株）株式数（株）貸借対照表計上額（百万円）貸借対照表計上額（百万円）㈱オプトラン1,038,0001,038,000当社事業活動における取引関係維持のため無2,0972,515㈱三井住友フィナンシャルグループ45,39345,393資金調達などの財務面の安定化等のため無※487280㈱みずほフィナンシャルグループ69,00869,008資金調達などの財務面の安定化等のため無※232152三井住友トラスト・ホールディングス㈱10,2005,100資金調達などの財務面の安定化等のため無※3726㈱プロクレアホールディングス4747資金調達などの財務面の安定化等のため無※00日本トムソン㈱－288,000当社事業活動における取引関係維持のため保有しておりましたが、当事業年度に保有株式の全てを売却しております。 無－170（注）１．「－」は当該銘柄を保有していないことを示しております。 ２．保有株式に関する定量的な保有効果の算出は困難であり、保有の合理性の検証方法については次のとおりです。 当社は、政策保有株式については、保有目的の適切性、保有することによるメリット・リスク、資本コスト等の観点から保有の適否を検証し、毎年取締役会において報告することとしております。 ３．当社の株式の保有の有無が「無※」の会社は、銘柄に記載の会社自身は当社株式を保有しておりませんが、同社の子会社が当社株式を保有しております。 みなし保有株式 該当事項はありません。 ③保有目的が純投資目的である投資株式 該当事項はありません。 |
| 株式数が減少した銘柄数、非上場株式以外の株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 1 |
| 銘柄数、非上場株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 5 |
| 貸借対照表計上額、非上場株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 26,000,000 |
| 銘柄数、非上場株式以外の株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 5 |
| 貸借対照表計上額、非上場株式以外の株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 2,853,000,000 |
| 株式数の減少に係る売却価額の合計額、非上場株式以外の株式、保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式、提出会社 | 169,000,000 |
| 株式数、保有目的が純投資目的以外の目的である特定投資株式の明細、提出会社 | 47 |
| 貸借対照表計上額、保有目的が純投資目的以外の目的である特定投資株式の明細、提出会社 | 0 |
| 銘柄、保有目的が純投資目的以外の目的である特定投資株式の明細、提出会社 | 日本トムソン㈱ |
| 保有目的、業務提携等の概要、定量的な保有効果及び株式数が増加した理由、保有目的が純投資目的以外の目的である特定投資株式の明細、提出会社 | 当社事業活動における取引関係維持のため保有しておりましたが、当事業年度に保有株式の全てを売却しております。 |
| 当該株式の発行者による提出会社の株式の保有の有無、保有目的が純投資目的以外の目的である特定投資株式の明細、提出会社 | 無 |
Shareholders
| 大株主の状況 | （６）【大株主の状況】 （2024年６月30日現在） 氏名又は名称住所所有株式数（千株）発行済株式（自己株式を除く。）の総数に対する所有株式数の割合（％） 日本マスタートラスト信託銀行株式会社（信託口）東京都港区赤坂１丁目８番１号赤坂インターシティAIR6,48513.14 株式会社日本カストディ銀行（信託口、信託B口、信託口４、年金特金口、信託A口、年金信託口、金銭信託課税口）東京都中央区晴海１－８－124,7859.70 日本生命保険相互会社東京都千代田区丸の内１－６－６日本生命証券管理部内3,2426.57 BBH (LUX) FOR FIDELITY FUNDS-GLOBAL TECHNOLOGY POOL(常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行)2A RUE ALBERT BORSCHETTE LUXEMBOURG L－1246（東京都千代田区丸の内２－７－１ 決済事業部）2,9806.04 TAIYO FUND, L.P.（常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行）5300 CARILLON POINT KIRKLAND, WA 98033, USA（東京都千代田区丸の内２－７－１ 決済事業部）2,0714.20 JPモルガン証券株式会社東京都千代田区丸の内２－７－３東京ビルディング1,7913.63 SSBTC CLIENT OMNIBUS ACCOUNT（常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部）ONE CONGRESS STREET, SUITE 1, BOSTON,MASSACHUSETTS（東京都中央区日本橋３－11－１）1,6273.30 TAIYO HANEI FUND, L.P.（常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行）5300 CARILLON POINT KIRKLAND, WA 98033, USA（東京都千代田区丸の内２－７－１ 決済事業部）1,2922.62 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505001（常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部）P.O.BOX 351 BOSTON MASSACHUSETTS 02101 U.S.A.（東京都港区港南２－15－１ 品川インターシティA棟）1,2622.56 STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505038（常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部）HAMGATAN 12, S－10371 STOCKHOLM SWEDEN（東京都中央区日本橋３－11－１）1,2592.55計－26,79454.29（注）１． 株式会社日本カストディ銀行（信託口、信託B口、信託口４、年金特金口、信託A口、年金信託口、金銭信託課税口）の所有株式の内訳は、信託口が4,238,700株、信託B口が167,300株、信託口４が158,200株、年金特金口が132,500株、信託A口が60,200株、年金信託口が28,200株、金銭信託課税口が300株であります。 ２．下記の大量保有報告書（変更報告書を含む）が公衆の縦覧に供されておりますが、当社として2024年６月30日現在における実質所有株式数の確認ができない部分については、上記大株主の状況には含めておりません。大量保有者報告義務発生日保有株券等の数（株）株券等保有割合（％）タイヨウ・パシフィック・パートナーズ・エルピー2022年４月19日5,096,80010.33フィデリティ投信株式会社2024年２月29日4,099,4008.31ノムラインターナショナルピーエルシー他１社2024年３月15日2,016,0144.08三井住友信託銀行株式会社他２社2024年４月15日2,517,2605.10株式会社三井住友銀行他１社2024年４月15日1,735,9003.52 日本生命保険相互会社他１社2024年６月28日3,434,0486.96 |
| 株主数－金融機関 | 50 |
| 株主数－金融商品取引業者 | 27 |
| 株主数－外国法人等－個人 | 18 |
| 株主数－外国法人等－個人以外 | 310 |
| 株主数－個人その他 | 7,199 |
| 株主数－その他の法人 | 91 |
| 株主数－計 | 7,695 |
| 氏名又は名称、大株主の状況 | STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY 505038（常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部） |
| 株主総利回り | 3 |
| 株主総会決議による取得の状況 | （１）【株主総会決議による取得の状況】 該当事項はありません。 |
| 株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容 | （３）【株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容】 区分株式数（株）価額の総額（円）当事業年度における取得自己株式63611,055当期間における取得自己株式 （注）－－（注）当期間における取得自己株式には、2024年９月１日からこの有価証券報告書提出日までの単元未満株式の買取りによる株式は含まれておりません。 |
Shareholders2
| 自己株式の取得 | -1,000,000 |